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Fターム[4K022DA07]の内容

化学的被覆 (24,530) | 被膜反応 (2,044) | 化成反応 (4)

Fターム[4K022DA07]に分類される特許

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【課題】本発明の課題は、特に、沸騰水型原子力発電プラントに適用するのに好適な部材へのフェライト皮膜形成し、皮膜形成後皮膜表面を酸化処理する方法とその装置を実現することである。
【解決手段】原子力プラントの構成部材に皮膜形成装置を接続する(ステップS1)。再循環系配管に接続された、皮膜形成装置の循環配管に、pH調整剤(ステップS4),鉄(II)イオンを含む薬剤(ステップS5),鉄(II)イオンの一部を鉄(III)イオンに酸化する酸化剤(ステップS6)の順で注入する。pH調整剤を含む皮膜形成液に鉄(II)イオンを含む薬剤及び酸化剤を含む薬剤を注入し、再循環系配管に供給する。
フェライト皮膜がその内面に形成される。皮膜形成に用いた溶液を分解する(ステップS8)。分解後の皮膜形成液に酸化剤を導入し皮膜表面を酸化処理する(ステップS9)。 (もっと読む)


【課題】 めっき、レジスト層形成といった煩雑な方法を用いることなく、連続発泡性成形物の表面およびその内部の連通気孔表面の所望部分に、膜厚がほぼ均一な金属層を選択的に形成する。
【解決手段】 ケイ素含有重合体の遷移金属塩に対する還元性を利用する。すなわち、連続発泡性成形物の表面およびその内部の連通気孔表面にケイ素含有重合体層を形成し、金属層の形成予定部分以外のケイ素含有重合体層に紫外線を照射した後、ケイ素含有重合体層に、カウンターアニオンがケイ素含有重合体のケイ素原子に配位し得る遷移金属塩を含む溶液または懸濁液を接触させ、紫外線非照射部分に選択的に金属層を形成する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、透明性、緻密性、密着性等に優れた金属酸化物膜を得ることができる金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】 本発明は、スプレー装置により、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を霧化し、霧化された上記金属酸化物膜形成用溶液と、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材とを接触させることにより、上記基材上に金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記スプレー装置が、上記金属酸化物膜形成用溶液を霧化するためにエアーを使用しない方式の装置であることを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】初期摺動特性等の諸特性が改善された無電解ニッケルめっき膜を提供すること。
【解決手段】表面にリン酸塩被膜を有する無電解ニッケルめっき膜の形成方法。硫黄含有化合物を含む無電解ニッケルめっき浴に被めっき物を所定時間浸漬して無電解ニッケルめっき膜を形成し、次いで、前記無電解ニッケルめっき膜をリン酸塩溶液と接触させることにより前記無電解ニッケルめっき膜上にリン酸塩被膜を形成する。表面にリン酸塩被膜を有することを特徴とするニッケル合金めっき膜。 (もっと読む)


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