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Fターム[4K023AA11]の内容

Fターム[4K023AA11]に分類される特許

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【課題】低挿抜性、低ウィスカ性及び高耐久性を有する電子部品用金属材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材11と、基材11の最表層を構成し、Sn,In,またはそれらの合金で形成されたA層14と、基材11とA層14との間に設けられて中層を構成し、Ag,Au,Pt,Pd,Ru,Rh,Os,Ir,またはそれらの合金で形成されたB層13と、を備え、最表層(A層)14の厚みが0.2μmよりも厚く、中層(B層)13の厚みが0.001μm以上である電子部品用金属材料10。 (もっと読む)


【課題】細かい金属(蒸着)箔の散布による独特の装飾効果を、半永久的に発揮し得る装飾金属製品を提供する。
【解決手段】ステンレス鋼や鉄、その他の金属基材(M)の表面へ、黒色クロムメッキ処理やレイデント処理、その他の電気分解による多孔質の黒色化成被膜(10)を形成し、その後上記黒色化成被膜(10)の表面へ下塗り膜(11)と、その下塗り膜(11)の表面へ有彩色の中塗り膜(12)とを各々塗工して、上記中塗り膜(12)が乾燥固化する前に、その表面へ散布した鱗片状又は鱗粉状の金属箔(13)を、その中塗り膜(12)の焼成によって定着一体化させる。 (もっと読む)


【課題】3価クロムめっき浴を用いてバレルめっき法によってクロムめっき皮膜を形成する際に、良好な外観を有し、且つ耐食性にも優れたクロムめっき皮膜を形成できる新規なめっき方法を提供する。
【解決手段】バレルめっき法によって半光沢ニッケルめっき及び光沢ニッケルめっきを順次行った後、3価クロム化合物を含む3価クロムめっき浴を用いてバレルめっき法によってクロムめっきを行うことを特徴とするクロムめっき方法。 (もっと読む)


【課題】長期間にわたり保存しても六価のクロムの生成が抑制された水酸化クロムスラリーを提供すること。
【解決手段】本発明の水酸化クロムスラリーは、ポリフェノール類を含有することを特徴とする。ポリフェノール類は0.05〜0.5重量%含有されることが好適である。ポリフェノール類としては、ポリヒドロキシベンゼン類を用いることが好適である。あるいはカテキン等の植物由来のポリフェノール類を用いることも好適である。水酸化クロムスラリーはそのpHが6〜11であることが好適である。 (もっと読む)


【課題】炭素共析型電気Crめっき膜をアンダーコートとしてその上に積層される高品質DLC膜の密着性を向上させること、とくに膨れ現象を発生させることのないDLC膜被覆部材とそれの製造方法を提供する。
【解決手段】金属製基材と、その表面に被覆形成された、被熱処理炭素共析型電気クロムめっき膜と、その被熱処理炭素共析型電気クロムめっき膜表面に被覆形成されたDLC膜とからなるDLC膜被覆部材およびその部材の製造方法。 (もっと読む)


【解決手段】3価クロム化合物と6価クロム化合物とを、3価クロムと6価クロムとの合計クロム濃度が60〜140g/Lであり、6価クロム濃度が5〜40g/Lであると共に、6価クロム濃度の割合が合計クロム濃度の5〜35質量%である割合で含み、かつ有機カルボン酸イオンを50〜400g/L含み、鉛イオン濃度が2mg/L以下である酸性の電気クロムめっき浴に被めっき物を浸漬し、陽極として酸化イリジウム含有膜を少なくとも表面に有する陽極を用いて電解することを特徴とするクロムめっき方法。
【効果】本発明によれば、長期に亘り安定して良好なクロムめっき皮膜が得られ、めっき浴の管理も非常に容易である。 (もっと読む)


【課題】従来の3価クロムめっき浴の問題点を解消して、工業用として有効に利用できる新規な3価クロムめっき浴を提供する。
【解決手段】
水溶性3価クロム化合物、伝導性塩及びpH緩衝剤を含有する水溶液からなり、該水溶液中の3価クロムイオンの濃度が0.003〜0.12モル/Lであることを特徴とする3価クロムめっき浴、
該3価クロムめっき浴中において被めっき物を陰極としてクロムめっき皮膜を形成した後、3価クロムイオンの錯化剤を含む水洗水中で該被めっき物の水洗処理を行う工程を含むクロムめっき方法、及び
該3価クロムめっき浴を用いて形成されたクロムめっき皮膜を有する物品。 (もっと読む)


