【課題】同一の成形用金型を用いて多数の成形樹脂を製造することが可能な生産性に優れた成形樹脂の製造方法、及び同一のスタンパを用いて、多数の光情報記録媒体を製造することができる生産性に優れた光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】光硬化性転写シートの光硬化性転写層を、記録ピット及び／又はグルーブとしての微細凹凸に沿って反射層が設けられた基板の該反射層上に載置し、これらを押圧する工程、光硬化性転写層の他方の表面に、記録ピット及び／又はグルーブとしての微細凹凸表面に光触媒物質の薄層が形成されたスタンパを載置し、これらを押圧する工程及び該スタンパを有する光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に微細凹凸を設ける工程を含む光情報記録媒体の製造方法、これに使用されるスタンパ表面に光触媒物質の薄層が形成された成形金型を用いる成型方法。 （もっと読む）

【課題】湿式のエッチング加工が施しやすく、明るさがあり高級感のある金色色調を呈し、長期に渡って腐食が発生せず（耐蝕性に優れ）、かつ、高硬度および高耐傷性を有する装飾品を得ることを目的としている。
【解決手段】本発明の装飾品は、装飾品用基材と、この装飾品用基材に被覆された、チタン（Ｔｉ）、ハフニウム（Ｈｆ）またはジルコニウム（Ｚｒ）からなる密着層と、この密着層に被覆された積層被膜と、この積層被膜に被覆された、０.１〜０.３μｍの厚みを有する窒化ハフニウム（ＨｆＮ）からなる金色硬質被膜と、この金色硬質被膜に被覆された、０.０２〜０.０４μｍの厚みを有し、かつ、金（Ａｕ）または金合金から成る、金色色調を呈する金色最外被膜とから構成され、該積層被膜は、０.０１〜０.０２μｍの厚みを有する第１の窒化物層と、この第１の窒化物層上に被覆された、０.０１〜０.０２μｍの厚みを有する第２の窒化物層とが、これらの層を１組として、１０〜２０組積層されており、かつ、該第１の窒化物層と、該第２の窒化物層とが、それぞれ（１）窒化ハフニウム（ＨｆＮ）と窒化チタン（ＴｉＮ）、（２）窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）と窒化チタン（ＴｉＮ）、または（３）窒化ハフニウム（ＨｆＮ）と窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着原料の特性に合わせて電子銃の制御を的確に行うレンズの成膜方法を提供する。
【解決手段】蒸着装置の蒸着室内に保持されたレンズの表面に蒸着原料を気化させて蒸着させることにより膜を形成するレンズの成膜方法で、制御部が、蒸着原料の種類に応じて予め設定された初期出力を加熱部に指令して加熱部を起動し、オープンループ制御によって加熱部の出力を徐々に増大するように指令し、予め設定した条件を満たしたときには光学式膜厚測定部の光量値に基づくフィードバック制御によって加熱部の出力を制御する。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性、反射防止性および耐久性に優れた光学物品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】眼鏡レンズは、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止層１３０とを備えて構成されている。反射防止層１３０は、屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．４である高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防止層１３０は、レンズ基材１１０側から外側に向けて順に配置された第１層１３１、第２層１３２、第３層１３３、第４層１３４、第５層１３５、第６層である第１透明導電層１３６、第７層１３７、第８層である第２透明導電層１３８及び第９層１３９から構成される。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性、反射防止性および耐久性に優れ、むくみの発生しない光学物品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】眼鏡レンズは、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止層１３０とを備えて構成されている。反射防止層１３０は、屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．４５である高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防止層１３０は、レンズ基材１１０側から外側に向けて順に配置された第１層１３１、第２層１３２、第３層１３３、第４層１３４、第５層１３５、第６層１３６、第７層である透明導電層１３７及び第８層１３８から構成される。 （もっと読む）

【課題】高面圧下や油潤滑環境下で用いられる摺動部材の表面に形成した場合であっても、優れた耐久性を発揮する窒素含有非晶質炭素系皮膜を提供する。
【解決手段】本発明の窒素含有非晶質炭素系皮膜は、摺動部材の摺動面に、物理蒸着法により形成される窒素含有非晶質炭素系皮膜であって、水素を８．０原子％以上１２．０原子％以下、および窒素を３．０原子％以上１４．０原子％以下含むところに特徴を有する。本発明の窒素含有非晶質炭素系皮膜を、摺動部材の組み合わせ（例えば自動車エンジンの摺動部品等）であって、該摺動部材の少なくとも一方の摺動面に形成すれば、その効果が十分に発揮される。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィ法及びエッチング法を用いずに光学素子上に光学薄膜を選択的に形成することができるうえ、簡単且つ高い同軸精度で光学的有効面を形成すること。
【解決手段】光学素子１上に光学的有効面を形成する方法であって、光学的有効面を形成する形成面１ａを露出させた状態で光学素子を保持する工程と、マスク部材３０を保持された光学素子の中心軸に自身の中心軸を一致させた状態で形成面に対向するように配置する工程と、マスク部材の片面に該マスク部材を形成面に貼り付けるための貼付部材３１を付与する工程と、マスク部材を光学素子の中心軸に沿って移動させて形成面に密着状態で貼り付ける工程と、マスク部材が貼り付いた形成面の全体に薄膜材料を成膜して光学薄膜を形成する工程と、マスク部材及び貼付部材を剥離して形成面に光学的有効面を形成する工程と、を備えている光学的有効面の形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】表面処理層にクロムを含まず、プリント配線板に加工して以降の回路の引き剥がし強さ、当該引き剥がし強さの耐薬品性劣化率等に優れる表面処理銅箔を提供する。
【解決手段】上記課題を達成するため、絶縁樹脂基材と張り合わせて銅張積層板を製造する際に用いる銅箔の張り合わせ面に表面処理層を設けた表面処理銅箔であって、清浄化処理を施した前記銅箔の張り合わせ面に、乾式成膜法で融点１４００℃以上の高融点金属成分を付着させ、更に炭素成分を付着させて形成した表面処理層を備えることを特徴とする表面処理銅箔を採用する。 （もっと読む）

