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Fターム[4K024AB08]の内容

電気メッキ方法、物品 (25,708) | メッキ層の構造、組織 (2,947) | 部分メッキ層を有する (272)

Fターム[4K024AB08]に分類される特許

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【課題】操作の複雑性や使用材料による環境上の悪影響が回避でき、所用時間と費用の少ない車両用ホイールの表面処理方法を提供する。
【解決手段】車両のホイール40を回転させながら、硬いチップを有する切削工具50が該ホイール40の表面42に対して均一な圧力にて押圧され、該表面42がスムージングされるとともにシールされる。スムージングされるとともにシールされたホイール表面42は、次に、該スムージングされるとともにシールされたホイール表面42にニッケル層を直接適用する工程と、該ニッケル層上にクロム層を直接適用する工程とを含む方法を用いてクロムめっきされる。 (もっと読む)


【課題】メッシュ状の導電層上に均一な膜厚でメッキ層を形成して、電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法及びそのために有利な簡易なメッキ装置を提供する。
【解決手段】メッキ液が満たされるメッキ槽、該メッキ槽内に配置された陽極電極、及び該陽極電極に陽極電圧が印加されると同時に陰極電圧が印加される被メッキ材料を、該陽極電極に対向して配置するための固定手段、さらに陽極電極と被メッキ材料との間に且つこれらと略並行となるように配置された遮蔽板を備え、該被メッキ材料に電気メッキを施すことにより電磁波シールド性光透過窓材を製造するためのメッキ装置であって、前記被メッキ材料が透明基板及び該透明基板上に設けられたメッシュ状の導電層からなり、そして遮蔽板が貫通孔部を有し且つ遮蔽板の貫通孔部を除いた面積が遮蔽板の中央より外側の方が大きいことを特徴とするメッキ装置。 (もっと読む)


【課題】 コストを抑えつつ品質を安定させた電気メッキ処理を複数のピンを備えた部材の各ピンに一度に行うようにする。
【解決手段】 導電体からなる複数のピン55と、絶縁材を介して各ピンを支持する導電体からなる支持部材とを備えた部材50の各ピンに電気メッキを施す方法であって、各ピンに導通接触可能な電極板20と、電極板が固定されるとともに当該電極板と協働して部材を多数まとめて保持可能な絶縁板10を有した電気メッキ用治具1を用意し、電気メッキ用治具に部材を多数着脱可能に並べて所定の姿勢で当該治具上で当該多数の部材を保持し、電気メッキ用治具に保持した全ての部材の各ピンに電気メッキを一度に施す。 (もっと読む)


本発明は、絶縁性基体上への金属付着のための粘度調整可能な感光性分散液に関し、該感光性分散液は、光照射下に酸化−還元特性を与える顔料、金属塩、該金属塩の封鎖剤、液状膜形成性高分子配合物、塩基性化合物、有機溶媒および水を組み合せて含む。本発明はまた前記分散液の使用に関する。 (もっと読む)


【課題】 プリント基板の製造プロセスを簡略化およびその製造コストの低減を可能とする技術を提供すること。
【解決手段】 プラスチックの基板611の上に、めっきシードとしての触媒金属を含有する有機または無機金属化合物を含む溶剤を塗布・乾燥させて金属化合物膜612を形成し、その所望領域に電子線などのエネルギ線613を照射して触媒金属を析出させる。当該照射領域への局所的なエネルギ線照射によりその照射領域のみで金属触媒析出の化学反応が生じ、触媒金属が局所的に析出してパターニングされた金属触媒膜614を得ることができる。また、エネルギ照射された基板611は、表面の溶融により触媒金属を極浅領域に取り込んだり、表面のアブレーションにより触媒金属と基板表面の接触面積が実効的に広くなったり、あるいは化学的改質により基板と触媒金属との結合状態が強固なものとなるので、固着程度が高まり金属触媒膜の剥離が生じ難くなる。 (もっと読む)


【課題】 フレームめっき法を使用して可能な限り均一な厚さとなるように複数の磁性層パターンを安定に形成することが可能な磁性層パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 フォトレジストパターンのうちのフレーム部の厚さとめっき膜の厚さとの間の相関を表す相関データに基づいて、各フレーム部104F1〜104F3の厚さに各開口部104K1〜104K3ごとに差異を設けることにより、各フレーム部104F1〜104F3の厚さが各開口部104K1〜104K3ごとに異なるようにフォトレジストパターン104を形成したのち、そのフォトレジストパターン104のうちの各開口部104K1〜104K3に選択的にめっき膜を成長させることにより複数の磁性層パターン105を形成する。一連の磁性層パターン105の形成厚さがばらつきにくくなり、すなわち一連の磁性層パターン105の形成厚さが均一化される。 (もっと読む)


