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Fターム[4K024BB14]の内容

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Fターム[4K024BB14]に分類される特許

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【課題】繰り返し加わる衝撃に対しては十分な耐衝撃性を有すると共に、優れた耐食性を有する希土類永久磁石及びそれを用いたモータを提供する。
【解決手段】希土類焼結磁石は、磁石素体11と、前記磁石素体の表面に形成される被覆層とを有し、前記被覆層が、前記磁石素体に対して垂直方向に±10°の範囲内で成長した柱状結晶13と、前記柱状結晶から前記柱状結晶とは異なる方向に成長した双晶14とを含み、前記柱状結晶の存在比率が、前記磁石素体の表面に形成される前記被覆層に対して20%以上80%以下である。 (もっと読む)


本開示は一般に、磁性電気メッキまたは電着のための技術に関する。例示の方法は、基板へのメッキ材料の析出反応速度を変更するために電着中に磁石を使用することを含むことができる。
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本発明は、金属化された基体を調製するためのプロセスであって:この基体上に、少なくとも1つの金属イオンをキレート化し得る基を必要に応じて保有するポリマー型の化合物をグラフト化する工程と;少なくとも1つの金属イオンをキレート化し得るこのポリマー型の化合物を少なくとも1つの金属イオンと接触して配置する工程と、ポリマー型のこの化合物を、このキレート化された金属イオン(単数または複数)を還元するための条件に供する工程と、金属化された基体が得られるまでこのキレート化/還元工程を繰り返す工程とからなる工程を包含するプロセスに関する。本発明はまた、このプロセスにより得られる基体、およびその使用に関する。 (もっと読む)


【課題】耐食性、耐磨耗性、耐衝撃性を向上させることにより、自動車向けIPM型モータに最適な希土類永久磁石を提供する。
【解決手段】希土類永久磁石16は、R−Fe−B系永久磁石(Rは希土類元素)22の表面に、膜厚が15μm以上30μm以下の柱状結晶状の電気Niめっき被膜21を有する。この電気Niめっき被膜21は、ビッカース硬度が300以上600以下の高硬度領域とビッカース硬度が150以上300以下の低硬度領域とを有する。この希土類永久磁石16は、自動車用IPM型モータのロータヨーク内のスロットに挿入して使用される。 (もっと読む)


【課題】気泡の抜けが比較的よく、広い設置面積を必要としないディップ方式を採用し、しかもアノードとして強磁性体を使用したとしても、磁気異方性の均一性に影響を与えることを極力防止しつつ、基板表面に磁性体膜を形成することができるようにする。
【解決手段】内部にめっき液Qを保持するめっき槽40と、めっき槽40の内部のめっき液Qに浸漬される位置に鉛直に配置されるアノード220と、基板Wを保持してアノード220と対向する位置に位置させる基板ホルダ26と、めっき槽Qの外方に配置され、基板ホルダ26で保持してアノード220と対峙した位置に位置させた基板Wの周囲に磁界を発生させる磁界発生装置114を有する。 (もっと読む)


【課題】レジストパターンとめっきベースとの密着性を良好にでき、めっきパターンの断面形状を正確に形成できるめっき方法および磁極形成方法を提供する。
【解決手段】めっきベース11上に、分子接着剤であるアルコキシシリルプロピルアミノトリアジンジチオールを溶剤に溶解した溶液を塗布した後、溶剤を揮発させて分子接着剤層15を形成する工程と、分子接着剤層15を介してめっきベース11上にレジスト30を塗布し、レジスト30を所定のパターンに露光現像してめっきベース11の一部を露出させる工程と、めっきベース11の露出部上に分子接着剤層15を介してめっきする工程とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】開口部における異物の付着が抑制された、光透過性に優れる導電性シートの製造方法を提供する。
【解決手段】パターン形成された導電層を有する透明基板を電気めっき液に浸漬し、前記導電層に通電することにより電気めっき処理すると共に、前記導電層の通電されてない部分を、前記電気めっき液に含まれる酸で溶解させることを特徴とする導電性シートの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 特に、メッキ浴中にサッカリンナトリウムを加えなくメッキされた膜と、メッキ浴中にサッカリンナトリウムを加えてメッキされた膜とを積層することで、例えば、膜特性を劣化させることなく、自然酸化抑制機能を備えたNiを有するメッキ膜及びその製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 下側メッキ膜1は、メッキ浴中にサッカリンナトリウムを加えることなくメッキ形成され、上側メッキ膜2は、メッキ浴中にサッカリンナトリウムを加えてメッキ形成されたものである。前記上側メッキ膜2中であって、膜表面2aよりも下方の位置にNiS層4が存在する。これにより、膜特性を劣化させることなく、自然酸化抑制機能を備えた積層構造にできる。 (もっと読む)


