【課題】高信頼性の半導体素子を得るために、Ｔｉ窒化物から成る膜をコンタクトバリアー層またはゲート電極などに用い、半導体素子のリーク電流を抑える。
【解決手段】ソース−ドレイン領域の接合深さが０．１〜０．３μｍである半導体素子のＴｉ窒化物から成るコンタクトバリアー層のＡｌ含有量を原子数で１×１０^１８個／ｃｍ^３以下に形成するためにＴｉ原料からエレクトロンビ−ム溶解法でＡｌを３ｐｐｍ以下に除去することを特徴とするマグネトロンスパッタリング装置用高純度Ｔｉ材の製造方法である。 （もっと読む）

基板クリーニング装置を備えたコータを開示する。また、基板クリーニング装置を備えたコータにおける基板の処理方法も開示する。基板クリーニング装置は、イオン銃（つまり、イオン源）を備えている。イオン銃は、コータ内に延びている基板走行路の下方（例えば、基板支持部の下方）に配置され、基板の底主面の処理に適している。一定の実施形態は、基板走行路に沿って、基板クリーニング装置よりも先方に、上向コーティング装置を備えている。この種のいくつかの実施形態において、上向コーティング装置は、基板の底主面に対し、光触媒コーティングを上方に向かって堆積するように構成されている。本発明のある実施形態は、下向コーティング装置を備えており、基板クリーニング装置は、基板走行路に沿って、前記下向コーティング装置よりも先方にある。この種のいくつかの実施形態はまた、基板走行路に沿って、基板クリーニング装置よりも先方に、上向コーティング装置も備えている。
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【課題】 有機ＥＬディスプレイデバイスに用いられた場合に、有機ＥＬ素子としての寿命を十分に長くでき、且つ、基板のフレキシビリティ性、基板の耐久性や強度を同時に十分満足できる有機ＥＬディスプレイデバイス用の基板を提供する。特に、ＩＴＯ膜の膜質を改善して、有機ＥＬ素子としての寿命を１０万時間を越えるようにできる有機ＥＬディスプレイデバイス用の基板を提供する。
【解決手段】 透明フレキシブル基材にＩＴＯ層からなる電極層を配設し、且つ、その水蒸気透過率が、１×１０^-2 g/ ｍ²/day 以下であるフレキシブル透明電極基板であって、ＩＴＯ層は、Ｘ線回折法における、そのＩＴＯ層の（２２２）面に相当する２θピーク位置が３０．４０°以上、３１．４０°以下である。 （もっと読む）

【課題】 Ｚ軸方向への移動機構の簡素化を実現しつつ、高精度かつ高い応答性を満たしており、真空中における高精度なＸＹθ方向の精密位置決め機能を備えると同時に、Ｚ軸方向への移動により基板受け渡しを行なうことができる位置決め装置を提供する。
【解決手段】 画素パターンの開口部を有する蒸着マスク７とガラス基板６とのＸＹθ方向の相対的な位置決め、及びＺ軸方向の位置決めを行う位置決め装置であって、固定部３上に、Ｚ軸方向に熱膨張及び熱収縮する弾性体継手２を介して、ＸＹθステージ１を支持するとともに、弾性体継手２に加熱手段１６を備えている。 （もっと読む）

本発明は、基板の温度を予測し、容易に基板の温度を制御することが出来る基板処理装置を提供することを目的とする。反応炉（処理室）３には、ゾーンヒータ３４０−１〜３４０−４により、それぞれ温度の設定および調節が可能な４つの温度調節ゾーンが形成されている。温度コントローラ４は、ゾーンヒータ３４０−１〜３４０−４によって加熱された基板の温度の時定数に基づいて、内部熱電対３０２−１〜３０２−４および外部熱電対３４２−１〜３４２−４が検出した温度を混合して基板の予測温度を一次遅れ演算により算出する。また、温度コントローラ４は、ゾーンヒータ３４０−１〜３４０−４に対する電力値（操作量）を基板の予測温度を用いて算出し、ゾーンヒータ３４０−１〜３４０−４に対して出力する。
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【課題】反りや薄膜の剥離が生ずることがなく、良好なパターン位置精度を有するステンシルマスクを得ることの可能なステンシルマスク用マスクブランク、ステンシルマスク、及びそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】支持基板と、該支持基板により支持されたシリコン薄膜とを含む２層構造を有するステンシルマスク用マスクブランクであって、該シリコン薄膜の応力が０ＭＰａ以上１００ＭＰａ以下に調整されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高硬度、耐スクラッチ性、耐磨耗性、耐薬品性、耐熱性等を含む耐久性に優れ、可視光応答型光触媒として機能する多機能材が適用された鉄鋼製品を提供する。
【解決手段】 この鉄鋼製品は、鉄鋼によって形成されている心材と、該心材の表面に形成されている表面層であって、Ｔｉ−Ｃ結合の状態で炭素がドープされている酸化チタン又はチタン合金酸化物を含む表面層とを有する。 （もっと読む）

