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Fターム[4K029AA24]の内容

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Fターム[4K029AA24]に分類される特許

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【課題】発光効率を高める為、放電ガス中のXe濃度を10%以上に高めたPDPの放電電圧を低減し、且つ、取り扱いが容易な保護膜用蒸着材、及び、保護膜を提供する。
【解決手段】Mgに対して希土類元素を0.3〜0.65mol%含有し、MgO純度が99mol%以上である事を特徴とする、放電ガス中のXe濃度が10%以上のプラズマディスプレイパネルの保護膜用蒸着材。希土類元素を0.7〜1.6mol%含有するMgOからなる事を特徴とする、放電ガス中のXe濃度が10%以上のプラズマディスプレイパネル用保護膜。希土類元素としてはCeが好適である。 (もっと読む)


【課題】形状記憶合金のエッチング特性を飛躍的に向上させることができる形状記憶合金及び同合金ターゲット並びに同合金薄膜を提供する。
【解決手段】構成元素及びガス成分を除いた不純物成分が1000wtppm以下である高純度形状記憶合金及び同合金ターゲット並びに同合金薄膜。Ni-Ti系の形状記憶合金及び同ターゲットにおいて、AlおよびSnの含有量がそれぞれ100wtppm以下、Cu-Al系の形状記憶合金および同ターゲットにおいて、Ag、S及びClの含有量がそれぞれ50wtppm以下、Fe-Mn系の形状記憶合金および同ターゲットにおいてAlおよびCrの含有量がそれぞれ100wtppm以下、である同高純度形状記憶合金及び同合金ターゲット並びに同合金薄膜。 (もっと読む)


【課題】蒸着装置の坩堝の割れを防止する。
【解決手段】本発明の蒸着装置は、減圧雰囲気で蒸着を行うための蒸着装置であって、蒸着材料を収容する絶縁性の坩堝10と、坩堝10に収容された蒸着材料を蒸発させる高周波誘電加熱手段20と、坩堝10と高周波誘電加熱手段20との相対位置を変化させる位置制御手段30と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】蒸着法により形成された蛍光体層と支持体との接着性の向上した放射線画像変換パネル及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】支持体上に膜厚50μm以上の蛍光体層を蒸着法により形成する放射線画像変換パネルの製造方法において、該蛍光体層が母体と賦活剤を蒸着することにより形成され、排気装置、調圧ガス導入装置及び調圧ガス流量調節装置を有する蒸着装置内の真空度が1.33×10−2〜1.33Paで、かつ調圧ガスの流量が0.001〜1000sccm(sccm:standard cc/min(1×10−6/min))であり、かつ蛍光体層に含まれる蛍光体が柱状結晶を含有することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】スペース効率が良好でコンパクトな基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハにスパッタリングを施すスパッタリング室12と、スパッタリング室
12内に収納されウエハ1を保持するウエハチャック20と、ウエハ1を保持したウエハ
チャック20を回転させる回転機構21と、ウエハ1に向けてイオンビーム36を照射す
るミリング用イオン源30とを備えており、ミリング用イオン源30のミリング用電極3
2を短辺側がウエハの外径より小さい矩形形状に形成し、このミリング用電極32の開口部33の開口率をウエハの中心側より周辺側が大きくなるように設定する。ミリング加工時にウエハを回転させつつイオンビームをウエハに照射すると、ミリング加工量をウエハ全面で均一化できる。ミリング用イオン源のサイズを小さくできるので、スペース効率を向上させてスパッタリング装置を小型化できる。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性で摩擦の少ない多層構造体を提供することである。
【解決手段】硬質材料個別層と、炭素個別層またはシリコン個別層との交互の層からなる多層構造体であって、前記硬質材料個別層は、金属、金属炭化物、金属ケイ化物、金属炭化ケイ化物、金属ケイ化窒化物、金属炭化物含有炭素、金属ケイ化物含有シリコン、または前記物質の少なくとも2つからなる含有物であり、前記金属は、タングステン、クロム、チタン、ニオブおよびモリブデンの群から選択され、前記炭素個別層は、非結晶水素含有炭素、非結晶水素無含有炭素、シリコン含有炭素、または金属含有炭素からなる、ことを特徴とする多層構造体。 (もっと読む)


【課題】本発明は、比較的簡単なプロセスにより例えばIII−V族窒化物半導体のようなエッチングが困難な半導体層でも容易にエッチングが可能な半導体エッチング方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基体(1,2)の表面に、エッチングマスクの少なくとも一部として、金属フッ化物層3等の固体層を形成する工程と、前記固体層をレジスト組成物等で処理する工程と、前記固体層をマスクとして、前記基体をエッチングする工程とを有することを特徴とするエッチング方法。 (もっと読む)


