【課題】炭素を含む銅酸化物超伝導体の薄膜が、より高いＴｃを備えた状態で得られるようにする。
【解決手段】結晶基板１０１の表面に酸素ラジカル及び二酸化炭素からなる反応ガス１２１が供給された（吹き付けられた）状態とし、この後、結晶基板１０１が５５０℃程度に加熱された状態とし、また、Ｂａ，Ｃａ，Ｃｕ），及びフラーレンＣ₆₀の各蒸着源を、所定温度にまで加熱して蒸発させ、金属原料１２２が結晶基板１０１の表面に供給された状態とすることで、結晶基板１０１の上に、Ｔｃが８５Ｋと高い超伝導転移臨界温度を示す酸化物超伝導薄膜１０２が形成された状態が得られる。 （もっと読む）

【課題】 荷電ビーム照射に伴うレジストの帯電及び放電破壊を防止することができ、露光用マスクにおけるパターン精度の向上及び製造歩留まりの向上をはかる。
【解決手段】 露光光に対して透明な基板１１上の一主面に荷電ビームリソグラフィーを含むプロセスによりパターンを形成するための露光光に対して不透明な導電性の遮光体１２を形成したマスクブランクス基板であって、基板１１の一主面上の４隅を含む全面がく導電性材料で覆われている。 （もっと読む）

【課題】 薄膜を形成した後の基板の湾曲が少ない光学物品を提供することが可能な薄膜形成方法及び薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 薄膜形成装置１は、基板Ｓを保持する基板ホルダ１３と、基体ホルダ１３の片面側に配置された成膜プロセス領域２０，成膜プロセス領域３０，反応プロセス領域６０と、基板ホルダ１３を挟んで成膜プロセス領域２０、成膜プロセス領域４０，反応プロセス領域６０のそれぞれ反対側に形成された成膜プロセス領域３０，成膜プロセス領域５０，反応プロセス領域７０と、を備えている。成膜プロセス領域２０，成膜プロセス領域４０，反応プロセス領域６０において形成される薄膜による基板の湾曲を、成膜プロセス領域３０，成膜プロセス領域５０，反応プロセス領域７０において基板の反対側の面に同時に薄膜を形成することで、薄膜の内部応力による基板の湾曲を相殺しつつ、基板の両面に薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 プラズマによる撥水処理層の成形手段に真空中の高密度プラズマ環境を形成することによって、効率よくかつ強固に撥水処理層を形成できるようにした、超撥水膜の製造方法および製造装置並びにその製品の提供。
【解決手段】 有機ケイ素モノマーをプラズマによって重合し基材２に膜形成させる方法において、高密度プラズマを用いる。 （もっと読む）

【課題】非晶質透明導電膜のアンカー効果を高めて接着力を向上させ、耐久性に優れた透明導電膜を得、また、ＡＣＦや検査用プローブとの接触抵抗を低減可能な透明導電膜を得ることを目的とする。
【解決手段】表面粗さの最大値であるRmaxの値が、１０ｎｍ以上であることを特徴とする非晶質透明導電膜を提供する。この非晶質透明導電膜と異方導電フィルム（ＡＣＦ）との間、及びこの非晶質透明導電膜と検査用プローブとの間、等に生じる接触抵抗を小さな値にすることができる。また、この非晶質透明明導電膜は、アンカー効果を従来より大きくでき、その結果、従来より耐久性の向上を図ることができる。
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【課題】薄膜形成用のシャドーマスクを基板に対して平行に保持する。装置の設置面積をできるだけ小さくし、薄膜の膜厚を均一にする。
【解決手段】真空チャンバー１１０の上部に回転軸１２１を配置する。該回転軸１２１の内部に蒸発器１４０を設けて原料物質を気化させる。該回転軸１２１の下端にはガス注入器１１３を連結して、一体的に回転させる。ガス注入器１１３の下方には基板Ｓを配置し、該基板Ｓの上面にはシャドーマスク１１２を吸着させる。回転軸１２１の上部に供給されるキャリアガスは、気化された原料物質を運搬して基板Ｓの上面に付着させる。これにより、薄膜が形成される。本発明によれば、シャドーマスク１１２は基板Ｓに載置されるので、基板Ｓに対して平行に保持されることとなる。ガス注入器１１３は回転式であるため、装置の設置面積を小さくでき、かつ、薄膜の膜厚を均一にできる。 （もっと読む）

