【課題】 透明電極として優れた性質を有するＺｎＯ膜をイオンプレーティングで成膜する技術を提供する。
【解決手段】 イオンプレーティングのソース材料として用いるのに適したＺｎＯ焼結体は、平均酸化度の異なる第１のＺｎＯ領域と第２のＺｎＯ領域とを含み、前記第１のＺｎＯ領域と前記第２のＺｎＯ領域とは平均粒径が異なる。前記第１のＺｎＯ領域は前記第２のＺｎＯ領域より酸化度の高い領域であり、前記第２のＺｎＯ領域は前記第１のＺｎＯ領域と異なる色の、青みを帯びた領域であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着において、部分的な材料劣化や、歩留まり低下、コスト上昇起こすことなく大面積蒸着が可能とする。
【解決手段】 有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着させる装置であって、真空チャンバー１０と、該真空チャンバー内に設けられた、該被処理基板を支持するための基板支持部材と、該真空チャンバー内に該被処理基板と対向するように設けられた、気化すべき有機材料を配するための少なくとも１つの蒸着源１２と、該蒸着源に隣接または近接して設けられた、各々独立に温度制御可能な複数の温度制御手段１３であって、該温度制御手段の各々の温度制御により、該蒸着源の該被処理基板に対向する面における複数の領域を、各々独立に温度制御可能とする温度制御手段とを備えてなる装置、ならびに有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着させる方法が提供される。 （もっと読む）

誘電体ハウジング内に配置された少なくとも１つの電極に無線周波数高電圧を印加する一方、プロセスガスが誘電体ハウジングの入口から電極を通過して出口に流れるようにさせることによって、霧化された表面処理剤を組み込んだ非平衡状態大気圧プラズマが発生する。印加される電圧は、電極から少なくとも誘電体ハウジングの出口まで延びる非平衡状態大気圧プラズマを発生するのに十分高い。電極は、誘電体ハウジング内で表面処理剤用の霧化器と組み合わせてもよい。電極は、放射性材料を含んでもよい。処理される表面は、表面がプラズマに接触するようにプラズマの出口に隣接して配置され、このプラズマの出口に対して移動することができる。
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【課題】 一方の片面が多層反射防止膜特性、他の片面がＭｇＦ２の単層膜特性を必要とするレンズを加工する場合、スパッタ法のみを用いて両面加工が可能な、ＭｇＦ２の単層膜特性を有する多層反射防止膜を提供することにある。
【解決手段】 反射防止膜の基準波長をλ０とした時、λ０における屈折率が２．１以上の高屈折率膜と１．６５以下の低屈折率膜の交互層で構成される６層以上の反射防止膜において、空気側最終層がＳｉＯ２膜で形成され、可視域（４０５〜７００ｎｍ）の各波長の反射率をＲ（λ）、同一基準波長をλ０を有する単層ＭｇＦ２膜の各波長の反射率をＲ単（λ）とした時、
｜Ｒ（λ）−Ｒ単（λ）｜≦０．４％……（１）
（１）式を満たすことを特徴とする反射防止膜とする。 （もっと読む）

【課題】 熱放射線を反射する層を厚くしないで、可視光線をよく透過する基板コーティングの断熱性を改善すること。
【解決手段】 本発明は、ガラス・コーティングおよびガラス・コーティングを形成するための方法に関する。ガラス・コーティングは、ＺｎＯの第１の層と、その上に堆積されたＡｇの第２の層からなる。ＺｎＯ層上にＡｇ層を塗布する前に、ＺｎＯがイオンにより照射される。 （もっと読む）

固体材料を気化させる容器（30）は、内部体積を取り囲む少なくとも側壁と、底部壁と、カバーとを有するハウジングを備えている。このカバーは、ハウジングから蒸気流が流出できるようにするために少なくとも1つの開口部を備えている。ヒーターがハウジングの少なくとも一部を加熱して固体材料を気化させる。カバーと固体材料の間に配置されたバッフル（50）が、固体材料と開口部の間の直接的な見通し線を妨げている。このバッフルはカバーから離れていて、気化した材料の流れを制御して、そのバッフルとカバーに挟まれた領域に流入させ、開口部からの蒸気流の均一性を向上させる。内部体積と、バッフルとカバーに挟まれた領域の体積の比は、少なくとも約20：1である。固体材料は、有機発光デバイスの層を形成するのに使用される有機材料にすることができる。
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【課題】 基板と画素パターンを蒸着するためのマスクと、基板とマスクの位置合わせをするためのアライメント機構を備えたマスクホルダと蒸着源とを用いて、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する真空蒸着方法において、複数個の基板面内上での膜厚分布均一性を高める。
【解決手段】 基板とマスクとマスクホルダからなる構造体を、蒸着源の上部に同心円状に複数個配置して、かつ、基板とマスクとマスクホルダからなる構造体を、蒸着源の中心部から外側に向けて傾きを持たせた状態で蒸着を行う。 （もっと読む）

