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Fターム[4K022DB01]の内容

化学的被覆 (24,530) | 被覆手段 (3,746) | 液組成 (2,225)

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【課題】内部の粒子の露出を十分に低減することが可能な被覆粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】粒子と該粒子を被覆する金属膜とを有する被覆粒子の製造方法であって、超臨界又は亜臨界状態の二酸化炭素及び該二酸化炭素に溶解した金属錯体を含む分散媒と、該分散媒の中に粒子と、を含有する流体を得る工程と、流体の圧力を下げて、粒子の表面に金属錯体を析出させる工程と、流体の温度を上げて、粒子の表面に析出させた金属錯体を分解し、粒子の表面を金属膜で被覆して被覆粒子を得る工程と、を有する、被覆粒子の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】電気化学反応を用いて、金属を析出させるために効果的な有機物質を含んでいても該物質を酸化分解させることなく陽極として使用できる電解用電極、ハロゲン塩や不純物を含む電解液を用いても電解オゾンや酸素、水素を優先的に生成させるための電解用電極を提供することを目的とする。
【解決手段】弁金属基体上に形成された白金族金属及び/またはその酸化物を含む触媒層とを有する電解用電極において、触媒層上に、金属−酸素結合による架橋構造中に金属−有機官能基を有する連続細孔構造である多孔質体層がゾルゲル法により形成されていることを特徴とする電解用電極。 (もっと読む)


【課題】銅の高原子価化合物から金属銅膜を製造する組成物、金属銅膜の製造方法、および金属銅膜を提供する。
【解決手段】銅化合物;直鎖、分岐または環状の炭素数1から18のアルコール類;VIII族金属触媒;バインダー樹脂;バインダー樹脂硬化剤および銅錯体から成る銅含有組成物を被膜とし、不活性ガス;水素、または、不活性ガスと水素の混合ガス中で、加熱して金属銅膜を製造する。
また、銅化合物;直鎖、分岐または環状の炭素数1から18のアルコール類;VIII族金属触媒;バインダー樹脂;バインダー樹脂硬化剤;銅錯体およびレオロジー調整剤から成る銅含有組成物を被膜とし、不活性ガス;水素、または、不活性ガスと水素の混合ガス中で、加熱して金属銅膜を製造する。 (もっと読む)


【課題】無電解スズめっき液から不純物、特に銅濃度を減少させることにより、めっき液を再生する方法、めっき液の管理方法、及びこれを用いためっき方法を提供する。
【解決手段】チオ尿素又はチオ尿素化合物を含有する無電解スズめっき液に有機スルホン酸もしくは有機スルホン酸化合物又はこれらの塩を添加し、添加後のめっき液を冷却して析出物を生成させることにより、めっき液中から不純物を除去する。 (もっと読む)


【課題】微量な粘性流体の安定した供給を可能とする。
【解決手段】先端が吐出口7である細く長い孔9を備えたノズル本体3を備え、粘性液体供給装置に用いられて吐出口7から接着剤を吐出させる粘性液体供給ノズル1を、潤滑性メッキ液を収容したメッキ槽内に浸して無電解メッキを行い、少なくとも吐出口7内外に潤滑性メッキ層11を形成し、又は、ノズル本体3の基端に広口部5を備え、潤滑性メッキ液を収容したメッキ槽内に浸して広口部5に前記潤滑性メッキ液を収容し、広口部5から潤滑性メッキ液を加圧又は重力によりノズル本体3の細く長い孔に流通させて吐出口7から吐出させ少なくとも吐出口7内外に潤滑性メッキ層11を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】めっき液の組成を簡便に制御可能な無電解めっき装置及び方法を提供する。
【解決手段】めっき槽2と、めっき槽2から抜き取っためっき液に金属のイオンを補給する金属溶解槽30、31と、金属溶解槽30、31から送られた液に含まれる溶存酸素の濃度を低下させて曝気液を生成する曝気槽4とを含む無電解金属めっき装置1を用い、めっき槽2から抜き取っためっき液を金属溶解槽30、31に送るめっき液搬送部と、高濃度化しためっき液を金属溶解槽30、31から曝気槽4に送る高濃度化めっき液搬送部と、曝気槽4からめっき槽2に曝気液を送る曝気液搬送部と、めっき液に酸素を溶解する酸素富化ガス供給部60、61とを備え、金属溶解槽30、31は、槽内に内包させる金属を配置・取り出し可能とする。イオンの溶解量を調節可能とし、酸素富化ガス供給部60、61は、金属溶解槽30、31又はめっき液搬送部に付設されている。 (もっと読む)