本発明は、回転可能な基板ペデスタル及び少なくとも１つの移動可能な傾斜ターゲットを有する物理気相堆積（ＰＶＤ）チャンバに関する。本発明の実施形態によれば、均一性の高い薄膜を堆積させることができる。 （もっと読む）

【課題】エンジン油やトランスミッショシ油等の潤滑油中においても低い摩擦係数が得られ、簡便なプロセスで製造でき、かつ潤滑油の種類の制約が少ない硬質炭素被膜摺動部材を提供する。
【解決手段】少なくとも相手材との摺動部位に硬質炭素被膜を備えた摺動部材の上記硬質炭素被膜中にマグネシウムを含有させ、その含有量を２原子％以上４１原子％以下の範囲とする。 （もっと読む）

【課題】異なる化学構造を持つ複数種類のポリマーをターゲット材料とすることで、高周波スパッタ法による一つのプロセスによって、分子レベルで構造が混合された新たな複合ポリマー材料を提供する。
【解決手段】固体のポリマーＡの上に、Ａと異なる分子構造を有するポリマーＢ溶液を展開し乾燥させた複合材料をターゲットとして用い、高周波スパッタで基板上に、微細なグレインが高密度に凝縮した構造を形成する。 （もっと読む）

【課題】電圧降下による消費電力の増大および表示性能の低下を抑制できるとともに高い発光効率を確保できる有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】透明電極１０および対向電極２０の間に有機発光層を含む有機物層３０が挟持された有機ＥＬ素子１において、透明電極１０を、半導体薄膜および絶縁体薄膜の少なくともいずれか一方と金属薄膜との積層体により構成し、半導体薄膜および絶縁体薄膜を、キャリア濃度が１０²⁰ｃｍ^-3未満でありかつエネルギーギャップが２．７ｅＶ以上のものとし、半導体薄膜または絶縁体薄膜を有機物層３０と隣接させる。これにより、透明電極１０の面抵抗を小さくできるとともに、高い発光効率を確保できる。 （もっと読む）

気化した有機材料の基板表面への堆積を制御する方法は、基板表面に堆積させるために気化した有機材料を通過させる少なくとも1つの開口部を有するマニホールドを用意し；ある体積の有機材料を供給し、第1の状態では、その有機材料の蒸気圧が、基板に層を有効に形成するのに必要であるよりも低い値になるようにその有機材料の温度を維持し、第2の状態では、加熱されたその有機材料の蒸気圧が、層を形成するのに十分な大きさになるようにその有機材料の初期体積の一部を加熱する操作を含んでいる。
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【課題】有機ＬＥＤの製造において蒸着処理を精度よく行う。
【解決手段】蒸着のための貫通孔５４，６０，．．．を備えた蒸着マスク１０の上面には、嵌合部として台形上の凸部１５０，１５２が設けられている。また、基板１００の下面には、対応する凹部１６０，１６２が設けられている。蒸着は両者を嵌合した状態で行う。これにより、熱膨張にともなう位置ずれを防止することができる。嵌合部は、基板１０に製作されるパネルの周囲に設置してもよいし、複数の有機発光素子からなるピクセルの周囲に設置してもよい。 （もっと読む）

本発明は、回転可能な基板用ペデスタルを有する物理的気相堆積（ＰＶＤ）チャンバに関する。本発明の実施形態は、高度に均一な薄膜の堆積を容易にする。更なる実施形態において、一以上のスパッタリングターゲットがペデスタル上方に移動可能に配置される。ペデスタルに対するターゲットの配向は、横方向、垂直方向、又は角度的に調整可能である。一実施形態において、ターゲットは、約０°から約４５°の間で、ペデスタルの回転軸に対して調整されてもよい。
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【課題】簡素な装置構成で運転が容易で長期間に亘り安定的に成膜操作が可能であり、またターゲットの不均一で無駄な消耗が少なく高価なターゲット材料の使用歩留りを大幅に高めることが可能なレーザーアブレーション装置を提供する。
【解決手段】膜構成成分を含有する円盤状のターゲット２を保持するターゲット保持台３２と、上記ターゲット２にレーザー光４を照射することによりターゲット成分を原子，分子，イオンまたはクラスター状の微細化粒子として放出するレーザー発振装置５と、上記ターゲットから放出された微細化粒子を薄膜として堆積させる基板６を保持する基板保持台１４と、上記ターゲット保持台３２をその自転軸周りに回転自在とし、かつ自転軸と平行で所定距離をおいて配置された公転軸周りに公転自在とするターゲット駆動機構３とを備える。 （もっと読む）