【課題】 実用的な大きさの被めっき物にクロムめっきを施した場合であっても、めっき液の温度が上昇し過ぎることなく、数マイクロメートル以上のクロムめっきを施すことができる3価クロムめっき液、さらには、スルファミン酸クロム溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】 スルファミン酸クロムと、クエン酸カリウムと、硫酸アンモニウムとを含んでなることを特徴とする3価クロムめっき液により課題を解決し、スルファミン酸を水に溶かしたスルファミン酸水溶液に、粒径0.001mm以上5mm以下のクロム金属粉を加えて、35〜65℃に保ちながら攪拌して、スルファミン酸とクロム金属を反応させてなることを特徴とするスルファミン酸クロム溶液の製造方法などにより課題を解決した。 (もっと読む)


本発明は、(1)水溶性三価クロム塩;(2)三価クロムイオン用の少なくとも1つの錯化剤;(3)pHを2.8〜4.2にするのに十分な水素イオン源;(4)pH緩衝化合物;及び(5)硫黄含有有機化合物を含むクロム電解めっき溶液を含むクロム電解めっき溶液からなる。前記クロム電解めっき溶液は、装飾物品に接着性金属コーティングを施す方法で使用可能であり、前記コーティングは、塩化カルシウム含有環境における耐食性が強化されている。 (もっと読む)


【課題】従来と比較してより耐食性に優れた3価クロムめっき皮膜を形成できる新規な3価クロムめっき浴を提供する。
【解決手段】水溶性3価クロム化合物、伝導性塩、pH緩衝剤、硫黄含有化合物及びアミノカルボン酸類を含有する水溶液からなる3価クロムめっき浴、
該3価クロムめっき浴中において被めっき物を陰極として電解処理を行うことを特徴とするクロムめっき方法、及び
該3価クロムめっき浴を用いて形成されたクロムめっき皮膜を有する物品。 (もっと読む)


【解決手段】(A)クロム酸と有機酸とを、これらを含む水溶液中で混合し、上記有機酸によりクロム酸を還元して、6価のクロムイオンを含まない水溶液を調製する工程、(B)上記6価のクロムイオンを含まない水溶液に、pH調整剤を添加して、pHを1〜4に調整する工程、(C)更に、pH調整後の上記6価のクロムイオンを含まない水溶液に、クロム酸を添加して、3価のクロムイオンと6価のクロムイオンとを含有する水溶液を調製する工程を含む方法により、3価のクロムイオンと6価のクロムイオンとを含有するクロムめっき浴を製造する。
【効果】3価のクロムイオンと6価のクロムイオンとの含有量(含有比)を所定の値に容易に、かつ確実に調整して、3価のクロムイオン及び6価のクロムイオンの双方を含有するクロムめっき浴を製造することができる。 (もっと読む)


金属クロムを基板にめっきするめっき方法が開示される。方法は、硫酸塩及び/又はスルホン酸塩マトリクスを含む三価クロムめっき浴を使用する。方法は、また、不溶性陽極を利用する。マンガンイオンをめっき浴に添加することで、めっき浴を使用する際に有害な六価クロムイオンの形成を阻止する。 (もっと読む)


【課題】優れた外観、耐食性、耐磨耗性を有するめっき皮膜構造および工業的に使用可能な処理工程を提供すること。
【解決手段】以下の工程を包含する方法により、成形品の表面にめっきを処理するめっき成形品の製造方法:(a)成形品表面に、光沢硫酸銅めっきによって銅めっき皮膜を形成する工程、(b)該銅めっき皮膜の表面に3価クロムめっきを行い第1のクロムめっき皮膜を形成する工程、(c)該第1のクロムめっき皮膜の表面に、6価クロムめっきを行い、第2のクロムめっき皮膜を形成する工程。 (もっと読む)


【解決手段】基板表面に金属あるいは合金のつや消し層の堆積のための電解質組成物であって次ぎを含む:
次ぎの金属あるいは合金を堆積するためのV、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Ag、In、Sn、Sb、Te、Re、Pt、Au、Tl、Bi、およびこれらの組み合わせからなる群から選ばれる堆積金属イオン;
ナトリウム、カリウム、アルミニウム、マグネシウム、あるいはホウ素からなる群の元素の少なくとも1つのハロゲン化物、硫酸塩、あるいはスルホン酸塩;および
非置換ポリアルキレンオキシド、置換ポリアルキレンオキシド、置換あるいは非置換ポリアルキレンオキシドの誘導体、フッ素化湿潤剤、パーフッ素化湿潤剤、第4級アミン、あるいはポリアルキレンオキシドで置換された第4級アミンからなる群から選ばれる1つあるいはそれ以上の分散形成剤。 (もっと読む)