【課題】光学素子同士の貼り付きを防止して着脱を容易にし、かつ光学面の損傷のおそれのない光学素子保持方法を提供する。
【解決手段】光学面３１Ａと外周面３１Ｂとを有する光学素子３１の外周面３１Ｂに薄膜を成膜するときの光学素子保持方法は、光軸方向にそって配列された複数の光学素子３１の互いの光学面３１Ａの間に、各々の光学面３１Ａに対向する接触面３２Ａが鏡面とならないように微小凹凸を有するダミー部材３２を介在させる工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】産業廃棄物が発生せず、コーティングの膜厚や状態の変化が小さく、コーティング能力の経時劣化や粒子同士の融着、金属の残渣など、アルミ発生源である金属に起因する作業性問題を解決することが可能なアルミコーティング方法を提供する。
【解決手段】真空中で被コーティング部材３の表面にアルミニウムをコーティングするアルミコーティング方法において、真空中で、カーボンと接触させた状態でアルミナ５を１３００℃以上に加熱してアルミナ５を分解させると共に、発生したアルミガスを被コーティング部材３の表面にコーティングする。 （もっと読む）

【課題】共有結合やイオン結合によって構成されている硬質被膜に、生産性や被膜性能を大きく損なうことなく所定の導電性を持たせて、通電センサ等によって通電の有無を検出する場合にも使用できるようにする。
【解決手段】共有結合またはイオン結合によって構成されている機能層３４の上に、機能層３４と同じ組成であるが非金属元素の割合が機能層３４よりも低い導電層３６を設け、所定の導電性が得られるようにする。すなわち、非金属元素の割合が減ることで共有結合或いはイオン結合の割合が減少し、その分だけ金属結合の割合が増加して導電性が高くなる。これにより、通電センサ等によって検出される通電の有無などで位置を検出したり異常を検知したりする場合にも用いることができる。しかも、導電層３６は、機能層３４と同じ組成で非金属元素の割合を低くしただけであるため、被膜性能や生産性の低下を最小限に抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】ヒートマスの大きなヒータを有する大型の真空装置のヒータの昇温時間、降温時間を短縮して、メンテナンス前後の非生産時間を短縮し、生産効率を向上させることが可能な真空装置の動作方法を提供する。
【解決手段】被処理体２２を載置していない複数の搬送部１１〜１ｎを順次加熱する。主加熱部１ａ，１ｂよりも高温に加熱された各搬送部１１〜１ｎは、処理室１内に順次搬送される。搬送部１１〜１ｎが、順次、主加熱部１ａ，１ｂに熱量を順次与えるので、熱エネルギーの移動により、主加熱部１ａ，１ｂにおける加熱が促進され、主加熱部１ａ，１ｂの設定温度までの昇温時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】被成膜物の反転作業の作業効率を向上させ、被成膜物に対して効率的に成膜すること。
【解決手段】減圧状態で被成膜物Ｈを一定方向側から成膜する成膜機構２１が配置された成膜室２と、被成膜物を収容するために成膜室に隣接して連通可能に設けられた収容室３と、を備える成膜装置１に用いられる機構であって、被成膜物を把持及び把持解除する把持ハンド４３と、該把持ハンドを、収容室から成膜室までの範囲で移動可能且つ把持姿勢を反転可能に支持するハンド支持部６１と、収容室及び成膜室の外部に配置され、ハンド支持部を介して、収容室から成膜室までの範囲で把持ハンドを移動させるハンド移動部４１と、収容室及び成膜室の外部に配置され、把持ハンドの把持姿勢を反転させる反転部４４と、を備えるハンドリング機構４を提供する。 （もっと読む）