スパッタリング成膜時に基板を低温で加熱することにより結晶性ＩＴＯ透明導電薄膜が成膜される。Ｉｎ_２Ｏ_３とＳｎＯ_２との合計に対するＳｎＯ_２の重量割合が６％以下のＩＴＯターゲットを用い、スパッタリング成膜時に基板を９０〜１７０℃に加熱することにより結晶性ＩＴＯ透明導電薄膜を成膜する。基板の耐熱性に見合う低温加熱で、高強度で機械的耐久性に優れた結晶性ＩＴＯ膜を成膜することができ、成膜後のアニールが不要となる。高分子フィルム４上にこのＩＴＯ透明導電薄膜５が成膜された透明導電性フィルム及びこの透明導電性フィルムを備えるタッチパネルが提供される。
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【課題】 ターゲット面上への不純物の混入、及び最終的には成膜基板への不純物の混入を防ぎ、外観特性の優れた成膜基板を提供する。
【解決手段】 プラズマ中の荷電粒子等からダメージを受けやすいシャッター機構の形状を従来の平面上の形状から、屏風型形状で、しかも板の折りたたんだ部分の角度が、ターゲット面から飛来する物質の突入角度に対して、２０度以下の入射角度となるように細かな折り込み構造手段をもったシャッター機構である。 （もっと読む）

【課題】接着力の向上された銀合金を利用して画素電極を製作することによって、画素電極の生産性を向上させ、反射率の改善も可能な有機発光素子を提供する。【解決手段】 基板上に形成される有機発光素子に関する。有機発光素子は基板上に金属酸化物を含む第１電極と、第１電極上にランタン系列とアクチニウム系列の元素からなるグループから選ばれた一つ以上の金属を添加して合金化した銀を含む第２電極と、第２電極上に金属酸化物を含む第３電極を備える画素電極を含む。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録媒体のグラニュラー記録層において磁性粒子と非磁性粒界を適切に分離し、磁性粒子の磁気異方性を損なうことなく粒子間の磁気的相互作用を低減し、媒体ノイズを低減する。
【解決手段】ＣｏとＰｔとＣｒとを含む合金結晶粒子と、ＳｉとＯとを含む非磁性粒界を含み、記録層中のＳｉ原子数に対するＯ原子数の比率が２．５以上５以下、記録層中のＳｉ原子含有率が３〜６原子％、Ｏ原子含有率が１２〜２０原子％である垂直磁気記録媒体を用いる。また、記録層の形成時、基板中心に対し同心円状に並ぶ気体導入口より酸素を含むプロセスガスを導入することにより、記録層の媒体面内の任意の点における垂直保磁力の分布を、平均値の±１０％以下とする。 （もっと読む）

【課題】従来の真空蒸着法による薄膜形成では、蒸着材料の蒸発速度を膜厚モニターにより検出し、蒸着容器の加熱量を制御して蒸発速度を一定に保っていた。しかし、急激な蒸発速度の変化に対しては対応が困難であり、このときに形成された蒸着膜は膜質が異なったり共蒸着濃度が変化してしまったりしていた。
【解決手段】蒸発速度の急激な変化が検出されたら、基板側シャッターと蒸着容器側シャッターを遮蔽して基板への蒸着膜の形成を停止する。その後、蒸発速度が安定したら、シャッターを開放して基板への蒸着膜の形成を再開する。 （もっと読む）

【課題】 高価な高周波設備を使用せずに、逆スパッタ時に異常なアーク放電の発生による基板の絶縁破壊が起こらないようなスパッタ装置を提供する。
【解決手段】 電源に直流パルスを使用し、基板ホルダーをＴｉ、Ａｌ等のスパッタ率が低く酸化しにくい金属で構成し、少なくともプラズマ発生空間に面した部分は金属を露出させておく。切り替えスイッチによりパルス電圧の負荷を被処理基板側とターゲット側に切り替えることにより、簡単に逆スパッタと正スパッタを同一の装置で行う。 （もっと読む）