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Fターム[4K024AA24]の内容

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Fターム[4K024AA24]に分類される特許

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【課題】低挿抜性、低ウィスカ性及び高耐久性を有する電子部品用金属材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材11と、基材11の最表層を構成し、Sn,In,またはそれらの合金で形成されたA層14と、基材11とA層14との間に設けられて中層を構成し、Ag,Au,Pt,Pd,Ru,Rh,Os,Ir,またはそれらの合金で形成されたB層13と、を備え、最表層(A層)14の厚みが0.002〜0.2μmであり、中層(B層)13の厚みが0.001〜0.3μmである電子部品用金属材料10。 (もっと読む)


【課題】電気的接続部位等に設けられるNi/Pd/Au被膜を形成する際に好適に用いることができ、被膜特性の向上及びコスト削減を図ることのできる電解パラジウム−リン合金めっき液、めっき被膜及びめっき製品を提供する。
【解決手段】被めっき物100の表面に、電解めっきにより電解パラジウム−リン合金めっき被膜12を形成する際に用いる電解パラジウム−リン合金めっき液であって、パラジウム化合物と、次亜リン酸ナトリウム又は亜リン酸と、エチレンジアミン又はジエチレントリアミンとを含むことを特徴とする電解パラジウム−リン合金めっき液、該めっき液によるめっき被膜及びめっき製品。 (もっと読む)


【課題】酸又は酸性めっき液への溶解性が極めて高く、大気中における保存安定性に優れた酸化第一錫粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Sn合金めっき液へのSn成分補給用酸化第一錫粉末であって、酸化防止剤が粉末中に質量比で100〜5000ppm含まれ、温度25℃の100g/Lアルキルスルホン酸水溶液100mlに酸化第一錫粉末0.1gを添加して攪拌したとき、180秒以内で溶解する溶解速度を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高硬度かつ低抵抗のめっき膜、前記めっき膜を電気接点とする電子部品、前記めっき膜を成膜可能なめっき液、および、前記めっき膜の製造方法を提供する。
【解決手段】めっき膜10は、Au(100−x−y)−M−Cからなる。ただし、MはAu以外の金属元素であり、1≦x≦22、かつ、3≦y≦30、かつ、4≦(x+y)≦40である。めっき液50は、Auイオンと、Niイオンと、くえん酸(Cit)イオンと、CNイオンと、を含む。 (もっと読む)


【課題】従来よりも大きな径を有するとともに、大きな比表面積を有することにより、大きな分子に対しても適用可能な高活性の触媒として使用できる白金系のメソポーラス金属膜を与える。
【解決手段】ブロックコポリマー界面活性剤及び白金を含む金属塩の希薄な水溶液を電気分解することにより、電極上に上記メソポーラス金属膜が形成される。 (もっと読む)


【課題】表面めっき皮膜に潤滑性を付与することにより摺動性を高め、耐磨耗性が良好で、かつ接触信頼性が良好であるめっき材料を提供する。
【解決手段】40℃における動粘度が100mm/s以下の潤滑油を内包し、樹脂または無機材料の外壁からなるカプセルであって、該カプセルの平均粒径が1μm以下であるとともに、該カプセルの直径をdおよび外壁の厚さをtとしたとき、直径に対する壁の厚さt/dが1/100以上1/2未満であるカプセルを含有する。 (もっと読む)


【課題】所定の構造部材に、締結部材による締付応力に起因して生じるウィスカーの成長を抑制し、隣接する他の構造部材のウィスカーとの接触を防止して短絡を防ぐことができる、複数の構造部材からなる組付体及び構造部材又は締結部材の製造方法を提供する。
【解決手段】この組立体10は、複数の構造部材20,30が互いに接触して、締結部材50を介して組付けられてなり、構造部材20,30どうしの接触部C1の周縁、或いは、構造部材20,30と締結部材50との接触部C2,C3の周縁に、少なくとも一方の部材に設けた段差部27,37,52,56により、隙間を介して対向する内面が設けられており、隙間を介して対向する内面の少なくとも一方に、相手部材よりも標準電極電位の高い金属膜28,38,53,57が、相手部材に接触しないように形成されている。 (もっと読む)


