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Fターム[4K022BA15]の内容

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Fターム[4K022BA15]に分類される特許

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【課題】成膜レートに変動を生じさせることなく、均一性の高い成膜処理を行なう。
【解決手段】成膜装置100は、被処理基板60に対向するように配置される二流体スプレーノズル10と、二流体スプレーノズル10に原料溶液24を供給する溶液供給手段20と、二流体スプレーノズル10に噴霧エア34を供給するエア供給手段30と、エア供給手段30と二流体スプレーノズル10との間に配置される噴霧エア流量調整手段40とを備え、原料溶液24および噴霧エア34が二流体スプレーノズル10の内部で混合された状態で二流体スプレーノズル10から被処理基板60に向かって微粒子化されて吹き付けられることにより被処理基板60に対して成膜処理が行なわれ、エア供給手段30からの噴霧エア34は、噴霧エア流量調整手段40によって所定の流量に調整された状態で二流体スプレーノズル10に供給される。 (もっと読む)


【課題】基板に対して高品位に成膜を行なうことができる噴霧法を利用した連続式の成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、成膜が行なわれる成膜室10と、成膜材料200を霧化させるスプレーノズル25と、成膜室10を横断するように設けられた搬送経路と、搬送経路上において基板100を移動させる搬送機構とを備える。成膜室10を規定する壁部には、スプレーノズル25にて霧化された成膜材料200を成膜室10に導入するとともに、導入した成膜材料200を成膜室10において搬送経路側に向けて噴霧するための噴霧口23aが設けられる。成膜室10を規定する壁部のうちの、搬送経路から見て噴霧口23a側に位置する部分には、第1排気口24aが設けられる。成膜室10を規定する壁部のうちの、搬送経路から見て噴霧口23a側とは反対側に位置する部分には、第2排気口8aが設けられる。 (もっと読む)


【課題】パーティクルの発生を抑制して成膜される膜の品質を安定させる。
【解決手段】筐体150と、筐体150の内部に成膜材料160を微粒子化して噴霧する噴霧口130aを有する噴霧機構と、噴霧口130aと間隙133を介して対向する流入口132a、および流入口132aとは反対側に位置する流出口132bを有する整流部材132とを備える。整流部材132の流入口132aと流出口132bとの間の空間と、筺体150の内部とは間隙133により連通している。 (もっと読む)


【課題】賦形された無機薄膜、パターン化無機薄膜を形成するためのインプリント用組成物であって、凹凸の転写性に優れ、且つ、焼成による凹凸(パターン)の崩れを抑制できるインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】本発明のインプリント用組成物は、樹脂製の型を用いて無機薄膜を形成するためのインプリント用組成物であって、金属酸化物粒子と金属酸化物前駆体とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板上に複数の膜を連続して高品質に成膜できる。
【解決手段】複数の成膜室100の各々は、筐体150と、この筐体150内に成膜材料160を微粒子化したミストを噴霧するスプレーノズル130とを有する。筐体150は、1つの側壁に位置して排気手段と接続される排気口152を有し、かつ、複数の成膜室100を順次通過する基板200と対向する開放部を加熱炉120内に有する。上記ミストは、複数の成膜室100の各々において、スプレーノズル130から開放部を通過して排気口152に向けて流動する。排気手段による排気口152からの排気流量は、筺体150内への流入流量より大きい。 (もっと読む)


【課題】従来技術の欠点が解消され、電極上で使用する際、例えば塩素アルカリ電解において塩素を発生させるために低い過電圧を可能にする、酸化ルテニウムおよび酸化チタンに基づく電気触媒活性成分を含んでなる改良された触媒被膜を提供する。
【解決手段】酸化ルテニウムおよび酸化チタンに基づく電気触媒活性成分および任意に1種以上のドーピング金属元素を含んでなる触媒被膜であって、酸化ルテニウムおよび酸化チタンがルチル型のRuOおよびTiOとして主に存在し、RuOおよびTiOが混合酸化物相として主に存在している触媒被膜。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性にすぐれた表面被覆切削工具の製造方法を提供する。
【解決手段】工具基体の少なくとも最表面に、0.05〜5μmの膜厚を有し、コランダム型のαアルミナ構造の酸化アルミニウム層を被覆形成する表面被覆切削工具の製造方法において、上記酸化アルミニウム層は、アルミニウムのアルコキシドにアルコール(好ましくは、平均粒径10〜300nmのαアルミナ粒子を含有する)を添加し、さらに酸(例えば、希塩酸)を添加した後、10℃以下の低温にて攪拌してゾルを生成させ、該ゾル中に含まれるアルミニウムと水のモル比が1:30〜1:150になるようにゾルに水を添加した後、15〜80℃の温度にて加熱・攪拌する高結晶化処理を施し、該高結晶化処理を施したゾルを上記工具基体表面へ、あるいは、表面上に形成した硬質皮膜の表面に塗布し、引き続き、乾燥処理を1回以上行い、次いで、500〜1000℃の温度範囲で焼成処理を行う。 (もっと読む)


