【課題】該中断時間を短縮できる分子線結晶成長装置を提供する。
【解決手段】成長室１３は、窒素を含むIII−Ｖ化合物半導体を成長するために用いられる。各粒子ビーム源１５は、成長室１３に接続されており、III−Ｖ化合物半導体を成長するための構成元素を提供する。窒素源装置１７は、成長室１３に接続されている。窒素源装置１７は、ラジカルガン１９と、ハウジング２３と、シャッタ２５とを含む。ラジカルガン１９は、窒素ラジカルを発生する。ハウジング２３は、分子線結晶成長装置１１の成長室１３に設けられた開口２１に接続可能であり、またラジカルガン１９を収容する。シャッタ２５は、開口２１とラジカルガン１９との間に設けられ、またラジカルガン１９からの粒子フラックスを調整するためにアパーチャのサイズを変更できる。 （もっと読む）

本発明の薄膜形成装置（１）は、真空容器（１１）内に反応性ガスを導入するガス導入手段と、真空容器（１１）内に反応性ガスのプラズマを発生させるプラズマ発生手段（６１）を備える。プラズマ発生手段（６１）は、誘電体壁（６３）と渦状のアンテナ（６５ａ，６５ｂ）を有して構成されている。アンテナ（６５ａ，６５ｂ）は、高周波電源（６９）に対して並列に接続され、アンテナ（６５ａ，６５ｂ）の渦を成す面に対する垂線に垂直な方向に隣り合った状態で設けられている。
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【課題】 可撓性基材に薄膜を形成してフレキシブルプリント基材とするために、配線の微細化に支障となる接着剤を必要とせずに、製造コストを高めることなく、可撓性基材に高い密着性で薄膜を形成し、更に、得られたフレキシブルプリント基材に皺やカーリング等が生じない製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】 真空槽内において可撓性基材上に金属薄膜層を形成するためのフレキシブルプリント基材の製造装置であって、前記真空槽は、前記可撓性基材の搬送方向に、プラズマ処理手段と、シード層形成手段と、金属薄膜層形成手段と、加熱圧延手段とを順に備え、前記シード層形成手段と、前記薄膜層形成手段とを、前記可撓性基材を巻回して搬送するとともに前記可撓性基材を加熱するためのメインローラーの周方向に沿って設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の大型化に対応するための垂直移動型有機物蒸着装置において、蒸着源から噴射される有機気相物質が真空チャンバ内で飛散して蒸着源を上下方向に移動させる駆動軸に付着することを防止することができる蒸着システム用蒸着源の駆動軸密閉装置及びこれを具備した蒸着システムを提供する。
【解決手段】蒸着システムの真空チャンバに設置された駆動軸に結合する結合部と、連結部を介して前記結合部に連結されて前記真空チャンバで有機気相物質を噴射する蒸着源を支持する支持板を有して前記連結部には貫通口が形成されている支持体；と、前記駆動軸を取り囲んで前記支持体が前記駆動軸にしたがって移動可能になるように一側面が開放されているビーム；と、前記貫通口を貫通する遮断板；とでなる蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システムを提供する。 （もっと読む）

【課題】 手間・時間・コストを軽減でき、環境上の問題もない新たな前処理によって、めっき膜の付着力を確保するとともにブツ欠陥を低減する。
【解決手段】 樹脂基材の表面にケイ酸化炎、チタン酸化炎又はアルミニウム酸化炎を酸化炎と共に吹き付けて表面改質処理を行った後、前記樹脂基材の表面に乾式めっき又は湿式めっきを行ってめっき膜を形成する。表面改質は、例えばケイ酸化炎の場合、樹脂基材の表面にめっき膜との付着力を得るために必要な極性基としてのシノラール基が付与されることによる。 （もっと読む）

【課題】
表面粗度が細かくサイズを大きくすることを可能とする回折格子の製作方法を提供する。
【解決手段】
イオンビームを照射するイオン源４とイオンが照射されてスパッタリングされるターゲット材２とターゲット材２から叩き出された原子が堆積する基板１が設置され、ターゲット材２と基板１の間にはマスク３が配設されている。ターゲット材２には二酸化珪素材が使用される。マスク３は基板１より一回り大きく製作され、表面には格子状に透過部であるスリット１６が設けられている。スリット１６は回折格子の溝数に合わせて加工される。マスク３は上下に可動可能にガイド棒ホルダー１２に固定されたガイド棒６に挿入されたマスクホルダー７に取り付けられている。マスクホルダー７の右端はネジ棒９と螺合するボールネジ可動部８と一体にされており、ネジ棒９はモータホルダー１１に固定されたパルスモータ１０と連結されている。 （もっと読む）