【解決課題】エピタキシャル薄膜成長用の配向基板において、基板表面の配向度及び平滑性が従来のものよりも改善されたものを提供する。
【解決手段】本発明は、少なくとも片面に配向化金属層を有するエピタキシャル膜形成用配向基板の表面上に金属薄膜からなり1〜5000nmの厚さの配向性改善層を備え、配向化金属層表面における配向度(Δφ及びΔω)と、配向性改善層表面における配向度(Δφ及びΔω)との差が、いずれも0.1〜3.0°であることを特徴とするエピタキシャル膜形成用配向基板である。また、この配向基板配向性改善層を構成する金属と異なる他の金属を、膜厚相当で30nm以下付加した後に熱処理を行うと、その表面の平滑性を改善することができる。このとき、基板表面の表面粗さは20nm以下となる。 (もっと読む)


【課題】従来の検査・解析医療用磁気デバイスの製造する方法のようにスパッタ装置やドライエッチング装置などの真空系装置を使用すると、コスト、大量生産の面で不利であった。そこでスパッタ装置やドライエッチング装置などの真空系装置を使用せず、湿式プロセスのみで安価で大量に生産可能な方法を提供する。
【解決手段】ガラス、セラミックあるいは樹脂基板の上に磁性膜を形成する製造工程を電気めっき、無電解めっき等の湿式プロセスのみとした。 (もっと読む)


【課題】基板である鉄鋼材料の表面に、下地膜を準備することなく、大面積を有する表面への成膜が容易に可能な生産性や費用効果が高い電気めっき法を用いることにより、鉄鋼材料の表面上に、結晶c軸の高い配向性を有する磁性膜を生成する方法を提供する。
【解決手段】鉄鋼材料の表面上に結晶c軸配向性を持つ磁性膜を電気めっきで作製する膜生成方法であって、めっき液はpHが5〜9のCo2+イオンを含む溶液であり、該めっき液中で前記鉄鋼材料に電流密度0.5〜100mA/cm2で電気めっきをすることを特徴とする膜生成方法である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、交互する異なった材料組成の第一強磁性層と第二強磁性層とを包含する構造を形成する方法に関する。
【解決手段】最初に、少なくとも一つの開孔を有する支持マトリックスと、導電ベース層とを包含する基材が形成される。次いで、少なくとも一つの強磁性金属元素と、さらなる一つ以上の異なった金属元素を包含する電気メッキ液の中で該基材の電気メッキが行われる。交互する高電位と低電位とを有するパルス電流を基材構造の導電ベース層に印加し、これにより、支持マトリックスの開孔中に、交互する異なった材料組成の層を形成する。 (もっと読む)


【課題】電気めっき法による磁性膜を製造する際に、磁性膜の成長が早く、かつ、異常析出の形成を防止する磁気記録装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被めっき体1の基板11上に磁性膜13をめっき法で形成する磁気記録装置の製造方法において、前記磁気記録装置の製造方法は、磁性膜13を析出させる析出工程と、磁性膜13に発生する異常析出14を除去する溶解工程とを有する。生産性の高いDCめっき法を用いて磁性膜13を析出、成長させて、このときに、生ずることがある異常析出14を除去する。これによって、高生産性と磁性膜の安定した特性の両方を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】レジストの硬化やヒビ割れ、開口幅の拡大および下地酸化の少なくとも一つを抑制しつつ、微細パターンのメッキやウエットエッチングを実現する新規な技術を提供する。
【解決手段】下地上にレジスト膜を形成し、その上から選択的に露光および現像を行い、その後メッキ処理またはウエットエッチング処理することを含んでなるパターン形成方法において、メッキ処理またはウエットエッチング処理前に、下地表面を水溶性ポリマーおよび水を少なくとも含んでなる表面処理剤を用いて処理する。 (もっと読む)


