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Fターム[4K029AA24]の内容

物理蒸着 (93,067) | 基体 (14,066) | 形状 (5,788) |  (3,910)

Fターム[4K029AA24]に分類される特許

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【課題】従来の方法では、良質な量子ドット結晶が得られない。
【解決手段】半導体微小突起構造体51の製造方法においては、微小突起21を形成し、その後加熱によって微小突起21を構成する材料を気化させて微小突起21を除去することにより穿孔41を形成している。そのため、穿孔41内の微小突起21などによる残留物が低減できる。そのため、穿孔41が形成された位置、すなわち微小突起21を形成した所望の位置に高品質な半導体微小突起構造体51を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】有機層を用いることなく、耐熱性を向上させた反射防止膜を有するプラスチックレンズおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチックレンズ基材の表面に直接または他の層を介して多層反射防止膜を有するプラスチックレンズ。前記多層反射防止膜は、金属元素が同一であり、かつ酸素含有量が異なる少なくとも2つの金属酸化物層を隣接して有する複合層を含む。上記のプラスチックレンズの製造方法。前記複合層を構成する各金属酸化物層は、同一の蒸発源を用い、かつ隣接する層同士は、反応性酸素ガス分圧が異なる条件下で蒸着することで形成されることを含む。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板とターゲットとを一定間隔おいて対向して配設され、ターゲット近傍にガス噴出口を有するガス導入部が設けられたスパッタ装置を用い、透明導電膜を形成しても、透明導電膜の抵抗値の分布のばらつきを低減するスパッタ装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板2を保持する基板キャリア10は、その枠部14の内側面には多数のO2 ガス噴出口12を有し、枠部の内部にはO2 ガス噴出口にO2 ガスを供給するO2 ガス供給経路11を有し、枠部の外側面にはO2 ガス供給機構20を備え、該O2 ガス供給機構は、O2 ガスをO2 ガス噴出口から基板キャリアに保持されたガラス基板の周縁部に向けて噴出させることができる。 (もっと読む)


【課題】単独膜が生成されることが無く、濃度ムラも無く共蒸着を行うことができるインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】搬送方向Tに垂直な基板4の幅方向に長く、搬送方向Tの上流側及び下流側に互いに平行に配置された開口部2a、3aを備え、異なる成膜材料A、Bを収容する2つの蒸着源2、3と、搬送方向Tの上流側及び下流側に互いに平行に配置され、共蒸着室1と隣接する他の蒸着室とを仕切る2つの防着板5A、5Bと、防着板5A、5Bにより制限された開口部2a、3aからの蒸気の基板4における蒸着範囲と一致するように、開口部2a、3aからの蒸気の蒸着範囲を制限する衝立6とを有し、基板4において、単独膜の成膜を防止して、混合膜のみを成膜するようにした。 (もっと読む)


【課題】 従来非球面レンズ或いは反射鏡は、型によるプレス加工又は研磨加工で製造していた。しかしながら加工精度を上げるには問題が多くあった。そこでスパッタ蒸着を用いて、時間がかかるが人手の必要としない高精度の加工により非球面光学部品を提供することを目的とする。
【解決手段】 従来のスパッタ蒸着流により堆積膜を形成させる方法は均一な膜厚の多層膜を形成して、それを研磨して製造する方法であったが、本発明はターゲットと堆積基板との間に回転するマスクを外周から駆動して、中心対称の補正収差が行える光学系の堆積膜厚変化に対応するマスキング羽根の形状を設計し、そのマスクを用いて所望の非球面膜をスパッタ蒸着で形成する製造装置により各種非球面光学部品を提供する。 (もっと読む)


【課題】アークをプラズマ源とし、マクロパーティクルを含まない良質の薄膜を高い成膜レートで形成できる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】プラズマ発生部10で発生しプラズマ分離部20に進入したプラズマは、斜め磁場発生コイル23の磁場により進行方向が曲げられ、プラズマ輸送部40を介して成膜チャンバ50内に入る。一方、アーク放電にともなって発生したマクロパーティクルは、磁場の影響を殆ど受けないためプラズマ分離部20を直進してパーティクルトラップ部30で捕捉される。プラズマ分離部20とパーティクルトラップ部30との境界部分には逆磁場発生コイル32が設けられており、この逆磁場発生コイル32の磁場によりパーティクルトラップ部30に入ろうとするイオンを押し戻される。これにより、成膜チャンバ50に入るイオンの量が増加し、成膜レートが向上する。 (もっと読む)