【課題】一定の通電量に達した時点だけでなく、任意の時点で薬剤を供給することができ、溶解しにくい薬剤も使用することができる3価クロムめっき液管理装置を提供する。
【解決手段】調整槽1と、水酸化クロム貯蔵タンク2、グリシン貯蔵タンク3及び水酸化アンモニウム貯蔵タンク4と、水酸化クロム供給ポンプ14、グリシン供給ポンプ15及び水酸化アンモニウム供給ポンプ16とから構成し、論理制御部30、電流積算部32、水酸化クロム供給ポンプ駆動部35、グリシン供給ポンプ駆動部36及び水酸化アンモニウム供給ポンプ駆動部37を備える制御装置を設け、記憶させた単位通電量当たりの供給量と電流積算部32により計測された通電量とからその時点の通電量に対して必要な供給量を算出し、通電量が設定値に達したときあるいは操作部31から操作信号が入力されたとき、算出された供給量の薬剤を供給するように各ポンプを駆動するようにした。 (もっと読む)


【課題】6価クロム化合物を用いることなく、3価クロムめっき皮膜の耐食性を大きく向上させることが可能な、3価クロムめっき皮膜用の処理液及び処理方法を提供する。
【解決手段】水溶性3価クロム化合物を含有する水溶液からなる3価クロムめっき皮膜用電解処理液、及び該電解処理液中において3価クロムめっき皮膜を有する物品を陰極電解することを特徴とする3価クロムめっき皮膜の電解処理方法。 (もっと読む)


固体粒子が埋め込まれたクラックのネットワークを備えた構造化クロム固体粒子層について説明する。該構造化クロム固体粒子層において、クラック密度は10〜250/mmであり、固体粒子層の粒径が0.01〜10μmの範囲であり、層全体における固体粒子の割合が1〜30体積%であり、クロム固体粒子層が層の表面に凹部を備えた微細構造を有し、前記凹部が占める表面積の割合が5〜80%である。構造化クロム固体粒子層の生産方法についても説明する。
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【課題】基体上に良好な物理−機械的特性を有する均一で光沢性の高い金属層を提供する。
【解決手段】以下の式を有する添加剤消費抑制有機化合物をめっき液に添加する:


式中、R、R1、R2およびR3は独立して、水素;ハロゲン;(C1−C20)直鎖、分枝、または環状アルキル;(C2−C20)直鎖、分枝、または環状アルケニル;(C2−C20)直鎖、または分枝アルキニル;−CN;SCN;−C=NS;−SH;−NO2;SO2H;−SO3M;−PO3M;(C1−C20)アルキル−O(C2−C3O)xR6,(C1−C12)アルキルフェニル−O(C2−C3O)xR6,−フェニル−O(C2−C3O)xR6,式中xは1から500の整数であり、R6は水素、(C1−C4)アルキルまたはフェニルである。 (もっと読む)


【課題】基体上に良好な物理−機械的特性を有する、均一で光沢性の高い金属層を堆積させるためのメッキ浴および方法を提供する。
【解決手段】以下の式を有する、メッキ浴添加剤の分解を防止する複素原子含有有機化合物をメッキ浴中に組み入れる:R1−X−R2(Xは、−S(O)n−S(O)p−S(O)q−S(O)u−S(O)v−S(O)w−、−(S(O)z)m−(CH2)y−(S(O)z’)m’−、または−SO2−S−(CH2)y−S−SO2−、n,p,q,u,v,w,zおよびz’はそれぞれ独立して0から2の整数、mおよびm’は独立して1から6の整数、yは2から4の整数である、またはS,O,Nから選択されたヘテロ原子、または(C1−C6)アルキルもしくはトシル基で置換されたNであり、R1およびR2はそれらが結合している原子と一緒になって5から18員の複素環を形成することができる)。 (もっと読む)


析出されたときにナノ粒状である電析された結晶質機能的クロム堆積物であり、そして堆積物がTEMおよびXRD結晶質の両方であり得るか、またはTEM結晶質でありそしてXRD非晶質であり得る。種々の実施態様において、堆積物は、クロム、炭素、窒素、酸素および硫黄の合金;{111}の優先方位;約500nm未満の平均結晶粒断面積;および2.8895±0.0025Åの格子定数の1または2以上の任意の組み合わせを含む。基材にナノ粒状の結晶質機能的クロム堆積物を電析させるための方法および電析浴であって、3価クロム、2価硫黄源、カルボン酸、窒素源を含み、そして実質的に6価クロムを含まない電析浴を提供する工程;浴に基材を浸漬する工程;および電流を付与して基材上に堆積物を電析させる工程を含む。
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