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Fターム[4K023CB04]の内容

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【課題】水素脆化感受性を評価する鋼材表面に施す亜鉛めっきに用いる亜鉛めっき液およびその亜鉛めっき方法と、その方法で高濃度の拡散性水素を封入した試験片を用いて行う水素脆化感受性評価方法を提案する。
【解決手段】拡散性水素を導入した鋼材表面に施す亜鉛めっきを、塩化亜鉛:20〜70g/l、塩化アンモニウム:140〜230g/l、ホウ酸:1〜100g/l、減極剤:0.1〜20g/l、光沢剤:0.001〜20g/l、平滑化剤:0.01〜50g/lを含有する亜鉛めっき液を用いて行うことにより上記拡散性水素を封入し、その後、水素脆化感受性を評価する。 (もっと読む)


【課題】良好な埋め込み性(ビアフィリング性)と優れた均一電着性を同時に併せ持ち、スルホールとブラインドビアホールの両方を含む被めっき物に対しても、電気的に信頼性の高い銅めっき皮膜を形成することが可能な新規な銅めっき液を提供する。
【解決手段】銅イオン、並びに有機酸及び無機酸から選ばれた少なくとも一種の酸成分を必須成分として含有する水溶液を基本めっき浴とする酸性電気銅めっき液であって、
(1)アルキレンジアミン類及びポリアルキレンポリアミン類からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリアミン、(2)二塩基性カルボン酸系化合物、並びに(3)アルデヒド類、エピハロヒドリン類、α,γ−ジハロ−β−ヒドリン類、グリシジル化合物及びイソシアネート類からなる群から選ばれる少なくとも一種の架橋性化合物、からなる三成分を反応させて得られる水溶性樹脂を含有することを特徴とする酸性電気銅めっき液。 (もっと読む)


【課題】インデント加工して錫リフロー材などの他の種類の錫めっき材上で複数回摺動させても摩擦係数が極めて低い複合めっき材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】錫めっき液に炭素粒子および芳香族カルボニル化合物を添加した複合めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、錫層中に炭素粒子を含有する複合材からなる皮膜を素材上に形成する際に、複合めっき液中の炭素粒子の濃度を80g/L以上、好ましくは80〜150g/Lにする。 (もっと読む)


【課題】金色外観を示すめっき皮膜を、高価なAuを用いず、かつ有色塗料の塗布等の煩雑な工程を経ることなく、表層のSnめっき膜により得る。
【解決手段】 表層めっき層として、Snイオン、および電解消費型添加剤を有する化合物を含むめっき液を用いて、Snを主成分とするめっき層を形成し、230〜350℃の温度にて熱処理を行う。 (もっと読む)


【課題】インデント加工した場合でも、錫リフロー材などの他の種類の錫めっき材との間の摩擦係数が極めて低い錫めっき材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】炭素粒子および芳香族カルボニル化合物を添加した錫めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、錫層中に炭素粒子を含有する複合材からなる皮膜を素材上に形成する際に、錫めっき液中の炭素粒子の濃度を20g/L未満、好ましくは10g/L以下にすることにより、適度に凝集した炭素粒子が錫層中に適度に分散した複合材からなる皮膜を素材上に形成され、リフロー処理を施した錫めっき材との間の摩擦係数が0.16以下、算出平均粗さRaが0.1〜0.5μm、最大高さRyが8〜16μm、十点平均粗さRz7〜12μm、光沢度が0.8以上、皮膜の厚さが0.5〜3μm、皮膜中の炭素の含有量が0.1〜1.2重量%以下の錫めっき材を製造する。 (もっと読む)


【課題】 めっき液の劣化を抑制し安定して長期操業が可能な亜鉛−ニッケル合金めっき方法を提供する。
【解決手段】 亜鉛イオン、ニッケルイオン、好ましくはアミン類等のニッケル錯化剤及びアルカリ成分を含有する、pH13以上の亜鉛−ニッケル系合金めっき液を使用する亜鉛−ニッケル合金の電気めっき方法であり、陰極槽と、アルカリ成分含有溶液である陽極液を収める陽極槽とをイオン交換膜等の隔膜によって分離し、陽極液にアルカリ成分を添加して陰極液のアルカリ成分濃度を制御するめっき方法を提供する。本発明では、電流量を指標として陽極液へ補給するアルカリ成分量を調節して上記めっき液をpH13以上に保持でき、陽極板はC、Fe、Cr、Ni及びこれらの合金でもよく、上記めっき液は更に、光沢剤、平滑剤、還元剤及び界面活性剤の群から選ばれる少なくとも1種を含有できる。 (もっと読む)


