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【課題】非水電解液の流通が可能な経路が活物質層内に必要且つ十分に形成され、初期充電の過電圧を低くすることが可能な非水電解液二次電池用負極を提供すること。
【解決手段】非水電解液二次電池用負極10は、活物質の粒子12aを含む活物質層12を備えている。粒子12aの表面の少なくとも一部がリチウム化合物の形成能の低い金属材料13で被覆されている。これと共に、該金属材料13で被覆された該粒子12aどうしの間に空隙が形成されている。該粒子12aの嵩密度が0.2〜0.8g/mlである。 (もっと読む)


【課題】凹凸形状の微細加工に適し、製造効率を向上させた複合金属箔、複合金属箔の製造方法、成形金属箔及び成形金属箔の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】凹凸形状を有する複合金属箔ならびに成形金属箔の製造において、作製すべき複合金属箔ならびに成形金属箔の凹凸形状に対応する凹凸形状をキャリア基材表面に形成する工程と、前記凹凸形状が形成されたキャリア基材の表面に沿うようにして気相成長法を用いて被覆金属層を形成する工程とを含む製造方法を採用する。 (もっと読む)


【課題】 導電性及び光透過性を有するようにパターニングされた電磁波遮蔽部材に有用な導体層パターン付き基材を転写法を用いて生産性よく製造するためのめっき用導電性基材を提供する。
【解決手段】 凸部のパターン及びそれによって描かれる幾何学図形状の凹部を有し、凸部の上端から0.5〜3μm低い位置よりも低い位置の凹部表面に絶縁層が形成されており、凸部の導電性基材の露出部分の幅が1μm〜40μmであって、凹部に絶縁層を施した後の凸部の高さが、10μm以上であるめっき用導電性基材。凸部の露出部分が先端方向に進むにつれて幅が広がっておらず、全体として下部よりも上部で幅が小さくなっていることが好ましい。
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【課題】空隙を持たず、結晶粒サイズのそろっているナノ結晶金属・合金は組成・粒サイズをコントロールできることから、優れた機械的特性を示す材料として期待されている。該ナノ結晶金属・合金の配合成分を制御することにより、より優れた機械的特性を示す材料を提供することが求められている。
【解決手段】電着法でFCCナノ結晶金属に炭素を固溶させることにより、炭素が粒界に偏
析し、優れた機械的特性を示すこと、さらには、該炭素を固溶させたFCCナノ結晶金属を
熱処理することで、より優れた機械的特性が得られる。当該ナノ結晶FCC金属合金は、メ
ムス(MEMS)、表面コーティング、切削工具、半導体装置及びその部品などにおいて用いることができて有用である。 (もっと読む)


【課題】マスキングしなくても変形部材に影響を与えない部分メッキを簡易かつ低コストで処理することができる2色成形部材、及び変形部材が変形してもメッキ部分に影響を与えない上記2色成形部材から製作される2色製品等を提供すること。
【解決手段】2色成形部材30は、メッキ処理不可材料で成形された、変形部材13を含む第1の部材11、12と、メッキ処理可能材料で成形された、前記第1の部材と一体化された第2の部材21、当該メッキ処理を仲介するメッキ仲介部材22及び前記メッキ仲介部材と前記第2の部材とを繋ぐ第3の部材23とを備える。前記第3の部材は、少なくとも前記変形部材と離間させて成形されている。これにより、第3の部材をマスキングしなくても変形部材に影響を与えずに第2の部材のメッキを簡易かつ低コストで処理することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、ハロゲン化銀粒子を含む層を有する原版(電磁波遮蔽材料用原版)を用いて、高い導電性と、光透過性を有し、電子ディスプレイ機器の画像表示面からの電磁波をシールドするのに好適な透光性の電磁波遮蔽材料を得ることにある。
【解決手段】支持体上に、少なくともハロゲン化銀粒子と、架橋性バインダー樹脂、及び前記架橋性バインダー樹脂に架橋していない水溶性化合物、を含有する層を有する電磁波遮蔽材料用原版に、パターン露光、現像処理、物理現像及び/又はメッキ処理、を順次行うことを特徴とする電磁波遮蔽材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】プラズマディスプレイ電磁波遮蔽フィルター用銅箔において特に強く要求される特性、銅箔のラミネート面が黒色系であり、且つ、粗化粒子等の脱落がないこと、銅箔のラミネート面が低粗度であること、銅箔のラミネート面の平滑性が高いこと、以上の特徴を有したプラズマディスプレイ電磁波遮蔽フィルター用銅箔を提供すること。
【解決手段】銅箔の少なくとも一方の面に銅の微細粗化粒子処理層を施し、且つ、十点平均粗さRzを2.0μm以下に調整することで、JIS Z8701に記載の表色系XYZ(Yxy)Yが8.0以下であり、且つ、JIS Z8741に基づきGs(60°)で測定した鏡面光沢度が40以上である、黒色、低粗度、高い平滑性という特徴を有したプラズマディスプレイ電磁波遮蔽フィルター用銅箔。 (もっと読む)


