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Fターム[4K024AB19]の内容

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Fターム[4K024AB19]に分類される特許

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【課題】Snめっき被膜の摺れや脱落を防止することにより、ロールのメンテナンス性に優れ、生産性を向上させることができるSnめっき被膜及びそれを有する複合材料を提供する。
【解決手段】樹脂層又はフィルム4を積層した銅箔又は銅合金箔1の他の面に形成され、電着粒の大きさが1.0μm以上であるSnめっき被膜2である。 (もっと読む)


被コーティング物品及び関連する方法が記載される。幾つかの場合では、被コーティング物品は、高強度、高硬度、高輝度、高耐摩耗性、高耐腐食性、及び他の所望の構造的かつ機能的特性を示すことができる。幾つかの実施形態では、コーティングは、ニッケル−タングステン合金のような合金、及び/又は金属酸化物を含むことができる。
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【課題】被覆ゴムとの接着性に優れるとともに伸線性にも優れたスチールワイヤ材を提供することを目的とする。
【解決手段】スチールワイヤ材10のワイヤ本体11の周面に形成されたブラスめっき層12を、多層めっき構造とするとともに、ワイヤ本体11側の合金層21〜28(第1層〜第8層)を、加工性(伸線性)が良好である高Cu層(Cu組成比;65〜75wt%)とし、表面側の合金層31〜34(第9層〜第12層)を、接着耐久性が良好である低Cu層(Cu組成比;50〜60wt%)とした。 (もっと読む)


【課題】Cu合金からなる基台にSn合金層からなる摺動面を備えた軸受において、Cu−Snからなる金属間化合物が形成されるのを抑制してSn合金層が基台に充分な剥離強度を以って保持される軸受を提供すること。
【解決手段】Cu合金からなる基台11にホワイトメタル層13からなる摺動面10を有する軸受1であって、前記基台11は前記摺動面10側に微細凹凸部15が形成されるとともに強磁性金属又はその合金からなるめっき層12が被覆され、前記めっき層12を介してホワイトメタル層13が形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、メタノールを燃料とする燃料電池において用いる透過性の構成材において、メタノールの酸化反応により生じる蟻酸による孔径の変化及び劣化を防止し、クロスオーバーを防ぎ、燃料電池の高エネルギー密度化、高出力化と長寿命化を図る構成材としての孔開き金属箔を提供することを目的とする。
【解決手段】メタノールを使用する燃料電池の構成材であり、厚さ方向に複数の微細貫通孔を備える孔開き金属箔であって、平均厚さが3μm〜50μmであり、少なくとも表面が耐蟻酸性材料からなる孔開き金属箔を採用することにより、耐食性に優れ、長期的に性能を安定させることができる透過膜とする。 (もっと読む)


【課題】めっき層のサイドエッチングによって設計値よりも配線のトップ幅が狭くなってしまうことを効果的に防止でき、特に、半導体チップ等を搭載させた場合にも、位置合わせや抵抗増加の問題が生じないプリント配線板用基材、銅張積層板およびフレキシブル銅張積層板ならびにその製造方法を提供する。
【解決手段】基材11の導電性12、13を有する表面に、複数の金属めっき層16、17、18を積層し、かつこれら複数の金属めっき層を、少なくとも表層18のエッチングレートが基材表面に接触している底層16よりも小さいプリント配線板用基材1とした。また、プラスチックフィルム11の導電性を有する表面に、プラスチックフィルムから露出表面に向けて銅よりもエッチングレートの小さい金属を漸次または段階的に多く含有する金属めっき層16、17、18を形成したフレキシブル銅張積層板1とした。 (もっと読む)


【課題】クロムコーティング以外のコーティングを利用することは可能ではあるが、クロムコーティングと同じ性能を与えるクロムコーティング以外のコーティングおよびその加工方法を見出す。
【解決手段】基材12およびこの基材に施されたコバルト−燐コーティング14からなる物品10を熱処理する。この熱処理によって、コバルト−燐コーティング14の少なくとも1つの物理特性を変え、延いては、物品の性能特性を変化させる。物品は、例えば、ボアと、少なくとも部分的にこのボア内に可動に配置されたシャフトと、を有するアクチュエータの部品とすることができる。 (もっと読む)