【課題】磁石とめっき液との接触を防止するとともに、磁石を被めっき物の近傍に配置することができるめっき用治具を提供する。
【解決手段】本発明のめっき用治具2Aは、開口部10Gを有する第1の絶縁板10と、被めっき物Pが開口部10Gから外部に臨むように該被めっき物Pを第1の絶縁板10との間で挟持する第2の絶縁板20と、開口部10Gの周縁に位置して第1の絶縁板10と被めっき物Pとの間に介在して設置された内側シール30と、被めっき物Pの外側に位置して第1の絶縁板10と第2の絶縁板20との間に介在して設置された外側シール40と、内側シール30と外側シール40とによってシールされた空間内において被めっき物Pに電気的に接続する伝導体50と、内側シール30と外側シール40とによってシールされた空間内に配置され被めっき物Pを挟んで対向するN極とS極とを有する磁場形成体60と、を備える。 (もっと読む)


【課題】パターン化された磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板及び所定間隔をおいて配列された複数の磁気記録層を備えるパターン化された磁気記録媒体であり、磁気記録層は、Co、Pt及びNiを含む合金で形成されたパターン化された磁気記録媒体。これにより、読み出し及び書き込み特性に優れ、高い耐蝕性及び記録密度を有する。 (もっと読む)


【課題】 接着性を改善した、希土類系永久磁石に関する。
【解決手段】 積層めっき皮膜を有する希土類系永久磁石であって、めっき皮膜の最表層が膜厚0.1μm以上3μm以下のSnCu合金めっき皮膜であり、前記SnCu合金めっき皮膜の組成は、Snが35mass%以上55mass%以下で残部が実質的にCuである。本希土類系永久磁石を用いて作成した接合構造体はシリコーン系接着剤との組み合わせにおいて、良好な初期接着強度を持ち、耐湿性試験後においても接着強度の低下が少ない。 (もっと読む)


【課題】被膜特性および磁気特性に優れた方向性電磁鋼板を提供する。
【解決手段】インヒビター成分を含有しない成分系の鋼スラブを素材として、方向性電磁鋼板を製造するに際し、
一次再結晶焼鈍後、焼鈍分離剤の塗布に先立ち、鋼板表面にSi,Cu,Sn,CoおよびNiのうちから選んだ1種または2種以上の金属含有物を該金属元素換算の合計量で0.1〜50 mg/m2の範囲で電着させ、しかるのち焼鈍分離剤を塗布する。 (もっと読む)


【課題】軟磁気特性を向上させながら、パルスめっきによるピンホールの発生を抑制することができる磁性膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】貴金属及び卑金属を含有する下地層2にパルスめっきを施して、下地層2上に、磁性材料からなるめっき層3を析出させる。貴金属としては、Cu、Ru、Rh、Pd、Ag、Re、Ir、Pt、Auから選択された少なくとも一つを採用することができる。また、卑金属としては、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Moから選択された少なくとも一つを採用することができる。 (もっと読む)


【課題】めっきシード層の抵抗が比較的高い場合であっても均一な膜厚にめっきを施すことができ、製品の形成精度を向上させ、製品の製造歩留まりを向上させる。
【解決手段】基板10上にめっきを形成する方法において、抵抗体からなる基板10上に、該基板10への導通部16aを有する絶縁層60を形成し、該絶縁層60上に、前記導通部16aを介して前記基板10と電気的に導通するめっきシード層12を形成し、該めっきシード層12を給電層として該めっきシード層12上にめっき膜13を形成することを特徴とするめっき方法。 (もっと読む)


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