【課題】
大気とは異なる環境において長寿命を実現できる駆動装置を提供する。
【解決手段】
移動テーブル４の表面側と裏面側に振り分けて回転台２４と駆動ユニット２５とを配置したので、重量バランスを適正にとることができ、スライダ３の負担を抑えることで超寿命化を図ることができる。また、回転台２４と駆動ユニット２５を支持する移動テーブル４の剛性も低くて足りるので、これを小型化することで構成のコンパクト化を図ることができ、更にモータ９の定格出力も小さくすることができてコスト低減を図れる。 （もっと読む）

【課題】自由度の高いパターニング方法に用いるパターニング装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターニング装置は、圧力を調整可能な真空チャンバーと、材料供給源に接続され、かつ前記真空チャンバーに取り付けられ、前記真空チャンバー内に前記材料供給源からの材料を供給するノズルと、前記真空チャンバー内に設けられた、基体を保持固定するための基体ステージと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 レジストをスピンコータにより塗布したときに、遠心力で広がったレジスト液がウエハの四隅に溜まり中央部分より厚膜になる。隅にレジスト膜の残渣がある状態で、従来のメタルマスクに装填して蒸着あるいはスパッタを行うと、レジストの残渣により上下のマスク２１、２３とウエハとの密着が悪くなり、形成する蒸着パターンの精度が劣化するという問題があった。
【解決手段】 複数の所定のパターンの開口窓５を有する上マスク２と、開口部６を有する中板３と、複数の所定のパターンの開口窓６を有する下マスク４とを備えたメタルマスクであって、前記上マスク２及び下マスク４の中板３に接する面の四隅に三角状のハーフエッチング１０，１１を施してメタルマスクを構成する。 （もっと読む）

【課題】 サイズの大きい被処理物に対しても、被処理物の欠けや被膜ハガレの発生率を抑えて、その表面に蒸着被膜を効率的に形成することができる、蒸着被膜形成方法を提供すること。
【解決手段】 真空処理室内に、蒸着材料の蒸発部と、その表面に蒸着材料が蒸着される被処理物を収容するための多孔性周面を有する筒型バレルを備え、筒型バレルを横設して水平方向の回転軸線を中心に回転させながら被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させる蒸着被膜形成装置を用いた蒸着被膜形成方法であって、（１）被処理物と金属製スプリング部材を、筒型バレル内にそれぞれ多数収容し、被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させることを特徴とするか、（２）金属製スプリングをテンションを付加して架設した筒型バレル内に、被処理物を多数収容し、被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】 ナノ狭窄スペーサを有する磁気抵抗（ＭＲ）センサのスピンバルブ内に使用する薄膜の生成方法を提供する。
【解決手段】 スピンバルブのボトムをピン層まで蒸着し、蒸着室を用意し、スペーサ層をその上にスパッタリングする。主イオンビームが磁性チップと絶縁材を含む合成面上にイオンを生成する。同時に、支援イオンビームが基板に直接イオンを供給し、かくしてスペーサ層の柔軟度と平滑度を改善する。中和器もまた配設し、イオン反発を防止し、イオンビーム合焦を改善する。その結果、薄膜スペーサを形成することができ、低保磁力とフリー層とピン層の間の低層間結合とを有するナノ狭窄ＭＲスピンバルブが形成される。 （もっと読む）

成膜用基板上にＣｕＯを主とする酸化銅薄膜をプラズマ成膜し、摩擦系数を顕著に低く制御可能とする。
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【課題】
大気環境と、大気とは異なる環境とを隔てるハウジングの剛性に関わらず、高精度な移動を実現できる駆動装置を提供する。
【解決手段】
連結部材１２が、フレーム１の上板１ｂと、真空チャンバＣの頂板下面Ｃ２とを連結するが、フレーム１と真空チャンバＣの側面とを連結しないので、真空チャンバＣの内外で生じる差圧に従い、比較的大きな変形が、真空チャンバＣの側面で生じた場合でも、かかる差圧がフレーム１に与える影響を低く抑えることができる。又、真空チャンバＣの側面で変形が生じた場合、真空チャンバＣの底面Ｃ１と頂板下面Ｃ２との距離が変化することになるが、連結部材１２の薄板部材１２ｃがたわむことによって、底面Ｃ１と頂板下面Ｃ２との距離の変化に対応できるようにしている。 （もっと読む）