【課題】従来の硬質皮膜である上記ＴｉＡｌＮや、ＴｉＣｒＡｌＮ、ＴｉＣｒＡｌＳｉＢＮ、ＣｒＡｌＳｉＢＮ、ＮｂＣｒＡｌＳｉＢＮ等よりもより耐酸化性、耐摩耗性に優れた硬質皮膜を提供する。
【解決手段】基材の表面に形成される硬質皮膜であって、（Ｔｉ_ａＣｒ_ｂＡｌ_ｃＭ_ｄＢ_ｅ）（Ｃ_ｘＮ_１−ｘ）からなり、０≦ａ≦０．２、０．０５≦ｂ≦０．４、０．４５≦ｃ≦０．６５、０．００５≦ｄ≦０．０５、０≦ｅ≦０．１５、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＝１、０≦ｘ≦０．５、Ｍ：Ｃｅ、ＰｒおよびＳｃよりなる群から選択される１種以上（ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅは夫々Ｔｉ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｍ，Ｂの原子比を示し、ｘはＣの原子比を示す。）であることを特徴とする硬質皮膜。 （もっと読む）

【課題】高真空環境下で被成膜物の複数面に、また任意面のみ厚い膜を成膜する場合の大気開放あるいは真空引きといった真空装置特有の非常に時間がかかるを必要しない装置を提供する。
【解決手段】本真空蒸着装置は、第一自転機構９と第二自転機構１３の２台の自転機構を有し、前記第一自転機構９は公転機構による公転中に第一自転ギヤ６の歯間角度に応じた一定の角度ステップで自転を行う機構であり、第二自転機構１３は第一自転ギヤ６に対して一歯を欠いた第二自転ギヤ１０を用い、歯間角度に応じた角度ステップで自転を行い、第二自転ギヤ１０一歯欠けた位置において被成膜物を蒸発源２に対して対向させる機構を有する。 （もっと読む）

【課題】 軸受の摩耗の一形態である硬質異物混入潤滑下での摩耗を低減することができる軸受を提供する。
【解決手段】 軸８の少なくとも軸方向中間部が熱処理により硬化され、軸８、外輪９、および転動体１０の少なくともいずれか一つの転走面に硬質被膜１２を施し、この硬質被膜１２のダイナミック硬度をＨＤ８００以上ＨＤ２０００以下とし、硬質被膜１２の膜厚δ２が１μｍ以上５μｍ以下で、且つこの膜厚δ２が硬質被膜１２の軸方向中央Ｐ１の膜厚δ２を基準として±２μｍ以下の範囲とする。 （もっと読む）

本発明は、ＰＶＤ（物理的蒸着）によって、特に陰極アーク蒸着によって酸化物層を製造するための方法であって、粉末冶金ターゲットが蒸着され、その粉末冶金ターゲットは少なくとも２つの金属または半金属構成要素でできており、そのターゲットの金属または半金属構成要素の組成が、液相への転移における室温からの加熱の際に、少なくとも２つの金属または半金属成分の溶融混合物の状態図に関して純粋な固相のどの相境界もが横切られないように選択される方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、ＤＣスパッタリング法によって、超硬材料、サーメット、鋼、またはセラミックで構成される基材を少なくとも１つのＴｉ_１−ｘＡｌ_ｘＮ層で被覆する方法に関する。本発明はさらに、上記方法によって被覆された工作物または工具、ならびにその使用に関する。本発明の目的の１つは、スパッタリング法およびアーク法の利点を併せ持つ被膜の形成が可能となる方法、すなわち小さい粗さおよび好ましい（２００）組織を有する被膜を得ることが可能となる方法を提供することである。本発明のさらに別の目的は、上記性質を有する被膜を有する工作物を提供することである。本発明のさらに別の目的は、金属の機械加工に特に適した工具を使用することである。本発明の方法によって実現される目的は、プラズマ密度を増加させるためにイオン化促進が使用されることを特徴とする。
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【課題】配向した窒化タンタル膜が配された電子デバイス用基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】被成膜面１ａが（１１１）配向したシリコンからなる基材１と、Ｔａからなるターゲットと、Ａｒ及びＮ２からなるプロセスガスとを用いて反応性スパッタリングを行うと、基材１の前記被成膜面１ａ上に、少なくとも（１００）配向した窒化タンタル膜が形成される。前記のことから（１００）配向した窒化タンタル膜から構成された電子デバイス用の（１１１）配向した基板１０を提案する。 （もっと読む）

【課題】 保磁力などの磁気特性が効果的に向上または回復し、かつ、耐食性や耐候性を有する永久磁石を高い量産性で製造できる永久磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】 処理室７０を画成する処理箱７内に焼結磁石と、Ｄｙ、Ｔｂの少なくとも一方を含む金属蒸発材料ｖとを配置した後、真空チャンバ３内に収納する。そして、真空中にて処理箱を加熱して金属蒸発材料を蒸発させ、蒸発した金属原子を焼結磁石表面に付着させ、前記付着した金属原子を焼結磁石の結晶粒界及び／または結晶粒界相に拡散させる。処理室内の昇温過程で金属蒸発材料が蒸発しないように処理室内に不活性ガスを導入する。 （もっと読む）