【課題】 被めっき物の表面に、投入した反応液中の金属イオン濃度比からずれていない組成比を備えたフェライトめっき膜を析出する。
【解決手段】 めっき槽4と、2価の鉄イオン、または、2価の鉄イオンと鉄以外の2価の金属イオンを含む反応2液と、被めっき物1とを準備する工程と、めっき槽に、純水5および反応液2の少なくとも一方と、被めっき物1とを投入し、被めっき物の表面にフェライトめっき膜(図示せず)を析出させる工程とを備え、被めっき物1の表面にフェライトめっき膜を析出させる工程において、めっき槽4内の液体9の液面と被めっき物1との距離を一定に保つようにした。 (もっと読む)


【課題】基板上に複数の膜を連続して高品質に成膜する。
【解決手段】基板200を搬送経路に沿って搬送する搬送コンベア110と、搬送経路中に並ぶように位置する複数の成膜室100と、複数の成膜室100のうち隣接する成膜室同士を繋ぐように搬送経路に沿ってトンネル状に位置し、複数の成膜室100を順次通過する基板200を取り囲んで加熱する加熱炉120とを備える。複数の成膜室100の各々は、筐体と、この筐体内に成膜材料を微粒子化した成膜ガスを噴霧する噴霧機構と、筐体の1つの側壁に位置して成膜ガスを排気するための排気口152とを有する。筐体は、複数の成膜室100を順次通過する基板200と対向する開放部を加熱炉120内に有する。成膜ガスは、複数の成膜室100の各々において、噴霧機構から開放部を通過して排気口152に向けて流動する。複数の成膜室100のうち互いに隣接する成膜室の少なくとも1対の成膜室同士においては、互いの排気口152同士が対向している。 (もっと読む)


【課題】本発明は、陽極箔の静電容量を向上し、漏れ電流を低減した電解コンデンサ用陽極箔を提供することを目的とするものである。
【解決手段】アルミニウム箔10の表面に誘電体酸化皮膜層11が形成された電解コンデンサ用陽極箔であって、前記誘電体酸化皮膜層11が、アルミニウム箔の表面から順に酸化アルミニウム皮膜12、酸化アルミニウムよりも誘電率の高い高誘電率酸化皮膜13、リン酸根を含む酸化アルミニウム皮膜14を形成した電解コンデンサ用陽極箔とすることにより、静電容量を向上し、漏れ電流を低減した電解コンデンサ用陽極箔を提供することができる。また、電解コンデンサ用陽極箔をアルミ電解コンデンサに用いることにより、コンデンサ特性(静電容量、漏れ電流、ESR)を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】耐水性、耐アルカリ性、耐熱性に優れた熱変色防止膜をステンレス鋼材の表面に形成することができるステンレス鋼材の熱変色防止膜形成用塗布液、及び、この塗布液を用いてステンレス鋼材の熱変色を防止することができるステンレス鋼材の熱変色防止方法を提供する。
【解決手段】本発明のステンレス鋼材の熱変色防止膜形成用塗布液は、ケイ素アルコキシド、ケイ素アルコキシド加水分解物、オルガノアルコキシシラン及びオルガノアルコキシシラン加水分解物の群から選択される1種または2種以上のケイ素成分と、ジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド加水分解物のキレート化合物からなるジルコニウム成分と、溶媒とを含有している。 (もっと読む)


【課題】太陽電池の光電変換層にて吸収される波長領域において、高い光閉じ込め効果を有する凹凸形状を備え、かつ低抵抗で高透過率な透明導電膜付き基体を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜付き基体は、基体と、該基体上に成膜された酸化物薄膜とを有し、該透明導電膜は、基体側から順に、第1の透明性酸化物薄膜および第2の透明性酸化物薄膜を有し、第2の透明性酸化物薄膜は、第1の透明性酸化物薄膜とは結晶構造が異なり、基体と第1の透明性酸化物薄膜の結晶粒表面とのなす角度は、基体と第2の透明性酸化物薄膜の結晶粒表面とのなす角度と異なることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ゾル−ゲル法に基づいた、特に塩素製造用陽極のための、電極用触媒層の簡単かつ汎用的な製造方法を、先行技術の欠点を解消しつつ開発する。
【解決手段】導電性基材および触媒活性層を含んでなる電極であって、触媒活性層が2種の触媒活性成分に基づき、金属酸化物または混合酸化物または酸化物混合物としてイリジウム、ルテニウムまたはチタンを含んでなり、元素イリジウム、ルテニウムおよびチタンの和に基づいたルテニウムおよび/またはイリジウムの総含量が少なくとも10mol%であり、電極が導電性基材に適用された、NaClおよび/またはNaOHおよび/またはHCl含有水性電解液を透過しない少なくとも1つの酸化物基層を含んでなる、電極。 (もっと読む)


