【課題】所望形状の均質な微小構造体を形成することのできる微小構造物の製造方法等を提供する。
【解決手段】表面に複数の凸部５を有する基材１を、凸部５の先端部によって形成される基材１表面の凸部の向き４が蒸着粒子３の入射方向に対して対向する方向より偏向して基材１を設置して蒸着材料を成長させる。これにより、凸部５の先端部から蒸着材料の構造体を成長させて個々の構造体がギャップによって隔てられ物理的に独立した微小構造物２の集合体を形成する。 （もっと読む）

【課題】孔密度や孔径、孔径分布の制御が容易で、簡易な、ナノポーラス表面を有する製品の製造方法を提供すること。
【解決手段】母材中に複数のナノ粒子が分散した材料を形成し、該母材中に複数のナノ粒子が分散した材料からナノ粒子を選択的に除去することを含む、ナノポーラス表面を有する製品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】厳しい熱環境での使用を意図した、超合金基板上の遮熱コーティングとして有用な組成物を提供する。
【解決手段】このコーティングは、主に正方晶相の状態において安定化したジルコニアを含む。組成物は、基本的にジルコニア（ＺｒＯ₂）又はジルコニアとハフニア（ＨｆＯ₂）との組合せから成るセラミック成分と、ＹｂＯ_1.5、ＨｏＯ_1.5、ＥｒＯ_1.5、ＴｍＯ_1.5、ＬｕＯ_1.5、及びそれらの組合せより選択される第１の補助安定剤、並びにＴｉＯ₂、ＰｄＯ₂、ＶＯ₂、ＧｅＯ₂、及びそれらの組合せより選択される第２の補助安定剤を組み合わせて含む安定剤成分とを含む。任意で、この安定剤成分はＹ₂Ｏ₃を含む。この安定剤成分は、コーティング中で主に正方晶相の状態を実現するのに有効な量だけ存在する。
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【課題】帯電防止性、反射防止性および耐薬品性に優れる透明な光学物品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】眼鏡レンズ１００は、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止膜１３０とを備えて構成されている。反射防止膜１３０は、可視光領域の屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層１３１，１３３，１３５，１３８と、屈折率が１．８〜２．６０である高屈折率層１３２，１３４，１３６と、アモルファスシリコン層１３７とから構成される。 （もっと読む）

本発明は、気相からの堆積により、特にPVD（物理蒸着）又は反応性PVD法に従って気相からの物理的な堆積により、基材コンポーネントの表面処理及び/又はコーティングするための機構に関する。複数の基材キャリアと複数のコーティング及び/又は処理ユニット、例えば、蒸発器の源、陰極、ターゲット、マグネトロン、フィラメント陰極、及びエッチング陽極などは、真空にすることができる堆積又は処理チャンバー内に配置されている。システムのより経済的な利用のために、設備に1つのバッチで導入される基材コンポーネントを、異なる処理（例えば、コーティングや、表面処理など）にかけることができるように、モジュール方式で装備することができる。さらに、本発明は、基材コンポーネントの表面処理及び/又はコーティングするための新たな方法を提供し、この方法を使用することにより、PVD（物理蒸着）又は反応性PVD法によるコーティング設備が大幅にコスト効率よく操作させることができる。それは、以下の方法の工程を特徴とする：a）基材コンポーネントのための所望のコーティング又は処置プログラムに従って、堆積又は処理チャンバー内に、モジュールから、コーティング及び/又は処置ユニット（蒸発器、陰極、ターゲット、マグネトロン、フィラメント陰極、及び腐食性の陽極など）及び遮蔽素子を作り上げ、b）同じ処理を受けることになる基材コンポーネントを基材キャリアに設置し、c）堆積または処理チャンバーを閉じ、d）1つのバッチで、基材キャリア上にグループで結合される基材コンポーネントに対する個々の処理又はコーティングプログラムを実行する。
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【課題】高温での安定性に優れるとともに、刃先のチッピングを抑制することにより工具寿命を長期化させた表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】基材と基材の表面上に形成された被覆層とを含み、被覆層は、Ａ層とＢ層とが交互にそれぞれ１層以上積層された交互層を含み、Ａ層は、ＡｌとＣｒとを含む窒化物からなり、Ａ層を構成する金属原子の総数を１としたときのＣｒの原子数の比が０．０５よりも大きく０．４以下であり、Ｂ層は、ＡｌとＶとを含む窒化物からなり、Ｂ層を構成する金属原子の総数を１としたときのＶの原子数の比が０．０５以上０．４以下である表面被覆切削工具である。 （もっと読む）

