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Fターム[4K024AA09]の内容

電気メッキ方法、物品 (25,708) | メッキ析出金属 (5,114) | 単金属 (4,227) | Cu (1,091)

Fターム[4K024AA09]に分類される特許

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【課題】製造コストの増加を招くことなく、Snと下地めっき金属との合金化や合金層の成長速度を今まで以上に遅くして、Snめっき層の厚さを長期間に亘って維持し、めっき材料のはんだ濡れ性の低下を抑制することが可能なSnめっき材料の製造方法を提供する。
【解決手段】CuまたはCu合金からなる基材上に、CuまたはCu合金からなる下地めっき層が形成され、さらにSnまたはSn合金からなる表面めっき層が形成されており、さらに加熱処理することにより下地めっき層と表面めっき層との間にCuとSnの合金層が形成されているめっき材料であって、下地めっき層の厚さは、0.5〜2.0μmであり、表面めっき層の厚さは、0.5〜3.0μmであり、CuとSnの合金層の厚さは、0.8〜2.0μmであり、さらに、CuとSnの合金の平均粒子径は、4〜10μmであるめっき材料。 (もっと読む)


【課題】耐熱性に優れ、かつ銀の硫化による反射率低下の少ない発光素子収納用支持体及び、硫化により変色しにくく、銀本来の光沢を有し、接触抵抗が小さい電気部品用被覆方法を提供する。
【解決手段】メッキ用基体102の表面に銀メッキ層104を形成し、さらに該銀メッキ層の表面に厚さ0.001〜0.1μmの錫またはインジウムまたは亜鉛のメッキ層106を形成してなる銀メッキ構造体を熱処理して得られるメッキ構造である。また、基材の面上に形成された銀層の表面に、粒子堆積工程により点析されてなる錫またはインジウムまたは亜鉛の点析粒子が、前記表面と垂直方向に重なることなく上面視で隙間があるように配置された粒子堆積物を、非酸化雰囲気で加熱して前記点析粒子を溶融させて被膜化することを特徴とする被覆方法である。 (もっと読む)


【課題】アノードスライムの発生およびメッキ欠陥の発生を抑えた半導体ウエハ等の電気銅メッキ用の含リン銅アノード電極、該含リン銅アノード電極の製造方法およびこの含リン銅アノード電極を用いた電気銅メッキ方法を提供する。
【解決手段】リン含有量が0.01〜0.08質量%である電気銅メッキ用の含リン銅アノード電極において、該アノード電極は熱処理により、その表面の残留歪みが0.05%以下とされ、該アノード電極は炭化水素系溶剤で洗浄され、回転リングディスク電極法で測定される一価銅の検出量が電解時間300sec以上において5×10−9mol/sec以下である表面清浄度を備える電気銅メッキ用の含リン銅アノード電極とその製造方法および電気銅メッキ方法。 (もっと読む)


【課題】鉛含有量が低いか又は鉛を含まない減摩コーティングの提供。
【解決手段】本発明は、Snに加えて、Sb及びCuのうちの少なくとも1つの他の元素と、所望によりPb及び/又はBi、また所望によりZr、Si、Zn、Ni及びAgのうちの少なくとも1つの元素を含有するスズベースの合金から作製され、Sbが最大で20重量%、Cuが最大で10重量%、Pb及びBiの合計が最大で1.5重量%、Cu及びSbの合計が少なくとも2重量%、Zr、Si、Zn、Ni及びAgの合計が最大で3重量%であって、スズが金属間相の形で結合され且つβスズ結晶粒を有するスズ相として自由に存在している減摩コーティング(4)に関する。βスズ構造のスズ結晶粒は、式K=A/(S+3*C+O)に基づいて計算されたμm単位の平均粒度を有し、スズベースの合金中のβスズ構造のスズ結晶粒はいずれの場合も少なくとも2.5μmの平均結晶粒度を有する。 (もっと読む)