【課題】大表面積のNi電極表面に対しても簡便に高比表面積化が可能であり、水の電気分解時に生じる気体ガスの気泡の影響を受けにくい電気分解用電極及びその製造方法を提供する。
【解決手段】電解液を電気分解するための電極101において、基板となる電極心材と、電極心材表面に形成された複数の凸状構造体102とを有し、凸状構造体102は木の葉状の形状を有し、それぞれが電極心材表面から隆起していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】密着性がよく、錆が発生し難いめっきパターン部材及び電磁波シールド材を提供する。
【解決手段】基材1と、基材1上に設けられた樹脂層2と、樹脂層2上に所定のパターンで設けられた被めっき層3と、被めっき層3上に設けられためっき層4と、めっき層4を隙間無く覆うように設けられた後処理層5とを有し、被めっき層3の下にある樹脂層2は、被めっき層3が設けられていない部分Bの厚さTよりも厚い山形状又は丘形状からなり、被めっき層3は、樹脂層2の中腹より上に形成されているように構成される。 (もっと読む)


【課題】構成材料と犠牲材料の両方の着電に基づいて多層3次元構造を形成する。
【解決手段】めっきされる基板2に、マスク6および支持体8を含む第1の物品4aを接触させ、第1の金属イオン源が存在している状態で、第1の金属(例えば犠牲金属)12を堆積し、マスク16および支持体18を含む第2の物品14を基板2に接触させ、第2の金属イオン源が存在している状態で、第2の金属(例えば構成金属)20を堆積し、層を平坦化する。そして、異なるパターンの電気めっき物品4a、4b、14a、14bを用いて上記した方法を繰り返し、多層構造24を生成する。犠牲金属12の全てをエッチングすることによって、エレメント26を得る。 (もっと読む)


【課題】構成材料と犠牲材料の両方の着電に基づいて多層3次元構造を形成する。
【解決手段】めっきされる基板2に、マスク6および支持体8を含む第1の物品4aを接触させ、第1の金属イオン源が存在している状態で、第1の金属(例えば犠牲金属)12を堆積し、マスク16および支持体18を含む第2の物品14を基板2に接触させ、第2の金属イオン源が存在している状態で、第2の金属(例えば構成金属)20を堆積し、層を平坦化する。そして、異なるパターンの電気めっき物品4a、4b、14a、14bを用いて上記した方法を繰り返し、多層構造24を生成する。犠牲金属12の全てをエッチングすることによって、エレメント26を得る。 (もっと読む)


【課題】
基板へのはんだ付け性が良好で、保管時およびFPCまたはFFCへのかん合時に、端子部にウィスカが発生しない、鉛フリ-のコネクタに必要な金属条を提供する。
【解決手段】
金属条の母材金属上にNiめっきを施し、その上に光沢剤を含まないSn-(1〜4mass%)Cuめっきを施す。この金属条をSn-(1〜4mass%)Cu合金の融点(固相線)以上の温度で熱処理することにより、Niめっき層の上にCu-Sn化合物層もしくはCu-Ni-Sn化合物層、Cu-Sn化合物層もしくはCu-Ni-Sn化合物層の上にSn層もしくはSn-Cu合金層を形成する。さらに、この金属条を加工してコネクタを形成する。 (もっと読む)


【課題】貴金属のナノ粒子からなる多次元構造体、その微構造化技術及び電気化学素子等の部材を提供する。
【解決手段】1次粒子より構成されるナノメートルサイズの多次元的な構造を有する微構造化貴金属体であって、直径1から15nmの大きさの粒子形状を有すること、上記の多次元的な構造が、5から200nmメートルの大きさの線径を有する細線形状、もしくは5から200nmの表面粗さを有する凹凸構造又は突起状構造、もしくは5から200nmの大きさの径を有する球状の構造を有すること、これらの構造が、テンプレートを必要としない自立状態で形成されていること、で特徴付けられる微構造化貴金属ナノ構造体と、その製造方法、及び電気化学素子、電極材料、触媒材料並びに窒素酸化物浄化反応器等の部材。
【効果】自立した状態のナノメートルサイズの多次元的な構造体へ変化させた微構造化貴金属ナノ構造体とその部材を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】高温環境下に曝されても良好なはんだ付け性及び低接触抵抗を保持し且つ低挿抜性であるSnめっき材を提供する。
【解決手段】銅又は銅合金の表面に下地Niめっき層、中間Cu−Zn系めっき層及び表面Snめっき層を順に有するSnめっき材であって、下地Niめっき層はNi又はNi合金で構成され、中間Cu−Zn系めっき層はZnを5〜10000質量ppm含有し、且つ、中間Cu−Zn系めっき層中には少なくとも表面Snめっき層に接する側にSn−Cu−Zn合金層が形成されているSnめっき材。 (もっと読む)


