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Fターム[4K029AA24]の内容

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Fターム[4K029AA24]に分類される特許

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【課題】 薄膜形成装置において、ターゲット材料の利用率向上、タクトタイムの向上、メンテナンス性の向上、および成膜精度の向上を図る。
【解決手段】 真空室、ターゲット材料を保持するスパッタカソード、スパッタされたターゲット材料を堆積する基板を搭載する搭載手段、および搭載手段の搬送機構を備えた薄膜形成装置において、搬送機構において基板がターゲット材料の前面を通過するよう搬送経路が設けられ、搭載手段が、複数の基板を連接させて保持できる基板トレーからなる構成とした。 (もっと読む)


【課題】 透明電極として優れた性質を有するZnO膜をイオンプレーティングで成膜する技術を提供する。
【解決手段】 イオンプレーティングのソース材料として用いるのに適したZnO焼結体は、平均酸化度の異なる第1のZnO領域と第2のZnO領域とを含み、前記第1のZnO領域と前記第2のZnO領域とは平均粒径が異なる。前記第1のZnO領域は前記第2のZnO領域より酸化度の高い領域であり、前記第2のZnO領域は前記第1のZnO領域と異なる色の、青みを帯びた領域であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着において、部分的な材料劣化や、歩留まり低下、コスト上昇起こすことなく大面積蒸着が可能とする。
【解決手段】 有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着させる装置であって、真空チャンバー10と、該真空チャンバー内に設けられた、該被処理基板を支持するための基板支持部材と、該真空チャンバー内に該被処理基板と対向するように設けられた、気化すべき有機材料を配するための少なくとも1つの蒸着源12と、該蒸着源に隣接または近接して設けられた、各々独立に温度制御可能な複数の温度制御手段13であって、該温度制御手段の各々の温度制御により、該蒸着源の該被処理基板に対向する面における複数の領域を、各々独立に温度制御可能とする温度制御手段とを備えてなる装置、ならびに有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着させる方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録媒体のグラニュラー記録層において磁性粒子と非磁性粒界を適切に分離し、磁性粒子の磁気異方性を損なうことなく粒子間の磁気的相互作用を低減し、媒体ノイズを低減する。
【解決手段】CoとPtとCrとを含む合金結晶粒子と、SiとOとを含む非磁性粒界を含み、記録層中のSi原子数に対するO原子数の比率が2.5以上5以下、記録層中のSi原子含有率が3〜6原子%、O原子含有率が12〜20原子%である垂直磁気記録媒体を用いる。また、記録層の形成時、基板中心に対し同心円状に並ぶ気体導入口より酸素を含むプロセスガスを導入することにより、記録層の媒体面内の任意の点における垂直保磁力の分布を、平均値の±10%以下とする。 (もっと読む)


【課題】従来の真空蒸着法による薄膜形成では、蒸着材料の蒸発速度を膜厚モニターにより検出し、蒸着容器の加熱量を制御して蒸発速度を一定に保っていた。しかし、急激な蒸発速度の変化に対しては対応が困難であり、このときに形成された蒸着膜は膜質が異なったり共蒸着濃度が変化してしまったりしていた。
【解決手段】蒸発速度の急激な変化が検出されたら、基板側シャッターと蒸着容器側シャッターを遮蔽して基板への蒸着膜の形成を停止する。その後、蒸発速度が安定したら、シャッターを開放して基板への蒸着膜の形成を再開する。 (もっと読む)


【課題】 高価な高周波設備を使用せずに、逆スパッタ時に異常なアーク放電の発生による基板の絶縁破壊が起こらないようなスパッタ装置を提供する。
【解決手段】 電源に直流パルスを使用し、基板ホルダーをTi、Al等のスパッタ率が低く酸化しにくい金属で構成し、少なくともプラズマ発生空間に面した部分は金属を露出させておく。切り替えスイッチによりパルス電圧の負荷を被処理基板側とターゲット側に切り替えることにより、簡単に逆スパッタと正スパッタを同一の装置で行う。 (もっと読む)