【課題】 例えデザインルールが厳しくなっても、十分な密着性を有する配線材料を電解めっきによって基板の全面に均一に形成して、信頼性の高い埋込み配線を形成できるようにする。
【解決手段】 絶縁膜内に配線用凹部を形成した基板表面に、配線材料成膜用の電解めっき液に対して不溶性の導電膜を形成し、前記導電膜をシード膜として、電解めっき法により該導電膜の表面に配線材料を前記配線用凹部内に埋込みつつ成膜し、前記導電膜の表面に成膜した余剰の配線材料を除去して前記配線用凹部内に埋込んだ配線材料で配線を形成する。 (もっと読む)


【課題】金属製の細孔または細管の内壁部分を、高耐摩耗性、高耐食性、高耐熱性等の優れた特性を有する金属もしくは合金を場所的に制御された厚さで被覆、並びに成形することを可能にする。
【解決手段】金属製の細孔または細管の内壁を陰極として、この管状空洞内に細身の棒状陽電極を挿入し、前記棒状陽電極の一部表面上に前記内壁と電気的に接触することを防止する絶縁体を固定配置し、前記棒状陽電極と陰極との間隙に管軸方向に沿って電解液を流動させて供給しながら高耐摩耗性、高耐食性、高耐熱性等の優れた特性を有する金属もしくは合金を電解析出させる。電解析出中は前記棒状陽電極全体に管軸方向に往復運動または管軸を中心にした回転運動の少なくとも一つをさせつつ、前記金属もしくは合金を場所的に制御された厚さで電解析出させて、前記細孔または細管の内壁面を選択的に被覆するとともに成形する。 (もっと読む)


金属層は、触媒により活性化された下地材料の表面領域上に、めっきプロセスによって形成されうる。この触媒はCVD、PVDまたはALDによって堆積されるかまたは下地材料を堆積する際に少なくとも部分的に取り込まれる。このようにして、メタライゼーション構造の高アスペクト比のビアに優れた金属シード層を形成することができる。
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【課題】 導電性、耐食性、機械的特性等が優れており、軽量で、加工性に優れ、低コストで量産可能な金めっき構造体、及び燃料電池用セパレーターを提供する。
【解決手段】 チタン基材の表面に、金めっき部と非めっき部とを有し、この金めっき部が直径100nm以下、1nm以上の島状で前記チタン基材の表面に点在していることを特徴とする金めっき構造体、及びこの金めっき構造体からなる燃料電池用セパレーター。 (もっと読む)


【課題】
ウエハーに部分めっきをおこなう際に、陽極と陰極の間に、被めっき物と同極でかつ電流比率をコントロールできる本補助陰極を被めっき物の陽極側全面に格子状あるいは網目状に配置し、めっきエリアの偏在を軽減し、その結果、厚みばらつきの少ないめっきを行なう方法。
めっきエリアの偏在した品物をめっきする場合、めっき厚ばらつきが大きくなる。
ばらつきの大きいことは生産性、コスト、品質に悪影響を及ぼす。
【解決手段】
被めっき物の前に格子状の本補助陰極を配置し、被めっき物と本補助陰極トータルでのめっきエリアの偏在をおさえる。また、被めっき物と本補助陰極に流れる電流を個別に管理することにより、本補助陰極に流す電流を必要最小限に抑える。また、前面に配置した本補助陰極が被めっき物の特定の部分に影響を与えないよう、相対位置をめっき作業中に変化させる。 (もっと読む)


【課題】メッキ液中に添加剤を均一に分散または溶解させることが可能な電解メッキ装置およびこれを用いた電解メッキ方法を提供する。
【解決手段】メッキ液を満たした状態で、基板Wの被処理面に電解メッキ処理を行う電解メッキ槽11と、電解メッキ槽11にメッキ液Mを供給するメッキ液供給管22と、メッキ液供給管22に接続されるとともに、メッキ液供給管22にメッキ液Mの主成分となる電解質溶液を供給する電解質溶液供給部23と、メッキ液供給管22の電解メッキ槽11と電解質溶液供給部23との間の位置に接続されるとともに、メッキ液供給管22に添加剤を供給する添加剤供給部24とを備え、メッキ液供給管22には、添加剤供給部24と接続される位置またはこの位置よりも電解メッキ槽11側に、電解質溶液Eと添加剤A、B、Cとを混合してメッキ液Mを調製する混合機構31が設けられている電解メッキ装置およびこれを用いた電解メッキ方法である。 (もっと読む)


【課題】 コネクタの低背化筐体に適し、長期間在庫放置を経てもウィスカー発生懸念の無い電気電子部品ケースまたはシールドケースの材料を提供する。
【解決手段】 金属基材1上の一部に樹脂皮膜2を有すると共に、樹脂皮膜以外の金属基材上の少なくとも一部に再溶融凝固させたSnまたはSn合金めっき層3を有する電気電子部品ケースまたはシールドケースの材料、前記金属基材上に金属層を少なくとも1層有し、前記樹脂皮膜が前記金属基材上に、直接または前記金属層の少なくとも1層を介して設けられている電気電子部品ケースまたはシールドケースの材料、前記金属基材または前記金属層が下地処理されている電気電子部品ケースまたはシールドケースの材料、前記金属基材表面から樹脂皮膜表面までの高さが60μm以下である電気電子部品用金属材料、及び前記金属材料を用いた電気電子部品ケースまたはシールドケースの部品を提供する。 (もっと読む)