【課題】
熱や曲げなどの機械的負荷が加わっても、導電性を維持できるフレキシビリティ性を有する透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
可とう性の透明基板へ透明導電膜を形成した後に、該透明導電膜の表面へ、好ましくはレーザーが連続発振タイプであり、レーザー光の波長が４００〜１２００ｎｍである可視域から赤外域の波長を有するレーザー光を照射して表面処理を施し、１６０℃のオーブンで１時間保持した後に常温に戻す操作を３回繰返す熱サイクル試験においても、透明導電膜にクラックが発生しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 大型の基板の場合でも、必要な成膜速度を維持してボトムカバレッジ率を向上させることができるようにする。
【解決手段】 カソード２を構成する磁石機構４は、ターゲット５の表面のある場所から出てターゲット５の表面の他の場所に入る漏洩磁力線をターゲット５の表面上に周状に連ねて周状磁界を複数設定する、これによって磁石機構４の静止時には周状となるエロージョン領域５０が交差せずに複数形成される。エロージョン領域５０のうちのエロージョン最深部から最も大きな入射角でスパッタ粒子が基板３０に入射する箇所のその入射角は、一つのエロージョン領域の場合に比べて小さくなる。 （もっと読む）

非粘着性物品を示す。実質的にアモルファスの微細構造を有する疎水性酸化物層１を備えた金属基体２を含む。非粘着性物品は、好ましくはＰＶＤ法により作られる。用いる適切な方法は、電子ビーム蒸着（ＥＢ）法である。キャパシタもしくは電池のような電子部品の製造に用いてもよく、または低融点金属と接触する表面として用いてもよい。
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【課題】 複数の真空処理室あるいは真空処理容器とこれらに共通の搬送室を備えた真空処理装置であって、メンテナンスや機器の取り付け、取り外しといった作業が容易な真空処理装置を提供する。
【解決手段】 多角形の搬送チャンバの隣合う辺に取付けられた２つの真空容器と、前記各真空容器に接続された真空排気装置と、前記２つの真空容器及び前記真空排気装置の下方に各々配置されたステージと、前記各ステージと前記各真空容器との間に各々配置された複数の支持柱を有し、これら各支持柱のうちの１本は前記２つの真空容器間の狭隘部に配置され、前記２つの真空容器と前記２つのステージとに連結され、前記支持柱のうち他の複数の支持柱が前記真空容器の下方にそれぞれ配置されかつ前記真空排気装置を挟んで対応する側に配置された真空処理装置。 （もっと読む）

【課題】 チタンを屋根、壁材のような過酷な酸性雨環境中で使用した場合も優れた耐変色性を示し、長期間に亘って意匠性が劣化することのない、大気環境中において変色を生じにくい純チタンまたはチタン合金を提供する。
【解決手段】 純チタンあるいはチタン合金の表面上に厚みが０．１〜１．５μｍの窒化チタン層が形成されており、該窒化チタン層中に平均で１〜３５原子％の酸素が含有され、かつ、チタン表面から１００ｎｍの深さの範囲における平均の炭素濃度が３ａｔ％以上１５ａｔ％以下であることを特徴とする大気環境中において変色を生じにくいチタンまたはチタン合金。 （もっと読む）

【課題】非晶質状態が安定でかつ抵抗値が高いために非晶質化の際に流れる電流値が低い相変化記録膜およびその相変化記録膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】原子％でＧｅ：２７〜４５％、Ｓｂ：５〜２０％を含有し、さらにＢ、Ａｌ、Ｃ、Ｓｉおよび希土類元素の内の１種または２種以上を合計で０．５〜８％を含有し、さらにＧａ：０．５〜８％を含有し、残部がＴｅおよび不可避不純物からなる組成を有することを特徴とする相変化記録膜およびその相変化膜を形成するためのスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】 高硬度、耐スクラッチ性、耐磨耗性、耐薬品性、耐熱性等を含む耐久性に優れ、可視光応答型光触媒として機能する多機能材が適用された非鉄金属製品を提供する。
【解決手段】 この非鉄金属製品は、非鉄金属によって形成されている心材と、該心材の外側に形成されている表面層であって、Ｔｉ−Ｃ結合の状態で炭素がドープされている酸化チタン又はチタン合金酸化物を含む表面層とを有する。 （もっと読む）