【課題】無電解白金めっき液を利用することにより、ネックレスやブローチ等の装飾品、電子回路など電気部品として有用な白金めっき製品を、環境汚染を惹起せず、安全かつ効率的に製造することができる。また、無電解白金めっき液により、50nm以下の薄いめっき膜を得ることが可能であり、少量の白金により、装飾性や導電性を付与することが可能である。さらに、無電解白金めっき液から得られるめっき膜の構造は、粒径が約3〜5nmの白金微粒子の集合体であり、大きな比表面積を有するため、触媒の活性を高めることができる。
【解決手段】本発明に係る白金めっき製品の製造方法は、基材を用意する工程と、基材上に無電解めっき用触媒を付着させる工程と、触媒を付着させた基材を上記の無電解白金めっき液に浸漬させる工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】Liイオン電池のアノード材料として、ピラーを形成するためのシリコンのエッチングプロセスを提供する。
【解決手段】銀を堆積したエッチングされたシリコン粒子に存在する銀は硝酸処理により除かれる。ひとつの実施態様においては、粒状又はバルク材料のシリコンを、HF、Agイオン及び硝酸イオンを含むエッチング溶液で処理し、それによりシリコンをエッチングして表面にエッチングされたピラーを含むシリコンとし、前記シリコンは銀の表面堆積を含み、前記エッチングされたシリコンを使用済みエッチング溶液から分離し、前記エッチングされたシリコンを、硝酸を用いて前記エッチングされたシリコンから銀を溶解してAgイオンと硝酸イオンを含む溶液を形成し、Agイオンと硝酸イオンを含む前記溶液とさらにHFを混合してさらにエッチング溶液を形成し、前記さらなるエッチング溶液をさらにシリコンを処理するために使用する。 (もっと読む)


【課題】プリント回路板のスルーホールの金属化のためのスズを含まない安定なパラジウム触媒組成物を提供する。
【解決手段】ナノ粒子の形態のパラジウム粒子、パラジウムの沈殿および凝集を妨げる安定化剤であるグルタチオンおよびパラジウムイオンを金属に還元するための還元剤を含有する組成物。 (もっと読む)


【課題】拡散透析法を用いることによりニッケル及びキレート剤等有用成分のロスを防止し、酸排出量を減らすと共にランニングコストの低いめっき液の再生方法を提供する。
【解決手段】ニッケルイオン(Ni2+)を含有する次亜リン酸水溶液を主成分とする無電解ニッケルめっき液を原液とした無電解めっきにおける副生物を含有した老化液を再生する方法であり、老化液に含まれる亜リン酸ナトリウム及び硫酸ナトリウムのNaイオンをHイオンに置換して亜リン酸及び硫酸に変換し、次に拡散透析膜3により前記亜リン酸および硫酸をめっき液から分離することにより無電解ニッケルめっき液を再生する。 (もっと読む)


【課題】ゾル−ゲル法に基づいた、特に塩素製造用陽極のための、電極用触媒層の簡単かつ汎用的な製造方法を、先行技術の欠点を解消しつつ開発する。
【解決手段】導電性基材および触媒活性層を含んでなる電極であって、触媒活性層が2種の触媒活性成分に基づき、金属酸化物または混合酸化物または酸化物混合物としてイリジウム、ルテニウムまたはチタンを含んでなり、元素イリジウム、ルテニウムおよびチタンの和に基づいたルテニウムおよび/またはイリジウムの総含量が少なくとも10mol%であり、電極が導電性基材に適用された、NaClおよび/またはNaOHおよび/またはHCl含有水性電解液を透過しない少なくとも1つの酸化物基層を含んでなる、電極。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ダイヤモンド微粒子及びフッ素樹脂微粒子を均一に分散・共析させた複合めっき被膜の形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】親水性ポリマー又はイオン性官能基が導入された平均粒径10nm〜300nmのダイヤモンド微粒子、平均粒径100nm〜300nmのフッ素樹脂微粒子及び界面活性剤を金属めっき液に添加した複合めっき液を基材表面に接触させて、ダイヤモンド微粒子及びフッ素樹脂微粒子を金属マトリクス中に均一に分散させた複合めっき被膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】皮膜応力が低いニッケルめっき皮膜を形成することが可能な無電解ニッケルめっき浴および該めっき浴を用いた無電解ニッケルめっき法を提供すること。
【解決手段】安定剤として金属アンチモンまたはアンチモン化合物を含み、かつ錯化剤としてリンゴ酸または乳酸とコハク酸とを所定比で含む無電解ニッケル浴を用いることにより、皮膜応力が低いめっき皮膜が形成可能である。 (もっと読む)