【課題】燃料電池セパレータに製造された場合に、低い接触抵抗を長期間維持して使用することができるという効果を有し、かつ、例えば製造ロット等が違っても、前記効果のばらつきが生じ難いチタン基材およびこれを用いた燃料電池セパレータを提供する。
【解決手段】本発明に係る燃料電池セパレータ用の基材は、表面に、Ａｕ，Ｐｔから選択される１種以上の貴金属元素に、Ｎｂ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｈｆから選択される１種以上の非貴金属元素を５〜６５原子％含有する合金からなる貴金属合金層３を形成後、３００〜８００℃で熱処理されて燃料電池用のセパレータ１を構成するための、チタンまたはチタン合金からなるチタン基材２であって、表層において、Ｘ線光電子分光分析により測定された２８０〜２８４ｅＶの範囲に結合エネルギーを有する炭素の濃度が３０原子％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ターゲット物質の歩留りを向上させ、無駄なく簡単に薄膜を形成するためのターゲット物質含有液体の製造方法、ターゲット物質を含有する薄膜の形成方法、ターゲット物質含有液体を提供する。
【解決手段】 ターゲットを用いたプラズマスパッタリング法を用い、前記ターゲットが配置された処理室と同一の処理室内に配置された液体材料に向けてターゲット物質をスパッタリングすることにより、前記ターゲット物質を前記液体材料中に分散させることを特徴とするターゲット物質含有液体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 絶縁性膜の生成時において、当該絶縁性膜が陽極の表面に付着するのを防止し、ひいてはプラズマの安定化を図る。
【解決手段】 本発明に係るイオンプレーティング方式の成膜装置１０によれば、陰極としてのフィラメント４０と陽極としてのアノード４２との間にプラズマが発生する。そして、このプラズマによって、膜材料をイオン化し、イオン化された膜材料を被処理物２８，２８，…の表面に照射することで、当該被処理物２８，２８，…の表面にｃＢＮ膜等の絶縁性膜を形成する。このとき、フィラメント４０については、積極的に加熱されるので、当該フィラメント４０の表面には絶縁性膜は付着しない。一方、アノード４２についても、その表面に当該絶縁性膜が付着するのを防止し得る程度に、自己加熱させる。これにより、これら両者間に発生するプラズマの安定化が図られる。 （もっと読む）