第1の材料にマクロスケール領域を有する秩序化されたシングル・ドメイン・ナノポア・アレイが提供される。制御されたパターンを有するナノポア・アレイを製造する方法は、第1のパターンを有する第1の表面を含む基板を設けることと、第1のパターンを有する第1の表面上に、ナノポアを形成できる第1の材料を付着させることと、第1の材料を陽極酸化し、陽極酸化された第1の材料に制御されたパターンを有するナノポア・アレイを形成することとを含む。 (もっと読む)


【課題】基板上での金属層の電気メッキとこの層のCMP平坦化の両方を実施するための方法および装置を提供すること。
【解決手段】この装置は、研磨パッド(20)を支持するテーブル(10)を含み、これらテーブルおよびパッドは、このパッド上に電気メッキ溶液を分配するためのチャネルを形成する複数の穴部(210、220)を有する。電気メッキ・アノード(201、202、203)は、チャネル内に配置され、かつ電気メッキ溶液に接触するように配置されている。キャリア(12)は、パッド(20)の上面に実質的に平行に基板(1)を保持し、パッドに対して基板に可変の機械的力を加え、したがって基板とパッドとの間隔は、電気エッチング中よりも電気メッキ中に狭めることができる。
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【課題】 湿潤雰囲気で長期間使用した後でも低接触抵抗を示すステンレス鋼製接点材料を提供する。
【解決手段】 Cu:1.0質量%以上,Cr:9質量%以上を含み、Cuリッチ相2が0.2体積%以上の割合でマトリックスに分散したステンレス鋼1を基材とし、膜厚:0.05〜0.7μmのNiめっき層3が基材表面に形成された接点材料である。Cuリッチ相に代え、Cu/(Si+Mn)の質量比が0.5以上のCu濃化層を極表層に形成しても、低接触抵抗を維持する接点材料となる。 (もっと読む)


【課題】ワーク10を選択的に覆う非付着性取付具50,60およびその加工方法を提供する。
【解決手段】
非付着性の取付具50,60は、ワーク用コーティングを塗布する際、ワーク10の部分を選択的に覆う。取付具50,60の所定の表面は、約25Raもしくはそれ以下の平均表面粗さ、および約65Rcもしくはそれ以上のロックウェル硬さを有する。これにより、取付具50,60が、ワーク用コーティングに対し非付着性になる。ロックウェル硬さにより、取付具50,60の反復使用中、所望の平均表面粗さが維持される。取付具50,60により、取付具50,60とワーク10との間に生じるワーク用コーティングのブリッジングおよび、ワーク10に生じるスプレーしずく量が減少する。そのため、コーティング後に必要な手作業および再加工が最小限になり、プロセスのサイクル時間および生産量が著しく向上する。 (もっと読む)


【課題】 電解メッキ用リード配線と金属シート間を絶縁するための絶縁層にピンホールが生じても、金属シートの表面にメッキ金属が析出することを防止できる配線回路基板前駆構造物集合シートを提供する。
【解決手段】 金属シート1の複数の配線回路基板被形領域1Aの各領域に、ベース絶縁層2、配線パターン3及びカバー絶縁層4がこの順に積層され、さらに該カバー絶縁層の所定部分に端子形成用の開口部4aが形成された配線回路基板前駆構造物10を設ける一方、電解メッキ用リード配線被形成領域1Bに、第1絶縁層12、配線パターン3と同一プロセスで形成されて、配線パターン3に繋がった電解メッキ用リード配線13、及び第2絶縁層14をこの順に積層し、金属シート1の電解メッキ用リード配線13の下に位置する部分に開口部16を設ける。 (もっと読む)


【課題】
従来の方法では十分な製造速度が得られなかったり、レジストで作られた細長いマスクの中に空気の泡が残ってしまい、銅ポストの径がφ50μm以下でかつ高さが50μm以上のような細い製品の場合良好な作業が出来ない場合が発生していた。また、その設備は高度な機構を使用しているものが多く、価格的に高価なものが多かった。
【解決手段】
本発明はプラズマによるドライ洗浄により、薬液のヌレ性を確保し、かつ、回転式治具を使用することで泡かみなく銅ポストを製造することができる。
また、一度に銅ポストのレジストマスクを形成するのではなく、数回に分けてレジスト製版及び銅ポスト形成を繰り返すことで、高速でかつ精度の高い銅ポストの製造が可能となった。 (もっと読む)


【課題】 複雑な構造を用いることなく、添加剤、特に埋め込み性に影響を及ぼすアクセラレーターの分解を十分に抑制することができるメッキ装置を得る。
【解決手段】 アクセラレーターが添加されたメッキ液を入れるメッキ槽と、含リン銅からなるアノードと、カソードとなる被メッキ基板を支持する支持部と、アノード近傍のメッキ液を加熱する加熱手段と、アノード近傍からカソード近傍へ流れるメッキ液を冷却する冷却手段とを有する。 (もっと読む)


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