【課題】有機金属化合物液と燃焼ガスとを霧状に混合し噴射させながらその燃焼炎を基材に吹き付ける基材の表面改質方法を提供する。
【解決手段】燃焼炎を介して、基材の表面に均一なナノレベルの親水基層(酸化ケイ素膜等)が形成される。この親水基層の形成された基材の表面へプライマー処理をした場合と同様な密着力を実現し、プライマー塗布工程が不要となるため、基材の改質処理が簡略化し、ひいては、基材へ接着(接着剤・両面テープ等)、印刷、塗装等を施す作業の能率を向上させることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 シアン化合物を含まない還元型の無電解銀めっき液において、液安定性の優れた還元型無電解銀めっき液を提供する。
【解決手段】 還元型無電解銀めっき液は、水溶性銀化合物と、還元剤と、下記一般式(1)で表される化合物を液安定剤として含有してなる。ここで、一般式(1)で表される化合物としては、Cas番号68603−67−8の化合物であることが好ましい。
【化1】


(式中、Rはアルキル基又はアリール基を表し、m及びnはそれぞれ1〜3の整数である。) (もっと読む)


【課題】インクジェット記録装置上における放置回復性に優れ、かつエッチング耐性が高く、得られるパターン形状の精度を向上することができる金属膜材料の製造方法、及びこれを用いた金属膜材料を提供すること。
【解決手段】インクジェット法によるインク付与工程と、インク組成物に露光、又は加熱の少なくともいずれかを行い、硬化膜を形成する硬化膜形成工程と、硬化膜にめっき触媒、又はその前駆体を付与する触媒付与工程と、めっき触媒、又はその前駆体にめっきを行うめっき処理工程とを含み、インク組成物は、シアノ基、アルキルオキシ基、アミノ基、ピリジン残基、ピロリドン残基、イミダゾール残基、アルキルスルファニル基、又は環状エーテル残基、を有する第1のモノマーと、多官能性を有する第2のモノマーと、重合開始剤とを含み、前記インク組成物中におけるモノマーの合計含有量が85質量%以上である金属膜材料の製造方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】相変化物質などの水溶性物質を包含するカプセル状粒子に無電解めっきする方法を提供すること。
【解決手段】炭化水素溶媒およびハロゲン化炭化水素溶媒から選択される少なくとも1種と、アルコール溶媒およびエーテル溶媒から選択される少なくとも1種とを含む溶媒中、金属前駆体と有機酸系還元剤の存在下、水溶性物質を包含するカプセル状粒子表面に無電解めっきを行う。好ましくは、無電解めっきは2段階で行う。 (もっと読む)


【課題】金属材料を被めっき部分として含む被処理物に無電解めっき皮膜を形成するための新規な活性化処理方法を提供する。
【解決手段】下記(1)及び(2)に記載の二段階の工程で処理することを特徴とする、無電解めっきの前処理方法:(1)(i)パラジウム化合物、並びに(ii)アルカリ金属、アルカリ土類金属のハロゲン化物、、アルカリ金属、アルカリ土類金属の硫酸塩からなる群から選ばれた少なくとも一種を含有する水溶液に接触させる第一活性化処理工程:(2)(i)パラジウム化合物、(ii)アルカリ金属、アルカリ土類金属のハロゲン化物、アルカリ金属、アルカリ土類金属の硫酸塩からなる群から選ばれた少なくとも一種の成分、並びにポリアミンの架橋化物からなる群から選ばれた少なくとも一種を含有する水溶液からなる活性化液に、第一活性化処理工程で処理された被処理物を接触させる第二活性化処理工程。 (もっと読む)


【課題】ニッケル層、パラジウム層、金層を順次積層してなる接合部を形成する際に、均一な膜厚を実現できる置換金めっき液及びめっき処理技術を提供する。
【解決手段】導電性金属からなる導体層上に、ニッケル層、パラジウム層、金層を順次積層してなる接合部を形成するための置換金めっき液であって、置換金めっき液は、シアン化金塩、錯化剤、銅化合物を含有するものであり、置換金めっき液中の錯化剤と銅化合物とのモル比が錯化剤/銅イオン=1.0〜500の範囲であり、錯化剤と銅化合物とから形成される化合物のpH4〜6における安定度定数が8.5以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】処理雰囲気を適切に制御しつつ、金属混合液を用いて基板上に金属膜を適切に形成する。
【解決手段】金属膜形成装置1の処理容器10の内部は、不活性ガスの大気圧雰囲気又は減圧雰囲気に切り換え可能になっている。処理容器10の内部には、ウェハWを保持するスピンチャック20と、ウェハWの側方を囲むように設けられたカップ体31と、ウェハW上に金属混合液を吐出する塗布ノズル60と、ノズル駆動部65の動力を塗布ノズル60に伝達するノズル伝達部64と、塗布ノズル60を待機させるノズルバス66とが設けられている。処理容器10の外部には、水平方向より所定の角度で傾斜した方向に沿って、スピンチャック20とノズルバス66との間で塗布ノズル60を移動させるためのノズル駆動部65が設けられている。 (もっと読む)


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