【課題】大幅な低フリクション化を図ることができるのはもちろんのこと、量産化が可能となるとともに、製造コストを低減することができる摺動部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】部材１，２間への高面圧の印加によって、局所的固体接触が摺動界面で起こり、摺動部材の摺動面で微視的摩耗が生じる。摺動部材１の潤滑膜１１には、炭素系分子１２が、単体あるいはその単体の集合体として含有されている。炭素系分子１２が、上記微視的摩耗によって、潤滑膜１１から露出し、その一部がそこから遊離し、摺動界面に供給される。そのような炭素系分子１２は、転動可能な中空構造を有するから、摺動界面で分子レベルのボールベアリングとして作用する。この場合、炭素系分子が少なくとも一つ存在すると、存在しない場合と比較して、局所的フリクションを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】本願発明は、高硬度化による耐摩耗性と、高靭性化による耐欠損性に優れた旋削加工用の硬質膜被覆工具を提供すること。
【解決手段】旋削加工用の硬質皮膜被覆工具において、硬質皮膜は基体表面から第１硬質皮膜、第２硬質皮膜が被覆され、第１硬質皮膜は、（Ａｌ_ａＭｅ_１−ａ）_ｅＮ_ｆで示され、但し、３５≦ａ≦６５、０．８５≦ｅ／ｆ≦１．２５、第２硬質皮膜は、（Ｔｉ_１−ｈＢ_ｈ）_ｍＮ_ｐで示され、但し、１≦ｈ≦３０、０．８５≦ｍ／ｐ≦１．２５、であり、該第１硬質皮膜と該第２硬質皮膜のＸ線回折における（２００）面の面間隔（ｎｍ）を夫々、ｄ１、ｄ２としたときに、１．０１≦ｄ２／ｄ１≦１．０５であり、該第２硬質皮膜は柱状組織構造を有し、該柱状組織構造の結晶粒はＢ成分に組成差を有する組成変調構造を有していることを特徴とする旋削加工用硬質皮膜被覆工具。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＡｌＮの特性とＴｉＡｌＮの特性とを兼備し、特に耐摩耗性に優れた被覆膜を備えた表面被覆切削工具を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材とその上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、ＡｌＮからなるＡ層と、Ｔｉ_1-xＡｌ_xＮ（ただし式中ｘは０．３≦ｘ≦０．７）からなるＢ層とが交互に各々２層以上積層されてなり、該Ａ層の層厚λａと該Ｂ層の層厚λｂとは、それぞれ２ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、その層厚比λａ／λｂは、基材側から被覆膜の最表面側にかけて増大し、かつ基材に最も近いＡ層とＢ層の層厚比λａ／λｂは０．１以上０．７以下であり、最表面側に最も近いＡ層とＢ層の層厚比λａ／λｂは１．５以上１０以下であることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＡｌＮの特性とＣｒＡｌＮの特性とを兼備し、特に耐摩耗性に優れた被覆膜を備えた表面被覆切削工具を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材とその上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、ＡｌＮからなるＡ層と、Ｃｒ_1-xＡｌ_xＮ（ただし式中ｘは０．３≦ｘ≦０．８）からなるＢ層とが交互に各々２層以上積層されてなり、該Ａ層の層厚λａと該Ｂ層の層厚λｂとは、それぞれ２ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、その層厚比λａ／λｂは、基材側から被覆膜の最表面側にかけて増大し、かつ基材に最も近いＡ層とＢ層の層厚比λａ／λｂは０．１以上０．７以下であり、最表面側に最も近いＡ層とＢ層の層厚比λａ／λｂは１．５以上１０以下であることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 従来の硬質皮膜であるＴｉＡｌＮ皮膜やＴｉＣｒＡｌＮ皮膜よりも耐酸化性に優れ、且つ、硬度の高い硬質皮膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】 (1) 〔（Ｔｉ，Ｃｒ，Ｖ）_a （Ｎｂ，Ｔａ）_b （Ａｌ，Ｓｉ，Ｂ）_C 〕（Ｃ_1-x Ｎ_x ）からなる硬質皮膜であって、ａ＋ｂ＋ｃ＝１、ａ_Ti＋ａ_Cr＋ａ_V ＝ａ、ｂ_Nb＋ｂ_Ta＝ｂ、ｃ_Al＋ｃ_Si＋ｃ_B ＝ｃ、０．０５≦ｂ、０．５≦ｃ≦０．７３、０≦ｃ_Si＋ｃ_B ≦０．１５、ａ_Ti＞０、ａ_Cr＋ａ_V ＋ｃ_Si＋ｃ_B ＞０、０．４≦ｘ≦１．０を満たすことを特徴とする硬質皮膜（但し、上記式において、ａ_TiはＴｉの原子比、ａ_CrはＣｒの原子比、ａ_V はＶの原子比、ｂ_NbはＮｂの原子比、ｂ_TaはＴａの原子比、ｃ_AlはＡｌの原子比、ｃ_SiはＳｉの原子比、ｃ_B はＢの原子比、ｘはＮの原子比を示すものである。）等。 （もっと読む）