【課題】ホスト材料とドーパントとからなる膜層のドーパントの混合比率を、コストを抑制しつつ測定する。
【解決手段】第1の基板11を、周縁部を除いて開放した状態で基準面25上を第1の方向線51に沿って搬送する第1の搬送手段31と、第1の搬送手段31と隣り合う搬送手段であって、第2の基板12を周縁部を除いて開放した状態で基準面25上を第1の方向線51に沿って搬送する第2の搬送手段32と、基準面25上において第1の方向線51と直行する第2の方向線52を中心とする所定の幅を有する帯状の領域40と第1の基板11とが重なり得る第1の領域41及び帯状の領域40と第2の基板12とが重なり得る第2の領域42、の双方の領域に第2の蒸着材料を同時に飛翔させることが可能な第2の蒸着源62と、第1の蒸着材料を第1の領域41にのみ飛翔させることが可能な第1の蒸着源61と、を備えることを特徴とする蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】蒸着法による成膜を行う場合において、所望の蒸着材料のみが蒸着されることを可能にし、蒸着材料の利用効率を高めることによって製造コストを低減させると共に、均一性の高い膜を成膜することが可能な蒸着用基板を提供する。また、上記蒸着用基板を用いた発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された開口部を有する反射層と、基板および反射層上に形成された透光性を有する断熱層と、断熱層上に形成された光吸収層と、光吸収層上に形成された材料層とを有する。この様な構造の蒸着用基板を形成することにより、光照射によって反射層の開口部と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を被成膜基板に精度良く蒸着させることができる。 (もっと読む)


スパッタチャンバ(10)のスパッタリングターゲット(18)の後方でスパッタチャンバ(10)の中心軸(14)の周りで回転するマグネトロン(42)の方位角位置および円周位置を決定し、例えば遊星歯車機構を用いてほぼ任意の走査経路を可能にする、2つのモータ(32、36)を制御するための制御システムおよび方法が提供される。システムコントローラ(88)が、複数のコマンドをモーションコントローラ(150)に周期的に送出し、モーションコントローラがモータを密に制御する。各コマンドは、コマンドチケットを含む。モーションコントローラは、直前のコマンドとは異なる値のコマンドチケットを有するコマンドだけを受領する。あるコマンドは、モーションコントローラ内に格納された走査プロファイルを選択するものであり、別のコマンドは、センサに問い合わせて、アームが期待位置にあるかを判定する、動的帰着コマンドを命令するものである。
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【課題】所望の形状を有する膜を、生産性良く形成する成膜方法を提供することを目的とする。また、高精細な発光装置を、生産性良く作製することができる発光装置の作製方法を提供する。特に、大型の基板を用いた場合であっても、高精細な発光装置を作製する方法を提供する。
【解決手段】被成膜基板と、被成膜基板よりも小さい面積のシャドーマスクを用い、被成膜基板とシャドーマスクとの位置合わせを行い、被成膜基板の少なくとも一部に蒸着材料を成膜する工程を複数回行う。蒸着源としては、光吸収層と蒸着材料を有する支持基板を用いることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】蒸発源群の配置によって、材料放出口の温度制御を容易に行えるようにして、安定した成膜ができるようにすること。
【解決手段】蒸着装置1は、蒸発材料の設定温度が異なる3つ以上の材料放出口8a,8b,8cを一列に配列された蒸発源群7を複数備え、複数の蒸発源群は、各蒸発源群の隣り合う材料放出口8c(8a)の設定温度が同じ設定温度であるように配設され、蒸発源群と被蒸着部材との少なくとも一方が他方に対して移動可能になっている。 (もっと読む)


【課題】光学素子を成形から成膜に至るまで時間ロスのない工程設定を行い生産のリードタイムの短縮化を図る。
【解決手段】成膜機50において成膜に要する時間をT1、成膜機50の処理室58の数をN1(自然数)、成形機10において成形に要する時間をT2、成形機10の処理室22の数をN2(自然数)とした場合に、T1>T2のときはT1/T2≦N1,N2=1であり、T1<T2のときはT2/T1≦N2,N1=1とした。 (もっと読む)