【課題】焼結密度が高く、高電圧下でも異常放電を生じ難く、広い範囲に蒸着膜を形成する蒸着材材に適するZnO蒸着材とその製造方法などを提供する。
【解決手段】ZnOを主成分とし、希土類酸化物を含有する焼結体ペレットからなり、焼結体の相対密度が97.5%以上であることを特徴とし、好ましくは、希土類酸化物の含有量が0.05〜10質量%であり、一次粒子の平均粒径が0.1〜5.0μmのZnO粉末と、一次粒子の平均粒径が該ZnO粉末の平均粒径の1/5〜1/2である希土類酸化物粉末とを、希土類酸化物の含有量が上記範囲になるように混合し、バインダーを加え、加圧成形し、脱型後、1000℃以上で焼成してなるZnO蒸着材とその製造方法。 (もっと読む)


【課題】成膜処理工程において、成膜領域を限定することなくウエハとクランプリングの癒着を防止し、チッピングを防止した上でウエハを確実に固定することのできるクランプリングを提供する。
【解決手段】ウエハの主面上に膜を堆積する際に、前記ウエハを前記主面側から押さえつけて固定するウエハ用クランプリングであって、前記ウエハの固定時に、前記主面の外周部の全周に当接する当接部と、前記当接部の上部から前記ウエハの内側に延び、前記ウエハの固定時においても前記主面と接しないように設けられた、ひさし部と、を具備し、前記当接部は、第1当接部と第2当接部とからなり、前記当接部における内外方向の幅は、前記第1当接部の方が前記第2当接部よりも広い。 (もっと読む)


【課題】仕事関数の低い材料を迅速に有機層と陰極との界面近傍に挿入する。
【解決手段】PM1は、処理容器100と、有機材料を加熱して気化させる蒸着装置200と、第1の蒸着源に連通し、第1の蒸着源にて気化された有機材料を不活性ガスにより運搬させる第1のガス供給路150と、処理容器外に設けられ、陰極を形成する第1の金属よりも仕事関数が小さい第2の金属を加熱して気化させるディスペンサDsと、ディスペンサに連通し、ディスペンサにて気化された第2の金属を不活性ガスにより運搬させる第2のガス供給路320と、各ガス供給路150、320に連通し、気化された第2の金属を気化された有機材料に混入させて処理容器内の被処理体に向けて吹き出させる吹き出し機構120fと、気化された有機材料に混入させる前記気化された第2の金属の割合を制御する制御器50とを有する。 (もっと読む)


【課題】薄膜であり、かつ、耐食性に優れた保護膜を形成することで、高品質な被保護体を提供すること。
【解決手段】被保護体の表面の少なくとも一部に保護膜を形成する保護膜形成方法であって、被保護体の表面に下地膜を形成する下地膜形成工程と、下地膜上にダイアモンド状炭素膜を形成するDLC膜形成工程と、を有し、下地膜形成工程は、所定の膜厚の下地膜を成膜した後に当該下地膜の一部又は全部を除去する工程を繰り返して被保護体の表面に下地膜を複数回形成する。そして、さらに、DLC膜形成工程の前に、ダイアモンド状炭素膜を形成する下地膜の表面上に絶縁層を形成する絶縁層形成工程を有する。 (もっと読む)


【課題】傾斜したマルチカソードの各々でスパッタされた中性原子を用いることでウェハー表面のパターン化された孔または溝でより良い側壁および底部のカバレッジを形成できるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】ウェハーホルダ12がその中心軸周りに回転するようにされて底壁に設けられ、かつウェハーホルダ上に配置されたウェハーに対して少なくとも2つの傾斜されたカソード11a〜11dが上壁に設けられる反応容器10を備え、カソードの各々はrf発生器から整合回路を介してrf電流が供給され、ガス導入部とガス排出部を含む圧力制御機構を備える。 (もっと読む)


【課題】低温で基板上に直接粒径の揃ったシリコンドットを均一な密度分布で形成する方法及び装置を提供する。
【解決手段】チャンバ10内でシラン系ガス及び水素ガスからプラズマを形成してターゲット基板100上にシリコン膜を形成してシリコンスパッタターゲットを得、これをチャンバ1へ外気に触れさせることなく搬入配置して、チャンバ1内でスパッタリング用ガスからプラズマを発生させ、該プラズマでターゲットのシリコン膜をケミカルスパッタリングして基体S上にシリコンドットを形成する。 (もっと読む)


【課題】焼結密度が高く、高電圧下でも異常放電を生じ難く、広い範囲に蒸着膜を形成するスパッタリングターゲット材に適するZnOスパッタリングターゲットとその製造方法などを提供する。
【解決手段】ZnOを主成分とし、希土類酸化物を含有する焼結体ペレットからなり、焼結体の相対密度が97.5%以上であることを特徴とし、好ましくは、希土類酸化物の含有量が0.05〜10質量%であり、一次粒子の平均粒径が0.1〜5.0μmのZnO粉末と、一次粒子の平均粒径が該ZnO粉末の平均粒径の1/5〜1/2である希土類酸化物粉末とを、希土類酸化物の含有量が上記範囲になるように混合し、バインダーを加え、加圧成形し、脱型後、1000℃以上で焼成してなるZnOスパッタリングターゲットとその製造方法。 (もっと読む)