【課題】金属部材に拡散防止や耐久性向上のためにNiもしくはNi合金下地めっきを行い、その上にAgめっきを行った電気接点部に関し、耐摩耗性などの耐久性、耐熱密着性、製造コストなどの優れた接点部を製造する方法を提供する。
【解決手段】金属部材1上にNiストライクめっきを行った後、電解めっきによってNi下地めっき層3を形成し、さらに、その上にシアン銀、シアン銅を含むめっき液を用いて電解めっきを行いAg−Cu含有合金めっき層5を形成しためっき部材10。 (もっと読む)


【課題】安定した品質と優れた耐食性とを有するめっき物が、環境への負荷を低減させつつ、効率的且つ低コストに製造され得る方法を提供する。
【解決手段】硫酸ニッケルと、クエン酸三ナトリウムとを、それぞれ特定濃度で含み、且つpHが3以上4未満に調整された、塩化ニッケルとホウ酸と光沢剤を含まない水溶液からなるニッケルめっき液を用いて、このニッケルめっき液中に、不溶性陽極と、金属素材12からなる陰極とを浸漬して、電気めっきを行うことにより、該金属素材12の表面にニッケルめっき層14を積層形成した後、該ニッケルめっき層14に対して、錫−ニッケルめっき層20とパラジウムめっき層22のうちの少なくとも何れか一方と、金めっき層18とを積層形成した。 (もっと読む)


【課題】半導体装置用リードフレームとその製造方法において、複数のめっき層を積層する場合におけるめっき層同士の密着性を向上させ、半導体装置の製造工程におけるワイヤーボンド性の低下や実装の際の半田付け性の悪化を抑制するとともに、製造コストの効果的な削減を図る。
【解決手段】 導体基材20上に下地めっき層21を形成し、当該下地めっき層21の上に金属結合性を有する有機被膜22を介して最表めっき層23を積層することで、リードフレーム2a、2bを構成する。有機被膜22は、主鎖部B1の両末端に金属結合性の官能基A1、A1を持つ機能性有機分子11を自己組織化させた単分子膜として構成する。 (もっと読む)


【課題】電気コネクタのような、ニッケル含有基体上に硬質金をスポットめっきする際、めっき箇所以外に金が置換めっきされるのを抑制するメッキ液組成物を提供する。
【解決手段】金イオン源と、コバルト塩またはニッケル塩を含む金属イオン源と、下記式で示されるメルカプトテトラゾールまたはその塩を含む組成物。


(式中、R1は、水素、C1−C20)炭化水素基、(C8−C20)アルアルキル、フェニル、ナフチル、アミンまたはカルボキシル基;Xは水素、(C1−C2)アルキル、またはアルカリ金属、カルシウム、アンモニウムまたは第四級アミンのような好適な対イオンである) (もっと読む)


【課題】金および銅を含み、くもり、色むら等の不都合の発生が確実に防止され、優れた外観を有する被膜を備えた装飾品を安定的に製造することができる装飾品の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の装飾品1の製造方法は、基材2を用意する工程(1a)と、基材2の表面に、金フラッシュめっきを行い、フラッシュめっき層3を形成する工程(1b)と、金イオンと銅イオンとテルルのオキソ酸化合物とを含むめっき液を用いた電解めっきにより、Au−Cu合金被膜4’’を形成する工程(1c)と、加熱処理および冷却処理を施すことにより、Au−Cu合金被膜4’’の構成材料の固溶体化を促進し、Au−Cu合金被膜4’とする工程(1d)と、酸処理を施すことにより、Au−Cu合金被膜4’の構成成分のうち、固溶体を構成していないものを除去し、Au−Cu合金被膜4とする工程(1e)とを有する。 (もっと読む)


【課題】 ステンレス鋼上に、NiまたはCuなどの下地めっき層を介さずに、AuまたはAu合金めっき層で被覆した部材であり、ステンレス鋼とAuまたはAu合金めっき層の密着性に優れ、耐食性の高いAuまたはAu合金めっきステンレス部材とその製造方法を提供する。
【解決手段】 ステンレス鋼上に、NiまたはCuなどの下地めっき層を介さずに、pH2以下でかつAuが3価であるシアンAuイオンを含有するAuまたはAu合金めっき浴を用いて、AuまたはAu合金めっきをおこなう。 (もっと読む)