【課題】ロールの周面へのメッキを均一な厚さに施すことができるロール用メッキ装置を提供する。
【解決手段】メッキ対象のロールRの両端をチャックする一対のロールチャック2と、メッキ液Lを貯留しこのメッキ液LにロールRを浸漬させるメッキ槽3と、上記メッキ槽3内に設けられ、上記ロールチャック2に外嵌するよう対向配設され、ロール端部へのメッキ電流の集中を抑制する一対のメッキ電流遮蔽器5とを備えるロール用メッキ装置1であって、上記メッキ電流遮蔽器5が、上記ロールチャック2の軸方向に移動可能に吊設されており、上記ロールチャック2に外嵌するロール端面被覆板10と、このロール端面被覆板10の対向面側に立設され、切欠領域を有する帯状のロール周面端部被覆板11とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、従来のワイヤー工具の課題を解決し、細線でありながらも高強度化と高弾性化した芯線によって、疲労破断を抑制する捻回特性にも優れる芯線と、熱安定性に優れるCBNの使用によって、硬質かつ難加工性のネオジム合金の金属ブロックに好適するワイヤー工具の提供を目的とする。
【解決手段】 ワイヤーソーの為のワイヤー工具であって、
該ワイヤー工具は、合金製長尺細線を芯線とする外表面に、金属被覆層を介して平均粒子径が15〜60μmの微細砥粒を固着して構成され、
前記芯線は、ヤング率150〜200GPaで引張強さ2500〜3500MPaを有するとともに、
その引張試験の応力−歪線図において、その基準線a、弾性領域の比例線を延長した延長線b、及び引張破断点を通る垂線cで描かれる直角三角形Mに占める、前記応力−歪線図で囲まれた実面積Mの面積率が80〜98%の特性を有する高弾性型の前記合金製長尺細線で構成したことを特徴とするワイヤー工具。 (もっと読む)


本明細書中で開示されているのは、酸性溶液および重フッ化物溶液の組合せを任意の順序で用いてポリマー物品を表面処理するための方法である。このような表面処理済みポリマー物品は、金属でコーティングされた場合、より優れた金属−ポリマーボンディング特性を有する。有用な利用分野としては、自動車のグリルガード;ブレーキ、アクセルまたはクラッチペダル;燃料レール;ステップ;スポイラー;マフラーチップ;ホイール;車両フレーム;および構造的ブラケットが含まれる。
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【課題】銅箔に更に電気抵抗膜を形成することにより、電気抵抗材の基板内蔵化を可能とし、且つその接着性を向上させ、抵抗値のばらつきが小さい金属箔及びプリント回路用基板を提供する。
【解決手段】光学的方法で測定した十点平均粗さRzで4.0〜6.0μmに調整した金属箔表面に形成した銅−亜鉛合金膜、この銅−亜鉛合金層の上に形成した酸化亜鉛、酸化クロム、酸化ニッケルから選択した少なくとも1成分からなる安定化膜、さらにこの安定化層の上に形成したニッケルクロム合金からなる電気抵抗膜を備え、さらにこの電気抵抗膜上にテトラエトキシシランを吸着・乾燥させた金属箔であって、前記電気抵抗膜の抵抗値のばらつきを±10%以内にする。 (もっと読む)


【課題】熱ナノインプリント法における熱可塑性高分子の剥がれや、ウェットエッチング液やめっき液の、レジスト内や金属層とレジストとの界面への浸入を抑制する基板を提供する。
【解決手段】基板層1、金属酸化物表面を有する金属層2、下記式に示す、紫外線照射により接着性を発現する感紫外線化合物層3、および熱可塑性高分子層4とをこの順で有する。


(R1〜R3:H、C1〜6の炭化水素基等、X:O、OCO、COO、NH、NHCO、m:1〜20、R4:C1〜3の炭化水素基、Y:C1〜3のアルコキシ基、ハロゲン原子、n:1〜3。) (もっと読む)