【課題】マイクロポーラスめっきに生じるシミや暈けといっためっきに関わる不具合を防止し、めっきの耐食性を向上させ、更にめっき液の連続濾過が可能になり、このめっき液と電位を容易に維持管理する。
【解決手段】樹脂成形品又は金属製品等の被めっき素材に、ニッケルめっき工程S5によりニッケルめっき層を形成し、ニッケルめっき層に、マイクロポーラスめっき工程S7によりマイクロポーラスめっき層を形成し、マイクロポーラスめっき層に、フラッシュめっき工程S8によりフラッシュめっき層を形成し、フラッシュめっき層に、仕上めっき工程S10により仕上めっき層を形成する。 (もっと読む)


【課題】装飾3価クロムめっきを基本として、高い耐食性を有し、且つ6価クロムめっきと類似または同等の白銀色の意匠を呈することのできるクロムめっき部品を提供する。
【解決手段】素地2上に腐食電流分散を目的としたニッケルめっき層5aを形成するとともに、その表面に塩基性硫酸クロムを金属供給源とした膜厚0.05〜2.5μmの3価クロムの表面クロムめっき層6を形成し、さらにその上に陰極酸性電解クロメート処理により膜厚が7nm以上のクロム化合物皮膜7を形成する。腐食分散ニッケルめっき層5aは、表面クロムめっき層6に対しマイクロポーラス構造もしくはマイクロクラック構造、またはこれらの双方の構造を生じさせる機能を有する。 (もっと読む)


【課題】ノーシアンタイプのめっき浴で製造した銅−錫合金めっき皮膜の欠点(めっき皮膜厚が2μm以上になると、連続的衝撃に対して非常に早い段階でめっき皮膜が磨耗し、あるいは剥離する)を解消する、及び経時による変色の問題を改善する装飾用、服飾用の用途に適した銅−錫合金めっきの提供。
【解決手段】少なくともη―Cu6.26Sn5相を有する銅―錫合金めっきであって、X線回折によるη―Cu6.26Sn5の(101)面に相当する2θピーク積分強度I(101)とη―Cu6.26Sn5の(110)面に相当する2θピーク積分強度I(110)との強度比[I(110)/I(101)]が、0.9以上20以下であり、さらに好ましくはβ―Sn相を有し、X線回折によるβ−Snの(211)面に相当する2θピーク積分強度I(211)とβ−Snの(101)面に相当する2θピーク積分強度I(101)との強度比[I(101)/I(211)]が、1.0以上20以下である銅―錫合金めっき。 (もっと読む)


【課題】針状ウィスカ10の発生を抑制した鉛フリーめっき層2を持つめっき部材3を得る。
【解決手段】めっき層2のめっき材料がSn系めっき材料であり、めっき層表面において、Sn結晶粒の(001)面の占める割合が最も多くなるようにめっき層2を形成する。 (もっと読む)


導電性ナノ構造ベースの透明導電体のコントラスト比を向上させる方法について説明する。コントラスト比は、導電性ナノ構造をめっきし、その後、下層の導電性ナノ構造をエッチングまたは酸化するステップによって、ナノ構造の光散乱および反射率の低減によって大幅に改善する。一実施形態は、基板と、基板上の導電性膜であって、複数の金属ナノ構造を備える導電性膜とを備える透明導電体であって、1000を超えるコントラスト比を有する透明導電体について説明する。
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【課題】鉛フリーの材料からなるめっき層を有するめっき部材において、めっき層の結晶方位面およびその配向指数を制御してウィスカが発生するのを抑制する。
【解決手段】基材1の表面に鉛フリーの材料からなるめっき層2を有するめっき部材3において、めっき層における(321)面の配向指数を15以上とし、かつ(220)面の配向指数を0.5以下とする。または、めっき層における(220)面の配向指数を10以上とし、かつ(321)面の配向指数を1.0以下とする。 (もっと読む)


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