【課題】 十分な耐食性を有するとともに、優れた耐熱性を有する希土類磁石及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 希土類磁石１は、磁石素体３と、その磁石素体３の表面を被覆する保護層５とを備えている。保護層５は、磁石素体３を覆い希土類元素を含有する第１の層６と、第１の層を覆い希土類元素を実質的に含有しない第２の層７と、第２の層を覆い第１及び第２の層とは異なる組成を有する酸化物層８とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、高寸法精度の蒸着パターンを得ることができ、マスクフレームの変形を防止しつつマスクを張力が加えられた状態でマスクフレームに固定した高精度なマスク構造体およびそれを用いた蒸着方法、並びに有機発光素子の製造方法を提供することにある。
【解決手段】 マスク構造体１０は、マスク１２とマスクフレーム１６を備える。マスク１２は、開口領域１４を有する。マスクフレーム１６は、少なくとも互いに対向する一対の辺を有し、マスク１２が張力を印加した状態でマスク１２の端部が固定される枠体１８と、一対の辺を互いに接続し、開口領域１４同士の間の直下に配置される桟２０を有する。 （もっと読む）

【課題】 ニオブ酸カリウムの薄膜を有するニオブ酸カリウム堆積体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るニオブ酸カリウム堆積体１００の製造方法は，
Ｒ面サファイア基板からなる基板１１の上方にバッファ層１２を形成する工程と、
バッファ層１２の上方に、擬立方晶表示において（１００）配向でエピタキシャル成長したニオブ酸カリウム層１３またはニオブ酸カリウム固溶体層を形成する工程と、
ニオブ酸カリウム層１３またはニオブ酸カリウム固溶体層の上方に電極層を形成する工程と、を含み、
ニオブ酸カリウム層１３またはニオブ酸カリウム固溶体層の（１００）面は、Ｒ面サファイア基板１１のＲ面（１−１０２）に対して，［１１−２０］方向ベクトルを回転軸として傾くように形成される。 （もっと読む）

【課題】 シリコンマスクを形成するエッチング処理時に、エッチング処理を最適な時期に終了させることが容易なマスク、及びマスクの製造方法を提案する。
【解決手段】 被成膜基板に対して所定パターンを有する薄膜を形成するためのシリコンマスクＭが、シリコン基材Ｓ上に、所定パターンに対応する開口部２０と、開口部２０を形成する際の形成状態を検知可能な検知部１５と、を備える。
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【課題】露光時の電子線照射によって、反り調整層に電荷が蓄積され、電子線が偏向し転写精度が低下することのないステンシルマスクを製造するステンシルマスクブランクを提供する。ステンシルマスク、その製造方法、ステンシルマスクを用いた荷電粒子線のパターン露光方法を提供する。
【解決手段】単結晶シリコンウェハからなる支持基板と、転写パターンを設けるための活性層と、前記支持基板と活性層の間に形成された中間絶縁層と、前記支持基板のもう一方側に設けたアモルファスシリコン層とを有し、前記転写パターンに対応する開口部を、前記アモルファスシリコン層と、前記支持基板と、前記中間絶縁層に設けたこと。 （もっと読む）

【課題】 マスククランプの移動量を複数に分割するマスククランプの移動機構およびこの機構を備えた成膜装置を提供する。
【解決手段】 マスククランプ２０の移動機構は、有機ＥＬ素子を製造するための成膜装置におけるマスククランプ２０の移動機構であって、有機材料１２の蒸発源１４に対向して配設され、基板とマスク３４とが重ね合わされるチャック１６と、先端部２０ａを鉤型に形成してなるとともに、チャック１６に重ね合わされたマスク３４を前記先端部２０ａで保持するマスククランプ２０と、前記基板クランプ１８を移動させる伸縮手段２２とを備え、前記伸縮手段２２は、第１伸縮手段２４を装置本体１１に配設するとともに、伸縮動作をなす第１ロッドを板部材２３に接続し、第２伸縮手段２６を前記板部材２３に配設するとともに、伸縮動作をなす第２ロッドを前記基板クランプ１８の基端部に接続または接触させてなる構成である。 （もっと読む）