【課題】ウィスカ発生を抑制すると共に、挿抜力を低減させたリフローSnめっき部材を提供する。
【解決手段】Cu又はCu基合金からなる基材の表面にリフローSn層が形成され、該リフローSn層の表面の(101)面の配向指数が2.0以上5.0以下であるリフローSnめっき部材である。 (もっと読む)


【課題】従来よりも容易に製造でき、優れた耐焼付き性を有する油井管用のねじ継手を提供する。
【解決手段】インテグラル型のねじ継手は、第1油井管の端部に形成されるボックス3と、第2油井管の端部に形成され、ボックス3に挿入されるピン2とを備える。ボックス3の内面は、複数の雌ねじ31が形成される雌ねじ部と、内面メタルシール部とを含む。ピン2の外面は、複数の雄ねじ21が形成された雄ねじ部と、内面メタルシール部に対応する外面メタルシール部とを含む。ピン2の雄ねじ部及び外面メタルシール部上には、筆めっき法によりめっき層が形成される。 (もっと読む)


【課題】粘着剤を被覆層構成材として用いて形成した被覆層付部材から処理溶液に溶出する物質の悪影響を抑制できる表面処理方法を提供する。
【解決手段】被覆層構成材6に含まれる物質が処理溶液に溶出して当該表面処理に悪影響を及ぼす現象を抑制する影響抑制工程を含む表面処理工程を採用する。影響抑制工程では、被覆層付部材1を湯煎する工程、有機溶剤で洗浄する工程を実施する。紫外線硬化型粘着剤に対しては、被覆層構成材6のはみ出し面22を紫外線処理する工程、又は、処理溶液を紫外線処理する工程も採用できる。更に、必要に応じて活性炭処理工程を付加する。 (もっと読む)


システム及び方法が、電圧切り換え可能な誘電体材料に1つ以上の材料を付着させることを含む。特定の態様では、電圧切り換え可能な誘電体材料が、導電バックプレーン上に配置される。いくつかの実施形態では、電圧切り換え可能な誘電体材料が、付着に関する特性電圧が相違する複数の領域を含む。いくつかの実施形態は、マスキングを含み、取り除くことが可能なコンタクトマスクの使用を含むことができる。特定の実施形態は、電気グラフトを含む。いくつかの実施形態は、2つの層の間に配置される中間層を含む。 (もっと読む)


システム及び方法が、電圧切り換え可能な誘電体材料に1つ以上の材料を付着させることを含む。特定の態様では、電圧切り換え可能な誘電体材料が、導電バックプレーン上に配置される。いくつかの実施形態では、電圧切り換え可能な誘電体材料が、付着に関する特性電圧が相違する複数の領域を含む。いくつかの実施形態は、マスキングを含み、取り除くことが可能なコンタクトマスクの使用を含むことができる。特定の実施形態は、電気グラフトを含む。いくつかの実施形態は、2つの層の間に配置される中間層を含む。 (もっと読む)


【課題】ヒートサイクルを繰り返しても、基板の割れや、配線パターンの剥離を生じない大電力用銅配線パターンの形成されたセラミック配線基板を提供することを目的とする。
【解決手段】セラミック基板と前記セラミック基板上に形成された銅層とを含み、前記銅層における銅の平均粒子半径が10μm以上であるセラミック配線基板。 (もっと読む)


【課題】エネルギー付与により高感度で硬化し、水溶液による現像により高解像度のめっき触媒又はその前駆体に対する吸着性に優れた被めっき層パターンを形成し得る被めっき層形成用組成物、基板との密着性に優れた高解像度の金属パターンを簡易に形成しうる金属パターン材料の作製方法、及びこれにより得られた金属パターン材料を提供する。
【解決手段】めっき触媒又はその前駆体と相互作用を形成する官能基、及び、ラジカル重合性基を有するポリマー1質量%〜20質量%と、水不溶性の光重合開始剤とを、20質量%〜99質量%の水溶性可燃性液体と水とを含有する混合溶剤に溶解してなる被めっき層形成用組成物、これを用いた金属パターン材料の作製方法、並びに、該作製方法により得られた金属パターン材料である。 (もっと読む)