固体材料を気化させる容器(30)は、内部体積を取り囲む少なくとも側壁と、底部壁と、カバーとを有するハウジングを備えている。このカバーは、ハウジングから蒸気流が流出できるようにするために少なくとも1つの開口部を備えている。ヒーターがハウジングの少なくとも一部を加熱して固体材料を気化させる。カバーと固体材料の間に配置されたバッフル(50)が、固体材料と開口部の間の直接的な見通し線を妨げている。このバッフルはカバーから離れていて、気化した材料の流れを制御して、そのバッフルとカバーに挟まれた領域に流入させ、開口部からの蒸気流の均一性を向上させる。内部体積と、バッフルとカバーに挟まれた領域の体積の比は、少なくとも約20:1である。固体材料は、有機発光デバイスの層を形成するのに使用される有機材料にすることができる。
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【課題】 タクトタイムを短縮して、生産性を向上させるとともに、安価な真空処理装置を提供する。
【解決手段】 基板を真空処理する真空処理室と、基板を載置して搬送する基板キャリア12、14と、基板を大気側と真空側との間で搬入、搬出するためにL/UL室30とを具備した真空処理装置10において、真空処理装置10の大気側の基板搬送を行う大気側基板キャリア12と、真空処理装置10の真空側の基板搬送を行う真空側基板キャリア14と、大気側基板キャリア12及び真空側基板キャリア14相互間で、基板を受け渡しする基板受け渡し機構とを備えた構成とした。
また、タクトタイムを短縮するには、大気側基板キャリア12をL/UL室30の基板入れ替え口の前面に2以上配置可能な構成とすると一層効果的である。 (もっと読む)


【課題】液晶表示装置の低抵抗配線を作製するにあたって、新スパッタ方式でスパッタリングした際に発生する新たな不良モードの発生を抑制する。
【解決手段】Al合金配線を有する液晶表示装置を製造するにあたって、Y、La、Ce、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Er、Sc、Cu、Si、Pt、Ir、Ru、Pd、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Fe、Ni、Cr、Mo、W、Mn、Tc、ReおよびBからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を0.01〜20質量%の範囲で含み、残部が実質的にAlからなるインゴットまたは焼結体を、大気溶解法、真空溶解法、急冷凝固法、粉末冶金法で作製するにあたって、ArおよびKrから選ばれる少なくとも1種の元素を含むガスを使用し、得られたインゴットまたは焼結体を加工してスパッタリングターゲットを作製する。このスパッタリングターゲットをスパッタして形成したAl合金膜にエッチング処理を施してAl合金配線を形成する。 (もっと読む)


【課題】蒸着開始時のツーリング時間を短縮し、材料ロスを低減する。また、基板内の膜厚分布を均一にして有機EL素子の品質を向上する。
【解決手段】蒸着材料の抵抗加熱発熱源であって、本体の少なくとも一部が絶縁材料からなる円筒形状又は多角筒形状のルツボ、及び曲げ加工された平板からなる抵抗加熱ヒーターからなり、平板の曲げ加工された部分によって画定される空間にルツボが収納され、平板の少なくとも一部分とルツボの側面の少なくとも一部分とが接触面を有する構成とした。 (もっと読む)


【課題】超高真空環境でもアウトガスを発生させない非移行型のプラズマトーチを用いて生成させた微粒子を超音速のガス流により加速させ、基板に堆積させた微粒子により皮膜形成する物理蒸着装置を提供する。
【解決手段】内部にプラズマトーチ(16,26)と蒸発源(15,25)を有する蒸発チャンバー(10,20)と、超音速ノズル35と成膜対象基板33を有する成膜チャンバー30を有し、各プラズマトーチは、略円筒形の導電性のアノード40と、その内側に挿入された、ベークライトよりもアウトガスの少ない高分子系または非高分子系の絶縁管50と、絶縁管50の内側に挿入された棒状のカソード60を有する。アノード40とカソード60に電圧印加して得たプラズマで蒸発源(15,25)から微粒子を生成し、超音速ノズル35から噴出して超音速ガス流に乗せ、成膜対象基板33に物理蒸着させる。 (もっと読む)