【課題】絶縁性の基板を吸着できる吸着装置を提供する。
【解決手段】表面が絶縁されている基体１０上に第１、第２の電極１１、１２を露出して設け、絶縁性の基板が第１、第２の電極表面に接触するか、非常に近接して配置されるようにする。第１、第２の電極間には、空間変化率の大きな電場が形成されるので、グラディエント力により、基板７は吸着装置１表面に吸着される。グラディエント力の大きさは電場の変化率の大きさに依存しているので、第１、第２の電極１１、１２間に電圧を印加し、１．０×１０⁶Ｖ／ｍ以上の電場を形成するとよい。 （もっと読む）

【課題】基板上の膜厚分布を均一にすることができるスパッタ成膜装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかるスパッタ成膜装置１０は、真空チャンバー１１内でターゲット１４を用いて回転ドラム１２の外周に設けられた複数の基板２０にスパッタ成膜するものであり、真空チャンバー１１内に回転可能に設けられた回転ドラム１２と、回転ドラム１２の回転軸１２Ａと略平行に配設けられたターゲット１４と、速度制御装置１７とを備えている。速度制御装置１７は、基板２０のうち回転ドラム１２の回転方向Ｘにおける両端部がターゲット１４に近づいたときの回転速度が、基板２０の両端部間の中央部がターゲット１４に近づいたときの回転速度よりも速くなるように、回転ドラム１２の回転速度を制御する。 （もっと読む）

【課題】低屈折率誘電体層の成膜レートがより高められた、生産性に優れる光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】高屈折率誘電体層と低屈折率誘電体層とが積層された複合型の誘電体層を備える光情報記録媒体であって、この低屈折率誘電体層に強磁性遷移金属を含有するＳｉ酸化物を用いることで、生産性に優れる光情報記録媒体を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 片当たりによる摺動面の摩耗や焼き付きを効果的に防止する、簡易な構造のすべり軸受を提供する。
【解決手段】 裏金３０の上に中間層４０が積層され、さらに中間層４０の上に軸受合金層５０が積層されてなるすべり軸受において、中間層４０は弾性歪限界が１％以上の擬弾性合金である、すべり軸受である。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の温度分布の均一性を向上させることができる規則的微細構造を有するサセプターと、その製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のサセプターは、表面は同一形状に設計された凹部が規則的に配列した形状であり、且つ、前記凹部の形状が半球状であることを特徴とし、さらには前記規則的に配列した半球状の凹部が互いに連結していることを特徴とする。そしてこのサセプターは、基板２０１上に第一の材料からなる微粒子２０２を規則的に２次元配列させる工程と、基板２０１と微粒子２０２によって形成された空隙に第二の材料からなる物質２０３を充填し必要に応じ硬化させる工程と、前記微粒子２０２を除去する工程により形成したことを特徴とする。また、必要に応じて、第二の材料からなる物質２０３の表面に、第三の材料からなる膜２０５を形成する。 （もっと読む）

成膜チャンバ（１１）の前段にロードロックチャンバ（１２）が、ダンパ等を介して連結されている。ロードロックチャンバ（１２）には、Ｎ_２ガス及び気体又は霧状のＨ_２Ｏが供給される配管が連結されている。この配管は、ベーパライザ（１３）から繋がっている。ロードロックチャンバ（１２）内には、ウェハ（２０）が載置される搬送部（１５）が設けられ、ロードロックチャンバ（１２）の外部には、液体窒素を用いて搬送部（１５）を冷却する冷却器（１４）が配置されている。搬送部（１５）の温度は、例えば−４℃に保持される。
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【課題】剥離がなく耐スパッタ性の高い保護膜を実現し高輝度で長寿命なＰＤＰを提供する。
【解決手段】前面ガラス基板１１上に表示電極１２と誘電体層１３と第一の保護膜１４と第二の保護膜１５とを備えた前面板１０と、背面ガラス基板２１上にアドレス電極２２と下地誘電体層２３と隔壁２４と蛍光体層２５とを備えた背面板２０とが、放電空間３０を介して対向配置され、第一の保護膜１４の膜密度と第二の保護膜１５の膜密度とを異ならせている。 （もっと読む）