【課題】CMPの処理時間を短縮する。
【解決手段】基板製造方法は、基板上に絶縁層を形成する工程と、絶縁層上に第1のマスクを形成する工程と、第1のマスクを介して絶縁層をエッチングすることにより絶縁層に溝を形成する工程と、第1のマスクを除去する工程と、絶縁層上及び溝の表面に第1の金属層を形成する工程と、溝の内部及び上方に第2のマスクを形成する工程と、第1の金属層上及び第2のマスクの表面に第2の金属層を形成する工程と、第2のマスク及び第2のマスクの表面に形成された第2の金属層を除去する工程と、溝の上方が開口された第3のマスクを第2の金属層上に形成する工程と、溝の内部及び上方に第3の金属層を電界めっきにより形成する工程と、第3のマスクを除去する工程と、第3の金属層を化学機械研磨により平坦化する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】挿入力が小さく、かつ、高温で使用しても接触抵抗の増大しないコネクタに使用されるCu合金条を実現する。
【解決手段】Cu合金条の母材であるCu合金1の上に、Ni2/Cu3/Sn4の、3層めっきを施す。その後リフローして表面までCu-Sn金属間化合物層5を形成する。その後、Cu-Sn金属間化合物層5の表面にSn4を薄くめっきする。このようにして、形成されたCu-Sn金属間化合物層5の表面の凹凸は小さくRmaxは0.5μm以下である。また、Cu-Sn金属間化合物層の表面に形成するSn層4の膜厚は0.3μm以上0.8μmである。このような構成のCu合金条をコネクタに使用することによって、コネクタの挿入力が小さく、かつ、高温で使用しても接触抵抗の増大が無いコネクタを実現することが出来る。 (もっと読む)


マグネシウムおよびマグネシウム合金基材をジンケート処理するための改良された組成物および方法。約8から約11のpHを有し、かつ亜鉛イオン、錯形成剤、フッ化物イオン、および還元剤を含む、水性ジンケート処理組成物。マグネシウムまたはマグネシウム合金基材をジンケート処理するための非電解方法であって、非電解水性ジンケート処理組成物を、基材上に亜鉛酸塩を析出させるに充分な時間浸漬する工程、を含む、方法。マグネシウムまたはマグネシウム合金基材をジンケート処理するための非電解方法であって、亜鉛イオン、錯形成剤、フッ化物イオンを含み、そして約8から約11の範囲のpHを有する水性非電解組成物を調製する工程;該組成物に、該マグネシウムまたはマグネシウム合金基材上への亜鉛酸塩の析出を向上させるに充分な量の還元剤を添加する工程;および該基材を該組成物中に、該亜鉛酸塩を該基材上に析出させるに充分な時間浸漬する工程;を包含する、方法。 (もっと読む)


【課題】銅板の表面を低コストで効率よく粗化できる表面粗化銅板の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】第一工程部120は、1つの銅板101を挟む左右の電極122を1ステーションとして、これを2ステーション以上備えた多段構成となっており、銅板101を陽極、電極122を陰極とする電気分解により、銅板101の左右両面に微細瘤状突起を形成するのに必要な量の銅微粒子を生成させる陽極処理を行う。第二工程部130も、2ステーション以上備えた多段構成となっているが、ここでは極性を反転させて銅板101を陰極、電極132を陽極とする陰極処理を行っている。第一工程部120では定電圧制御を行い、第二工程部130では定電流制御を行っている。さらに、めっき槽121と別のめっき槽131とが連通された構成となっており、同じめっき液を用いて陽極処理および陰極処理が行われる。 (もっと読む)


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