本発明は、フライス、切削インサート、射出成形用金型などのような工具のための摩耗保護層、特に物理的蒸着法を使用して蒸着させた摩耗保護層であって、当該層が、ＡｌＮｂＸの一般的な組成を有し（式中、Ｘは、Ｎ、Ｃ、Ｂ、ＣＮ、ＢＮ、ＣＢＮ、ＮＯ、ＣＯ、ＢＯ、ＣＮＯ、ＢＮＯ、またはＣＮＣＯを表す）、Ｎｂの割合が４０原子％未満であり、かつ／または当該製造プロセスにおいて使用されるアルミニウム粉体が、アルミニウムに対して１０〜５０原子％のジルコニウムと混合されることを特徴とする摩耗保護層に関し、さらに摩耗保護層を製造するための方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】高速摺動下においても高負荷に耐え得る実質的に水素を含有しない低クロム含有ＤＬＣ（ダイヤモンド状炭素）膜および実質的に水素を含有しない低クロム含有ＤＬＣ膜を成膜した摺動部品を提供する。
【解決手段】ＤＬＣ膜中のＣｒ含有量をＸ（ａｔ％）、ＤＬＣ膜の表面硬さをビッカース硬さでＹ（Ｈｖ）とした場合、式０．５≦Ｘ≦０．７、３００≦Ｙ＜５００およびＹ＜−８６９Ｘ＋１０４３の各式を満足する領域の範囲内にある実質的に水素を含有しない低クロム含有ＤＬＣ膜とする。また、ＤＬＣ膜と母材との間に、Ｃｒのみから成る第１の層およびＣｒとＣとから成る第２の層を成膜した摺動部品とする。 （もっと読む）

【課題】高速・高能率切削が可能な、ＴｉＡｌＮよりも耐摩耗性に優れた硬質皮膜を得るための有用な製造方法を提供する。
【解決手段】所定の組成および結晶構造を有する硬質皮膜を製造するための方法であって、ターゲットを構成する金属の蒸発およびイオン化をアーク放電にて行うアークイオンプレーティング法において、該ターゲットの蒸発面にほぼ直交して前方に発散ないし平行に進行する磁力線を形成し、この磁力線によって被処理体近傍における成膜ガスのプラズマ化を促進すると共に、前記被処理体に印加するバイアス電位をアース電位に対して−５０Ｖ〜−３００Ｖとして成膜する。 （もっと読む）

【課題】被成膜面が山型形状のワークを成膜する場合に、均一な成膜を行なえるターゲットの裏面側に磁石を配設した平板型のカソ−ドを備えたマグネトロンスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】ターゲット１１を、ターゲット面１１ａがワーク４の被成膜面４ａに沿うように、ワーク４の被成膜面４ａの形状に対応して逆山型形状となるように折曲せしめる一方、磁石１３を、前記逆山型形状のターゲット１１の裏面側の外周部に配される外側磁石と、該外側磁石の内周側に配される内側磁石とを用いて構成する。 （もっと読む）

衝撃損傷を通常与える名目上丸形の粒子及び侵食損傷を通常与えるより侵食性の高い不規則な形状の粒子を含む粒子との衝突を受けやすい表面を保護するのに適する耐侵食衝撃性セラミック被膜。セラミック被膜は、約２５〜約１００μｍの厚さを有する窒化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＮ）の少なくとも１つの層；被膜総厚が少なくとも約３μｍになるように各層が約０．２〜約１．０μｍの厚さを有する窒化クロム（ＣｒＮ）及びＴｉＡｌＮの複数の層；及び約１５〜約１００μｍの厚さを有する炭化窒化チタンケイ素（ＴｉＳｉＣＮ）の少なくとも１つの層という３つの組成のうち１つを有するように形成される。セラミック被膜は約１００μｍまでの被膜総厚を有するのが好ましく且つ柱状及び／又は緻密微細構造を有するように物理気相成長処理により堆積される。 （もっと読む）

【課題】高いフォトマスクの重ね合わせ精度を要求されるフォトマスクに好適な基板セットを提供すること。
【解決手段】本発明の基板セットは、露光装置のマスクステージにチャックされるフォトマスクを作製するためのマスクブランクで使用される基板を複数枚セットとしたマスクブランク用基板セットであって、複数枚セットで用いられる基板は、転写パターンを形成する薄膜を設ける側の主表面の形状が中央で相対的に高く、周縁部で相対的に低くなるような凸形状であり、前記主表面の中央部を含む１４２ｍｍ角の領域における平坦度が０．３μｍ以下であり、基準基板の基準主表面に対してフィティングを行ったときの差が４０ｎｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）