【課題】磁気特性に優れるFe‐Pt合金めっき膜を提供できるFe‐Pt合金めっき方法を提供する。
【解決手段】Fe‐Pt合金めっき方法は、3価のFe塩、該3価のFeの錯化剤、Pt塩、および伝導度塩を含むFe‐Pt合金めっき液を用いて被めっき物にFe‐Pt合金めっきを行う工程と、該Fe‐Pt合金めっきが施された被めっき物に熱処理を行い、Fe‐Pt合金めっき膜をL1型Fe‐Pt規則合金に相変換させる熱処理工程とを含む。 (もっと読む)


被コーティング物品およびコーティングを付与する方法を記載する。幾つかのケースでは、コーティングは、耐久性、耐食性、および高伝導性のような望ましい特性および特徴を示すことが可能である。物品は、例えば電着処理を使用してコーティングされる。
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【課題】レアメタルの使用量を抑えつつ、鉛フリーはんだに対するはんだ付け性(濡れ性)の向上はもとより、ウィスカの発生を抑制ないし防止することができるめっき被膜材を提供する。
【解決手段】導電性基材4に第1めっき層1aを形成し、該第1めっき層1aの表面に第2めっき層2aを形成しためっき材からなるリードフレーム10aであって、前記第1めっき層1aが、スズ、スズ−銀合金、スズ−ビスマス合金、スズ−銅合金、及びスズ−銀−銅合金の群から選ばれる少なくとも1種からなり、第2めっき層2aがインジウムからなり、前記第1めっき層の厚さを5μm超10μm以下とし、かつ第2めっき層の厚さを0.05μm以上0.4μm以下としたリードフレーム10a。 (もっと読む)


【課題】基材上に中間層を介して添加元素を含むBi又はBi合金から形成されるオーバレイ層を被着した摺動部材において、オーバレイ層中の添加元素の拡散を低減し、なじみ性を良好に維持することができる摺動部材を提供する。
【解決手段】基材2に中間層3を介してオーバレイ層4を被着した摺動部材において、オーバレイ層4を、Bi又はBi合金に低融点の金属からなる添加元素を添加して形成し、中間層3を、Ag又はAg合金に添加元素を添加して形成する。中間層3に添加する添加元素の量を、オーバレイ層4中に含まれる量の5倍以上にする。 (もっと読む)


【課題】基材にAg又はAg合金から形成したオーバレイ層を被着した摺動部材において、優れたなじみ性を得ることができる摺動部材を提供する。
【解決手段】基材2にAg又はAg合金から形成したオーバレイ層3を被着する。オーバレイ層のX線回折の強度が、1%≦(200)/{(200)+(111)+(220)+(311)+(222)}≦20%、且つ、1%≦(200)/(111)≦30%を満たすように形成する。 (もっと読む)


【課題】無煙炭色のコーティングを施す方法で強い無煙炭の陰を提供する技術的な簡単な方法を提供すること。
【解決手段】 金属部品を無煙炭色にコーティングする本発明の電気化学堆積方法は、電解質浴の手段により、金−ニッケル合金を堆積する第1ステップと、希釈した酸性浴の手段で、前記金−ニッケル合金を処理する第2ステップとを有する。前記希釈した酸性浴は、塩酸と、フッ化水素酸と、リン酸と、硝酸と、硫酸からなるグループから選択された酸を含む。 (もっと読む)


【課題】めっき液の管理が容易であって、かつSn合金のめっき液へのSn成分の補給を簡便な方法により低コストで行う。
【解決手段】めっき槽1内に貯留したSn合金のめっき液に被処理基板Sを接触させた状態とし、被処理基板Sと電極14との間に通電して被処理基板SにSn合金のめっき膜を形成するめっき装置において、めっき槽1との間で循環されるめっき液を貯留するタンク23と、タンク23内のめっき液をポンプ25で圧送しながらめっき槽1に供給するめっき液供給手段4とを有するとともに、めっき液供給手段4のポンプ25よりも下流位置に、流通するめっき液内に酸化第一錫の粉末を供給する補給手段6を設けた。 (もっと読む)


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