【課題】表面抵抗が低く、酸素を含む雰囲気下で加熱しても加熱前後の表面抵抗の変化率が小さく耐熱性に優れた酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲットを提供する。
【解決手段】酸化亜鉛およびインジウムを含む焼結体からなる酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲットであって、焼結体に含まれるインジウム元素の比率は0.003〜30質量%である。焼結体の結晶粒径を走査型電子顕微鏡で観察したとき、平均結晶粒径は0.1〜20μmであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 被処理基板Sに、Li等を含有する高揮発性膜を形成する場合に、当該膜へのダメージを防止しつつ、高いスパッタレートが得られ、高い量産性が達成できるスパッタリング方法を提供する。
【解決手段】 真空雰囲気にて所定のスパッタガスを導入し、高揮発性金属含有のターゲット4に所定の電力を投入してプラズマ雰囲気を形成し、当該ターゲットをスパッタリングすることで、被処理基板表面に高揮発性膜を形成するスパッタリング方法において、ターゲットに負の電位を印加してスパッタリングする間、前記被処理基板Sが正の電位となるようにし、被処理基板へのプラズマ中の二次電子の流入を防止または抑制する。 (もっと読む)


【課題】反射電子帰還電極を含むUR式プラズマガンを複数有するプラズマ処理装置において、膜厚及び膜質の均一な膜を安定的に成膜できるようにする
【解決手段】少なくとも1つのUR式プラズマガンの電位をフローティング電位にする。すべてのUR式プラズマガンをフローティング電位にしてもよい。一つのUR式プラズマガンのみを接地し、他のUR式プラズマガンをフローティング電位にしてもよい。 (もっと読む)


【課題】電子デバイスの製造工程にて、薄膜形成工程の異常を早期に解決し、かつ低コストのプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】成膜装置内ターゲットに直流電源から電圧を印加しプラズマを発生させる。プラズマ中のイオンがターゲットに衝突しターゲット材料が飛散しウェハに付着して薄膜を形成する。エッチング処理の精度は、プラズマ中のイオンと薄膜が衝突する方向、エネルギーで決まり、イオンを制御性よく薄膜に衝突させるため交流電力源の交流電力を印加する。ウェハを流れる交流電力の電圧,電流,位相を交流電力モニタ装置で測定する。ウェハを流れる交流電力のインピーダンス値の変化により、薄膜形成工程に起因の異常を検出し、ウェハ温度コントローラを制御する。このウェハを流れる交流電力測定で薄膜異常を精度よく監視し、早期に異常を発見することを、新たに成膜装置の監視装置を追加することなく低コストにできる。 (もっと読む)


【課題】蒸着源が固定されて駆動軸により上下に移動される棚が、カウンターウェイトが装着された滑車と締結することによって、蒸着源及び棚の全体の重さが顕著に低減し、自重が減少した棚を往復移動させるための駆動装置の駆動力も小容量化になることができるとともに、カウンターウェイトによって軽減された棚の重さが望ましくは“0(zero)”になるようにして棚の正確な位置移動が可能になり、落下をあらかじめ除去できるようになった蒸着源用移動装置を提供する。
【解決手段】蒸着機が搭載/固定された棚と、この棚が選択的に垂直往復移動されることができるように連動設置された駆動軸と、棚が一端部と締結されて、カウンターウェイトが他端部に装着された重さの軽減部材と、が具備されてなされることを特徴とする蒸着源用移動装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】スパッタ膜の膜応力を絶対値で小さくし、スパッタカソードの周辺構造物からの膜剥離が少ないSnO系焼結体ターゲットの提供。
【解決手段】本発明のSnO系スパッタリングターゲットは、10ppmを越え1質量%未満のSbと、合計質量が20質量%以下であるTaおよび/またはNbと、残部としてのSnOおよび不可避不純物とからなる焼結体からなる。 (もっと読む)


【課題】膜材料の蒸着レートをより精密に制御可能な蒸着装置、蒸着方法、および有機EL装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】蒸着装置100は、膜材料を蒸発させて基板表面32aに成膜する蒸着装置であって、蒸着槽20と、蒸着槽20内に配置され、基板32を保持する保持部30と、蒸着槽20内に保持部30の基板保持面30aに対向して配置され、膜材料を蒸発させる複数の蒸着源36,38と、複数の蒸着源36,38のうち少なくとも1つを、基板保持面30aに対して相対移動可能な移動手段36a,38aと、を備えていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、基板ホルダの基板受け治具に被処理基板を嵌め込む際に、被処理基板を浮きなく嵌め込め、その結果、被処理基板の外周縁に割れ、欠けが発生しない基板ホルダおよびそれを備えた成膜装置を提供することである。
【解決手段】本発明の基板ホルダ21および蒸着装置20は、筒体22aの下端に内向きに張り出す内側フランジ22cを有し、筒体22aに嵌め込まれた半導体基板4の外周縁を内側フランジ22cで支持する基板受け治具22を備え、内側フランジ22cに、半導体基板4の外周縁に対する逃げ溝23を設けた基板ホルダ21およびそれを備えた蒸着装置20である。 (もっと読む)


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