【課題】長尺のフラットケーブルの導体露出部に露出する複数本の導体が確実にメッキ電源に接続され、メッキ洩れ導体が生じないフラットケーブルの電気メッキ方法とフラットケーブルの製造方法を提供する。
【解決手段】複数本の導体を平面上に配列して、導体の配列面の両面を絶縁樹脂で被覆した長尺のフラットケーブル1の長手方向に、所定の間隔で複数の導体露出部3を設け、この導体露出部3の導体4に電気メッキ施す方法である。長尺のフラットケーブル1の少なくとも1個所の導体露出部3で、露出する複数本の導体4を導電部材10で接続一体化して電気的に接続し、フラットケーブルをメッキ液に浸す。また、導体露出部3の露出する導体4は、導電部材10で接続一体化した部分を切断除去する切断代dを有する。 (もっと読む)


導電性の、構造化された、又はほぼ平坦な表面を支持体上に製造する方法であって、第1工程で、マトリックス材料中に導電性の粒子を含む分散物を使用して、構造化された又はほぼ平坦な基礎層を支持体上に施し、第2工程で、マトリックスを少なくとも部分的に硬化及び/又は乾燥させ、第3工程で、マトリックスを少なくとも部分的にブレークすることによって導電性の粒子を露出させ、そして第4工程で、無電解及び/又は電解被覆によって、構造化された又はほぼ平坦な基礎層上に金属層を形成することを特徴とする方法。 (もっと読む)


【課題】非シアンの酸性のめっき浴を用いて、パターンめっきにおけるレジストの溶解がなくかつ密着性の良好な銀めっきを施す方法を提供する。
【解決手段】非シアンの酸性の銀めっき浴(A)を用いて銀めっきを行う銀めっき方法において、当該の銀めっき工程に先立って、非シアンの酸性のストライク浴(B)を用いてストライクめっきする工程を含む銀めっき方法。 (もっと読む)


【課題】電池缶の外表面に安定かつ良好な電気接触性を付与できるとともに、その電池缶が絞りプレス加工により作製される際にメッキ面に生じる損傷を少なくして、電池内部でのガス発生を抑制することができるようにした電池缶用メッキ鋼鈑を提供する。これにより、機器との間で安定な電気接触状態を形成することができるとともにガス発生の少ない電池およびアルカリ乾電池を提供する。
【解決手段】ニッケルを主とするメッキが両面に施された電池缶用メッキ鋼鈑110において、メッキ下地となる鋼鈑111の片面をダル仕上げ面111aとし、他方の面をブライト仕上げ面111bとする。 (もっと読む)


【課題】めっき密着性に優れたCu−Ni−Si系合金を提供することである。
【解決手段】1.0〜4.5質量%のNiおよび0.2〜1.0質量%のSiを含有する銅合金に10〜100質量ppmのAlを添加し、表面のAl濃度を0.01〜0.5質量%に調整することにより、めっき密着性に優れたCu−Ni−Si系合金が得られる。このCu−Ni−Si系合金は、Mg、Zn、Sn、P、Ag、Mn、CoおよびCrのなかの一種以上を、合計で0.005〜3.0質量%以下含有することができる。 (もっと読む)


【課題】黒化処理用の電解液に浮遊物が発生しにくく、しかも得られた黒化層にすじむらや汚れが生じにくく、かつ該黒化層を湿熱条件保存下でも色味の経時変化が少ない黒化処理方法を提供すること。また、該処理方法を用いた導電性金属膜とその製造方法、さらに、色味変化が小さく、密着性も良好で黒化層が剥離しにくいプラズマディスプレー用の電磁波シールド膜を提供すること。また、住宅、工場などで汎用の導電性金属膜を提供すること。
【解決手段】ニッケル塩、亜鉛塩、チオシアン酸塩及びpKaの少なくとも1つが3〜6でカルボキシル基を1〜3個有する炭素数1〜5の脂肪族化合物を含有するめっき液を用いる電解めっきによって黒化層を形成めっき処理方法。また、該メッキ処理方法を用いた導電性金属膜及び透光性電磁波シールド膜、さらに透光性導電性シールド膜。 (もっと読む)


