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Fターム[4K024AA14]の内容

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【課題】成形加工性に優れる被めっき物を提供する。
【解決手段】表層の加工変質層が除去された金属基材上にめっき層Aが設けられている成形加工性に優れた被めっき物、前記金属基材が銅又は銅合金からなる被めっき物、前記めっき層Aがニッケル、ニッケル合金、銅、銅合金のうちの少なくとも1種からなる被めっき物、前記めっき層A上に、前記めっき層Aと異なる金属又は合金からなるめっき層Bが少なくとも1層設けられている被めっき物、前記めっき層Bがニッケル以外の金属または合金からなる被めっき物である。 (もっと読む)


本発明は、材料をアルミニウム、マグネシウム又はアルミニウムとマグネシウムの合金で電解被覆する方法に関する。この方法は、前記材料を電解液中に浸漬することで前処理を行い、その際、陽極として処理され、その後直ちに同じ電解液中で電解被覆が実施されることを特徴とする。 (もっと読む)


複数の近接して配置された導線(10)が存在し、錫ウィスカーが潜在的短絡回路を構成する、被覆された電気伝導性基体(26)。そのような基体(26)は、導線枠、端子ピン及び回路トレースを含む。電気伝導性基体(26)は、錫ウィスカーが跨がることができる距離(14)に分離された複数の導線(16)、少なくとも一つの表面を被覆する銀又は銀基合金層(28)、及び前記銀層を直接被覆する微粒錫又は錫基合金層(30)を有する。別の被覆された電気伝導性基体(26)は、コネクタ組立体の場合のように、フレッチング摩耗からの破片が酸化し、電気抵抗率を増大する場合に、特に有用である。この電気伝導性基体(26)は、基体(26)の上に堆積された障壁層(32)を有する。続いて堆積される層には、障壁層(32)の上に堆積された、錫と金属間化合物を形成するのに有効な犠牲層(34)、低抵抗率酸化物金属層(40)、及び錫又は錫基合金の最外層(36)が含まれる。障壁層(32)は、ニッケル又はニッケル基合金であるのが好ましく、低抵抗率酸化物金属層(40)は、銀又は銀基合金であるのが好ましい。
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本発明は、基材、該基材上に被覆された中間金属層及びアルミニウム/マグネシウム合金を含有する、該中間層上に被覆された層を含む被覆された加工製品に関する。本発明は、この被覆された加工製品を製造する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】シアン化物を含まない浸漬めっき溶液、およびアルミニウムまたはアルミニウム合金基板の表面にシアン化物を用いずに亜鉛合金の保護コーティングを形成する方法に関する。
【解決手段】本発明は、pHが約3.5〜約6.5であり、亜鉛イオン、ニッケルおよび/またはコバルトイオン、フッ化物イオンを含む、非シアン化物で水性で酸性の浸漬めっき溶液を提供する。1つの実施形態においては、本発明の浸漬めっき溶液は、1つ以上の窒素原子、1つ以上の硫黄原子、あるいは硫黄原子および窒素原子の両方を含む少なくとも1つの抑制剤とをさらに含む。本発明は、さらに、アルミニウム基板またはアルミニウム合金基板を、本発明の非シアン化物で水性で酸性の浸漬めっき溶液に浸漬し、アルミニウム基板またはアルミニウム合金基板の表面に亜鉛合金の保護コーティングを形成する方法に関する。任意で、亜鉛合金をコーティングされたアルミニウム基板またはアルミニウム合金基板は、無電解または電解金属めっき溶液を用いてめっきされる。 (もっと読む)


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