【課題】磁気媒体の作成において、良質の磁気媒体を作製できるようにする。
【解決手段】基板8の外側周囲を回転する磁界発生手段7を備えたマグネトロンスパッタリングのためのチャンバー1内に、基板8と第1及び第2ターゲット21,21とを、前記基板8の中心軸と前記第1及び第2ターゲット21,21の中心軸とが交差するように配置し、前記チャンバー1内を排気し、前記チャンバー1内にガスを導入し、前記排気及びガス導入された雰囲気下で、前記基板8を回転させ、前記磁界発生手段7を前記基板8の外周の周りにおいて回転させながら、マグネトロンスパッタリング法により前記基板8の上に磁性膜及び異種材料膜を成膜する。 (もっと読む)


【課題】アシスト法を用いて成膜される高屈折率層のプラズマによる低屈折率層へのエッチングを阻止して、光学特性の劣化を防止した光学薄膜の形成方法、およびその光学薄膜を備えた光学素子を提供する。
【解決手段】光学基材上に、MgF2より成る低屈折率層とNb25より成る高屈折率層との間に、真空蒸着法を用いて形成された酸化物質のAl23層を有するNb25/MgF2/Al23構造の誘電体多層膜は、Al23層がイオンアシスト法を用いて成膜されるNb25層のプラズマによるMgF2層へのエッチングを阻止するバリヤ層として機能する。そして、この誘電体多層膜が形成された光学素子は、例えば、光ピックアップの波長405nmの青色半導体レーザに対応した偏光ビームスプリッタとして用いられる。 (もっと読む)


【課題】高い耐環境変動性と高い光線透過率とを同時に達成可能な透明導電膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜は、透明基板(1)上において1層以上の透明導電層(2)と、その上の複数層の水素含有カーボン層(3、4)とを含み、透明導電層の少なくとも1層は酸化亜鉛を含み、水素含有カーボン層の少なくとも2層はその構造と組成との少なくともいずれかにおいて互いに異なっており、1層以上の透明導電層が堆積された透明基板の光線透過率をT0としかつ複数層の水素含有カーボン層まで堆積された透明基板の光線透過率をT1とした場合に波長550nmの光に関してT1/T0≧1.02の関係が成り立つことを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】有機層を用いることなく、耐熱性を向上させた反射防止膜を有するプラスチックレンズおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチックレンズ基材の表面に直接または他の層を介して多層反射防止膜を有するプラスチックレンズ。前記多層反射防止膜は、金属元素が同一であり、かつ酸素含有量が異なる少なくとも2つの金属酸化物層を隣接して有する複合層を含む。上記のプラスチックレンズの製造方法。前記複合層を構成する各金属酸化物層は、同一の蒸発源を用い、かつ隣接する層同士は、反応性酸素ガス分圧が異なる条件下で蒸着することで形成されることを含む。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板とターゲットとを一定間隔おいて対向して配設され、ターゲット近傍にガス噴出口を有するガス導入部が設けられたスパッタ装置を用い、透明導電膜を形成しても、透明導電膜の抵抗値の分布のばらつきを低減するスパッタ装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板2を保持する基板キャリア10は、その枠部14の内側面には多数のO2 ガス噴出口12を有し、枠部の内部にはO2 ガス噴出口にO2 ガスを供給するO2 ガス供給経路11を有し、枠部の外側面にはO2 ガス供給機構20を備え、該O2 ガス供給機構は、O2 ガスをO2 ガス噴出口から基板キャリアに保持されたガラス基板の周縁部に向けて噴出させることができる。 (もっと読む)


【課題】単独膜が生成されることが無く、濃度ムラも無く共蒸着を行うことができるインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】搬送方向Tに垂直な基板4の幅方向に長く、搬送方向Tの上流側及び下流側に互いに平行に配置された開口部2a、3aを備え、異なる成膜材料A、Bを収容する2つの蒸着源2、3と、搬送方向Tの上流側及び下流側に互いに平行に配置され、共蒸着室1と隣接する他の蒸着室とを仕切る2つの防着板5A、5Bと、防着板5A、5Bにより制限された開口部2a、3aからの蒸気の基板4における蒸着範囲と一致するように、開口部2a、3aからの蒸気の蒸着範囲を制限する衝立6とを有し、基板4において、単独膜の成膜を防止して、混合膜のみを成膜するようにした。 (もっと読む)


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