【課題】 最適な合金層を形成することによりウィスカの発生を防止することができる合金の製造方法およびフラットケーブルの製造方法を提供する。
【解決手段】 錫メッキ銅線条体10を高周波電圧が印加され磁界が生じたコイル12の上方を通過させることにより、錫メッキ銅線条体10に誘導電流を発生させて発熱させるので、急峻な立ち上がりで錫メッキ銅線条体10を加熱することができ、合金層11を形成することができる。また、温度の調整は、高周波電圧の制御のみならず、錫メッキ銅線条体10の送り速度の調整、非接触なのでコイル12と錫メッキ銅線条体10との距離の調整等により行うことができる。このとき、錫メッキ銅線条体10を錫の融点より若干低い温度に加熱するので、合金層11を形成するとともに錫だまりの発生を抑えて、ウィスカの発生を抑えることができる。 (もっと読む)


【課題】光沢化等の他の特性を大きく変化させずに、また、電流効率を大きく低下させずに、高い白色度を有する電気亜鉛めっき鋼板を製造できるようにする。
【解決手段】酸性めっき浴中で鋼板を陰極として電解して電気亜鉛めっき層を形成するに際し、メルカプト基(−SH)を有する有機化合物の1種又は2種以上を合計で0.5〜30mg/l含有する酸性めっき浴中で、電解を5回以上に分割して行うとともに、前記各々の電解の間に、鋼板を前記酸性めっき浴中に0.2秒以上浸漬する工程を有する。 (もっと読む)


【課題】従来の金属塩が含浸された活性炭素や各々の金属を連続的に鍍金して製造された複合体に比べて高い堅着力および比表面積を維持し、純粋な金属の導入により反応性が良く、金属の組成および含量の微細制御が可能であり、気相/液相の汚染源除去用フィルタ素材および二次電池、燃料電池、コンデンサ、水素貯蔵体電極材料用活物質に有用な活性炭素−多種金属複合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】2種以上の金属からなる合金板が設置された陽極と、伝導性支持体に固定された活性炭素の陰極を利用した電気鍍金を行い、前記活性炭素の表面に2種以上の金属が導入された複合体を形成することを特徴とする活性炭素−多種金属複合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】すずめっきの耐熱剥離性を改善したCu−Sn−P系合金すずめっき条を提供する。
【解決手段】1〜12質量%のSn及び0.01〜0.35質量%のPを含有する銅基合金を母材とするCu−Sn−P系合金すずめっき条において、めっき層と母材との境界面におけるC濃度を0.10質量%以下に調整する。母材は、更にZn、Fe、Ni、Si、Mn、Co、Ti、Cr、Zr、Al及びAgの群から選ばれた少なくとも一種を合計で0.005〜3.0質量%の範囲で含有することができる。 (もっと読む)


【解決手段】水溶性錫塩と、無機酸及び有機酸並びにその水溶性塩から選ばれる1種又は2種以上と、水溶性タングステン塩、水溶性モリブデン塩及び水溶性マンガン塩から選ばれる1種又は2種以上とを含有する錫電気めっき浴。
【効果】チップ部品、水晶発振子、バンプ、コネクタ、リードフレーム、フープ材、半導体パッケージ、プリント基板等の電子機器を構成する部品などに、錫−鉛合金めっき材料の代替としてウィスカ抑制効果の高い錫めっき皮膜を形成できる。 (もっと読む)


【課題】 錫やその合金の無鉛のはんだ付け性の劣化を防止することができる水性処理液および表面処理方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の水性処理液は、下記の一般式(1)で表されるトリアジンチオール化合物と、一般式:NRで表されるアミン化合物(式中、R,R,Rは同一または異なって水素原子または水酸基を有していてもよいアルキル基を示す)と、脂肪酸エステル化合物および/またはアルキル硫酸エステル化合物を少なくとも含有することを特徴とする。
【化1】



(式中、R,Rは同一または異なって水素原子,アルキル基,アリール基のいずれかを示す。Rはアルキル基または−SXを示す。X,Xは同一または異なって水素原子またはアルカリ金属を示す) (もっと読む)


【課題】酸に弱い素材の部品にも適用することができ、Sn及びSn合金に耐酸化性を付与し、はんだ濡れ性を改善する表面処理剤を提供する。更に、Sn及びSn合金のウィスカーの発生を抑制する表面処理剤を提供する。
【解決手段】タンニン酸を0.01g/L以上含むことを特徴とするSn及びSn合金に対する表面処理剤。溶媒として水系溶媒を用いた場合は、溶液のpHを3〜5に調整することが好ましい。また、更に酸化防止剤を含むことによりタンニン酸を安定化することができる。 (もっと読む)


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