【課題】 蒸発材料の放出濃度が高い蒸発材料の放出口付近であっても蒸発材料の放出量を長期間測定することができる蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 蒸発材料取出用孔部４ｃ（５ｃ）の縁部に設けられた熱電対２１ａ（２１ｂ）と、放出用容器４（５）の加熱設定温度と熱電対２１ａ（２１ｂ）により検出された測定温度との温度偏差を算出する監視制御装置１１とを具備し、温度偏差に基づき、放出レートすなわち蒸発材料の放出量割合を求めるようにしたので、従来の水晶振動子式のように蒸発材料が堆積する膜厚計を蒸発材料の放出濃度が非常に高い場所に設置して放出量割合を検出する場合とは異なり、蒸発材料が堆積する問題がなく連続して長期間使用することができ、したがって蒸着装置の稼働率が低下することを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 実際に必要とするだけの電力量を利用可能にするという問題に対処することにある。
【解決手段】 本発明は、同じ消費電力または異なる消費電力を有する幾つかの電気エネルギ消費体の構成に関する。一般に、必ずしも全ての消費体に同時に電気エネルギを供給する必要がないため（例えばメンテナンス作業のためある消費体は作動していないことがある）、相互接続可能な幾つかのモジュールからなるモジュラエネルギ供給システムが設けられ、これにより各消費体には、必要とする電力を小型ユニットから供給することが可能になる。
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【課題】 タクトタイムを短縮して、生産性を向上させるとともに、安価な真空処理装置を提供する。
【解決手段】 基板を真空処理する真空処理室と、基板を載置して搬送する基板キャリア１２、１４と、基板を大気側と真空側との間で搬入、搬出するためにＬ／ＵＬ室３０とを具備した真空処理装置１０において、真空処理装置１０の大気側の基板搬送を行う大気側基板キャリア１２と、真空処理装置１０の真空側の基板搬送を行う真空側基板キャリア１４と、大気側基板キャリア１２及び真空側基板キャリア１４相互間で、基板を受け渡しする基板受け渡し機構とを備えた構成とした。
また、タクトタイムを短縮するには、大気側基板キャリア１２をＬ／ＵＬ室３０の基板入れ替え口の前面に２以上配置可能な構成とすると一層効果的である。 （もっと読む）

【課題】蒸着開始時のツーリング時間を短縮し、材料ロスを低減する。また、基板内の膜厚分布を均一にして有機ＥＬ素子の品質を向上する。
【解決手段】蒸着材料の抵抗加熱発熱源であって、本体の少なくとも一部が絶縁材料からなる円筒形状又は多角筒形状のルツボ、及び曲げ加工された平板からなる抵抗加熱ヒーターからなり、平板の曲げ加工された部分によって画定される空間にルツボが収納され、平板の少なくとも一部分とルツボの側面の少なくとも一部分とが接触面を有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】 組成が均一で優れた特性の弗化マグネシウム膜を形成でき、耐熱性の低い基板にも弗化マグネシウム膜を形成でき、他の材料との混合膜模も容易に形成すること。
【解決手段】 真空槽１０内に配置された基板２上に膜を成膜する成膜方法であって、少なくともマグネシウム或いは弗化マグネシウムからなるターゲット３をスパッタすることで、該ターゲットの材料を基板２上に堆積させる堆積工程と、基板２に弗素系ガスを導入する工程、又は、基板２に対して弗素系イオンを照射する工程のうち少なくともどちらか一方を行うことで、基板２上に堆積したターゲット材料を弗化する弗化工程とを備え、堆積工程と弗化工程とを順次繰り返すことで、少なくとも弗化マグネシウム層を１層形成する成膜方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 画質の良好な再生放射線画像を与える放射線像変換パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に気相堆積法により形成された多数の蛍光体柱状物が並立する蛍光体層を有する放射線像変換パネルであって、蛍光体柱状物の頂面における平均柱径が０．１乃至５０μｍの範囲にあり、かつ最大でも、該蛍光体柱状物の頂面での柱径が２００μｍを越えないことを特徴とする放射線像変換パネル。蛍光体層の気相堆積の開始に先立って、蒸発源全体を充分な溶融状態におくことにより、上記の放射瀬像変換パネルが製造できる。 （もっと読む）