【課題】大気圧またはその近傍の圧力下での成膜により、ガラス基板上に、導電性および透明性に優れた酸化チタンを主成分とする透明導電膜を形成する方法の提供。
【解決手段】大気圧またはその近傍の圧力において、有機ニオブ化合物および有機チタン化合物を、気体として、または、微小液滴として、450℃以上の温度のガラス基板に吹き付けることにより、ニオブがドープされた酸化チタンからなる膜を前記ガラス基板上に形成する工程、および、酸化性ガス濃度10vol%以下、かつ、還元性ガス濃度4vol%以下の雰囲気中で、前記ガラス基板の温度が350℃以下となるまで冷却する工程をこの順に実施することを特徴とする、ニオブがドープされた酸化チタンからなる透明導電膜をガラス基板に形成する方法。 (もっと読む)


【課題】有機金属化合物液と燃焼ガスとを霧状に混合し噴射させながらその燃焼炎を基材に吹き付ける基材の表面改質方法を提供する。
【解決手段】燃焼炎を介して、基材の表面に均一なナノレベルの親水基層(酸化ケイ素膜等)が形成される。この親水基層の形成された基材の表面へプライマー処理をした場合と同様な密着力を実現し、プライマー塗布工程が不要となるため、基材の改質処理が簡略化し、ひいては、基材へ接着(接着剤・両面テープ等)、印刷、塗装等を施す作業の能率を向上させることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板における局所的な温度差を解消し、基板の割れや金属酸化膜のクラックを防止する金属酸化膜を生産する製膜装置を提供する。
【解決手段】基板の全面を加熱する主加熱手段1と、金属酸化物前躯体を含む溶液を霧化して液滴微粒子とする霧化部と、前記液滴微粒子を含むガスを前記基板の所定の領域に吹きつけるノズル4と、液滴微粒子を含む前記ガスを吹きつける前記所定の領域を選択的に加熱する補助加熱手段3を備る金属酸化膜を生産する製膜装置。 (もっと読む)


【課題】高密度のミストを搬送した場合にも、安定して均一な膜厚の金属酸化物薄膜を成膜することができる金属酸化物薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の金属酸化物薄膜の製造方法は、原料溶液を噴霧させることにより、ミストを発生させるステップと、該ミストを搬送する搬送ガスを加熱する第1加熱ステップと、該第1加熱ステップよりも高い温度にミストを加熱する第2加熱ステップと、該第2加熱ステップで加熱されたミストを基板上に供給することにより、該基板上に被成膜物を形成するステップと、該被成膜物を第2加熱ステップよりも高い温度に加熱する第3加熱ステップとを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】被めっき物の表面に対し、微粒子を分散含有する黒色複合めっき皮膜を良好に形成する。
【解決手段】ニッケル塩、次亜リン酸またはその浴可溶性の塩、硫黄含有化合物およびPTFE微粒子を含む無電解ニッケルめっき浴を用いてPTFE複合めっき皮膜10を焼き網2の表面に形成した後、そのPTFE複合めっき皮膜10の表層部を、塩化第二鉄および塩酸を含む黒化処理剤により黒化処理して均一な黒色複合めっき皮膜が得られる。また、本実施形態では、複合めっき皮膜10全体に黒化処理を施すのではなく、複合めっき皮膜10の表層部のみを黒化処理しているため、スス状剥がれを防止しながら均一な黒色を有する黒色PTFE複合めっき皮膜が得られる。 (もっと読む)


【課題】塩素発生に対して優れた電気触媒活性を示す電極を提供する。
【解決手段】チタン、タンタルまたはニオブを主要割合として有するバルブメタルに基づく電気伝導性基板、ならびに50mol%までの貴金属酸化物もしくは貴金属混合酸化物および少なくとも50mol%の酸化チタンを含んで成る電気触媒的に活性なコーティングを含んで成る電極であり、該コーティングはX線回折図(Cu照射)において、線形バックグラウンドを差引いた後の最も強いアナターゼ反射の信号高さの、同じ回折図における最も強いルチル反射の信号高さに対する比率によって決定される最小割合のアナターゼ構造の酸化物を含んで成り、該比率は少なくとも0.6である。 (もっと読む)


【課題】基材上に金属化合物の薄膜をより低い温度で形成可能な製造方法を提供する。
【解決手段】熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂から形成される合成樹脂製部材の基材上に金属化合物の薄膜を形成する方法は、薄膜形成用材料を含むゾルを用意することS10、ゾルを基材上に塗布することS20、ゾルが塗布された基材を配置した反応容器内にプラズマ源ガスを導入すること、ガスをプラズマ化することS30、プラズマの作用によりゾル由来の薄膜を基材上に形成。 (もっと読む)


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