【課題】 半導体デバイスなどの電子部品をめっきしても、回路間の絶縁が不良となるなどの問題を生ずることのないめっき浴用添加剤、それに用いることのできるスルホカルボン酸剤、さらには、より高純度のスルホカルボン酸エステル剤、およびこれを用いたより高品質の界面活性剤を提供する。
【解決手段】 スルホカルボン酸を主成分とし、該スルホカルボン酸に対してアルカリ金属の含有量が0.05質量%未満であるスルホカルボン酸剤、および、スルホカルボン酸エステルを主成分とし、該スルホカルボン酸エステルに対してアルカリ金属の含有量が0.05質量%未満であるスルホカルボン酸エステル剤である。スルホカルボン酸は、チオール基を有するカルボン酸を、過酸化水素で酸化することにより好適に得ることができ、スルホカルボン酸エステルは、さらに、これをエステル化することにより好適に得ることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、表面が平滑でかつ耐熱性を有する銅合金箔にNi合金めっきを施したプリント配線基板用金属材料を提供することにある。
【解決手段】300℃で1時間加熱しても軟化しない圧延銅合金箔の少なくとも一方の面を光沢面に仕上げ、その面に0.3μm以上のNi合金めっきを施すことを特徴とするプリント配線基板用材料であり、耐熱性銅合金箔としてSn入り銅箔やCrおよびZr入り銅箔が好ましい。また、めっきには光沢Ni合金めっきが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 比較的短時間で形成することができ、環境への負荷が小さく耐食性に優れためっき皮膜およびそのめっき皮膜を形成するためのめっき液を提供する。
【解決手段】 めっき皮膜が、スズと鉄との二元合金、または、スズと、鉄と、亜鉛、コバルト、ニッケル、タングステン、モリブデン、銅、銀、金、ビスマス、インジウム、パラジウム、ロジウム、白金、リンおよびホウ素からなる群から選択される少なくとも1種との多元合金からなる。このめっき皮膜は電気めっき法を用いて基材上に形成される。 (もっと読む)


【課題】 摩擦係数が極めて低い錫めっき材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 炭素粒子と、芳香族アルデヒドまたは芳香族ケトンなどの芳香族カルボニル化合物とを添加した錫めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、錫層中に炭素粒子を含有する複合材からなる皮膜を素材上に形成し、同種の錫めっき材同士の摩擦係数が0.18以下、好ましくは0.13以下、光沢度が0.29以上、皮膜の厚さが0.5〜10μm、皮膜中の炭素の含有量が0.1〜1.5重量%、接触抵抗が1.0mΩ以下である錫めっき材を製造する。この錫めっき材では、皮膜の表面に互いに離間した複数の突起部が形成され、これらの突起部が炭素粒子を含有し、錫マトリックスが101面に配向している。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ナノホールへ合金めっきを充填した後に合金から結晶性を有する分離相を相分離させてマトリクス中に機能性を有する分離相を形成する分離相の形成方法を提供するものである。特に、分離相の特性を利用するナノ構造素子及びこれを基板上に多数規則配列したナノ構造体を製造する方法を提供するものである。
【解決手段】複数の金属の析出電位を制御する電気めっきを行うことにより形成した合金めっきを行った後、熱処理等により第一成分の非磁性金属としてのCu等と第二成分の強磁性体又は反強磁性体とに分離して第二成分からなる分離相を形成することができる。ナノホール内に形成した前記合金めっきを、相分離により形成した分離相の磁性、電気抵抗、熱伝導等の特性を利用したナノ構造素子が得られ、これを利用してナノ構造体を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】 耐磨耗性、耐食性に優れ、摩擦係数の小さいW−P系合金を安定して効率的に得るための電気めっき浴、それを用いる電気めっき方法ならびに得られるW−Ni−P系合金めっき皮膜を提供する。
【解決手段】 タングステン(W);ニッケル(Ni)、コバルト(Co)、チタン(Ti)、モリブデン(Mo)もしくは鉄(Fe);ならびにリン(P)の供給源を含有し、WとNi、Co、Ti、MoもしくはFeとの質量比が1:0.02〜0.3であることを特徴とするW−P系合金電気めっき浴。この電気めっき浴を用いて、好適には浴温40〜90℃、pH3.0〜9.0および電流密度0.3〜20A/ dmで電気めっきを行なうことにより、W含有量35.0〜55.0wt%、Ni含有量52.5〜64.3wt%およびP含有量0.7〜2.5wt%であり、ビッカ−ス硬さがHv800〜2500であるW−Ni−P系合金めっき皮膜が得られる。 (もっと読む)


【課題】 電流効率の変動を抑制でき、環境への負荷が小さくて、効率的な銅ストライクめっきを可能にする銅ストライクめっき浴を提供すること。
【解決手段】 本発明の銅ストライクめっき浴は、シアン化銅化合物と、無機酸の塩及び有機酸の塩の1種又は2種以上とを含む。好ましくは、シアン化銅化合物はシアン化銅ナトリウム、シアン化銅カリウム、又はそれらの混合物である。無機酸の塩は、リン酸塩、ピロリン酸塩、水酸化アルカリ化合物、ホウ酸塩又は炭酸塩でよく、有機酸の塩は、ギ酸、酢酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸又はL−グルタミン酸の塩でよい。リン酸、ピロリン酸、ホウ酸又は炭酸等の無機酸、あるいはギ酸、酢酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸又はL−グルタミン酸等の有機酸を更に含んでもよい。 (もっと読む)


金属又はプラスチック部品の大きな領域上に、高研磨で、装飾的な光沢があり、滑らかで且つ平坦な銅被膜を電解で析出するための酸性水溶液は、a)少なくとも一種の酸素含有高分子添加剤と、b)少なくとも一種の水溶性硫黄化合物を含み、その中で、水溶液は、付加的に、c)一般式(I)を有する少なくとも一つの芳香族ハロゲン誘導体を含み、式中で、ハロゲンとなるR、R、R、R、R及びR基の個数は1〜5の範囲であるという条件付きで、R、R、R、R、R及びRは、それぞれ独立して、水素、アルデヒド、アセチル、ヒドロキシ、炭素数1〜4のヒドロキシアルキル、炭素数1〜4のアルキル及びハロゲンからなるグループから選ばれる基である。
【化1】

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