【課題】 蒸着により形成される薄膜の品質を向上し、装置の稼働率を向上し得る蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 ガラス基板１が配置されて蒸着が行われる蒸着用容器３内に、蒸発材料を放出する放出孔１１ｄが形成され、放出孔１１ｄからガラス基板１に向かう蒸発材料の飛翔経路Ｘを遮断または開放するシャッター１２と、シャッター１２に付着した蒸着材料である蒸着物１６を掻き落とすスクレーパー１７を備え、シャッター巻取り部材１４の巻取り回数が所定回数に到達するごとに、蒸着物１６がスクレーパー１７により掻き落とされるため、一連の成膜工程において蒸着物１６が落下することを防止することができ、したがって蒸着により形成される薄膜の品質を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、かつ、高品質の光学膜を形成可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置１には、ＡｌとＣｒとを含有するフェロシリコン材料のターゲット（第一のターゲット）２１ａ、２１ｂが用いられており、従来の多結晶シリコンターゲットに比べて機械的強度が高いので、厚みの厚い第一のターゲット２１ａ、２１ｂに高密度電力を投入しても、割れやクラックが生じにくい。このように、第一のターゲット２１ａ、２１ｂの寿命は長いので、第一のターゲット２１ａ、２１ｂを煩雑に交換する必要はなく、また、ターゲットのクラックに起因するスプラッシュが起こり難く、透明膜にスプラッシュが混入することもないので、高品質の光学膜が得られる。 （もっと読む）

【課題】常温・常圧下に極微小空間に低エネルギーで安定発生させることができる低温マイクロプラズマ発生機構（トーチ）を備えたマイクロプラズマ反応装置を提供する。
【解決手段】試料ガス導入管が接続されたプラズマトーチ外管の内部にプラズマガス導入管が接続されたプラズマトーチ内管を設けてなる筒状のプラズマトーチ、前記プラズマトーチ内管の出口部近傍の外周に設けられたプラズマガス励起用高周波コイル、および原料モノマーガス供給手段を備えたマイクロプラズマ反応装置。 （もっと読む）

本発明は、ある実施形態において、薄膜を付し、その後、そのスパッタフィルムの上を覆って仮保護フィルムを付すスパッタ堆積技術を提供する。薄膜は、任意的に、酸化ガス及び／又は不活性ガスを含有するガススパッタリング雰囲気において、ターゲットをスパッタすることによって付すことができる。本発明は、ある実施形態において、例えば、スパッタリングによって、少なくとも１つの主表面上に堆積させた、仮保護フィルムを担持する薄膜コーティングを有する断熱板ガラスユニット又はモノリシック窓板に関する。本発明は、また、そのような製品の高効率な製造方法を含む実施形態も提供する。 （もっと読む）

本発明は、成膜室に接続された減圧手段により減圧して、成膜室で蒸発源から有機化合物材料を蒸発させて成膜する際、有機化合物材料の粒子よりも小さい粒子、即ち原子半径の小さい材料からなるガス（シラン系ガス等）を微量に流し、有機化合物膜中に原子半径の小さい材料を含ませる新規な成膜方法を提供する。
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【課題】
酸化インジウムをターゲットに用い、ガラス基板を非加熱の状態で、スパッタリング法によって酸化インジウム膜を形成した透明導電性基板は、該透明導電性基板を様々な温度で加熱処理すると、比抵抗が大きく変化してしまうという欠点を有していた。
【解決手段】
酸化インジウムターゲットを用いてスパッタリング法で非加熱のガラス基板上に酸化インジウム導電膜を成膜するときに、酸素ガスの量が２．５容積％以下のアルゴンガス雰囲気中で酸化インジウム膜を成膜し、酸化インジウムの成膜後、該酸化インジウムの成膜されたガラス基板を１００〜２００℃の温度で加熱処理し、酸化インジウムのシート抵抗を、５０〜１５０Ω／□とする酸化インジウム膜の製法。 （もっと読む）

【課題】蛍光体層を真空蒸着で形成し、かつ、蒸着レートおよび膜厚を正確に制御できる放射線像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】成膜中にレーザ変位計２０ａ〜２０ｆ等を用いて蛍光体層の膜厚を測定し、その測定結果に応じて、加熱制御手段２４によりルツボ５０ａ〜５０ｆの発熱を調整して、ルツボ毎の蒸着レートを制御する。 （もっと読む）