【課題】 実際に必要とするだけの電力量を利用可能にするという問題に対処することにある。
【解決手段】 本発明は、同じ消費電力または異なる消費電力を有する幾つかの電気エネルギ消費体の構成に関する。一般に、必ずしも全ての消費体に同時に電気エネルギを供給する必要がないため(例えばメンテナンス作業のためある消費体は作動していないことがある)、相互接続可能な幾つかのモジュールからなるモジュラエネルギ供給システムが設けられ、これにより各消費体には、必要とする電力を小型ユニットから供給することが可能になる。
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【課題】 基板と画素パターンを蒸着するためのマスクと、基板とマスクの位置合わせをするためのアライメント機構を備えたマスクホルダと蒸着源とを用いて、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する真空蒸着方法において、複数個の基板面内上での膜厚分布均一性を高める。
【解決手段】 基板とマスクとマスクホルダからなる構造体を、蒸着源の上部に同心円状に複数個配置して、かつ、基板とマスクとマスクホルダからなる構造体を、蒸着源の中心部から外側に向けて傾きを持たせた状態で蒸着を行う。 (もっと読む)


【課題】
構成元素や不純物添加量が膜中で変化した薄膜を短時間かつ低コストで形成可能なマグネトロンスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】
マグネトロンスパッタリング装置10は、薄膜が堆積される基体30と、基体30と対向して配置されたターゲット20と、ターゲット20の表面に磁界を発生させる磁界発生手段として磁石50およびヨーク52を備える。ターゲット20が2つの領域に分割され、一方の領域にZnGeO:Mn(2at.%)を充填し、他方の領域にZnGeO:Mn(2at.%)を充填することにより、Ge含有量Xが基体上の長手方向に連続的に変化したZnSi1−XGe:Mn(2at.%)複合酸化物蛍光体薄膜を基体30上に形成することができる。 (もっと読む)


【課題】 蒸発材料の放出濃度が高い蒸発材料の放出口付近であっても蒸発材料の放出量を長期間測定することができる蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 蒸発材料取出用孔部4c(5c)の縁部に設けられた熱電対21a(21b)と、放出用容器4(5)の加熱設定温度と熱電対21a(21b)により検出された測定温度との温度偏差を算出する監視制御装置11とを具備し、温度偏差に基づき、放出レートすなわち蒸発材料の放出量割合を求めるようにしたので、従来の水晶振動子式のように蒸発材料が堆積する膜厚計を蒸発材料の放出濃度が非常に高い場所に設置して放出量割合を検出する場合とは異なり、蒸発材料が堆積する問題がなく連続して長期間使用することができ、したがって蒸着装置の稼働率が低下することを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】 組成が均一で優れた特性の弗化マグネシウム膜を形成でき、耐熱性の低い基板にも弗化マグネシウム膜を形成でき、他の材料との混合膜模も容易に形成すること。
【解決手段】 真空槽10内に配置された基板2上に膜を成膜する成膜方法であって、少なくともマグネシウム或いは弗化マグネシウムからなるターゲット3をスパッタすることで、該ターゲットの材料を基板2上に堆積させる堆積工程と、基板2に弗素系ガスを導入する工程、又は、基板2に対して弗素系イオンを照射する工程のうち少なくともどちらか一方を行うことで、基板2上に堆積したターゲット材料を弗化する弗化工程とを備え、堆積工程と弗化工程とを順次繰り返すことで、少なくとも弗化マグネシウム層を1層形成する成膜方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】生産性が高く、かつ、高品質の光学膜を形成可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置1には、AlとCrとを含有するフェロシリコン材料のターゲット(第一のターゲット)21a、21bが用いられており、従来の多結晶シリコンターゲットに比べて機械的強度が高いので、厚みの厚い第一のターゲット21a、21bに高密度電力を投入しても、割れやクラックが生じにくい。このように、第一のターゲット21a、21bの寿命は長いので、第一のターゲット21a、21bを煩雑に交換する必要はなく、また、ターゲットのクラックに起因するスプラッシュが起こり難く、透明膜にスプラッシュが混入することもないので、高品質の光学膜が得られる。 (もっと読む)


【課題】常温・常圧下に極微小空間に低エネルギーで安定発生させることができる低温マイクロプラズマ発生機構(トーチ)を備えたマイクロプラズマ反応装置を提供する。
【解決手段】試料ガス導入管が接続されたプラズマトーチ外管の内部にプラズマガス導入管が接続されたプラズマトーチ内管を設けてなる筒状のプラズマトーチ、前記プラズマトーチ内管の出口部近傍の外周に設けられたプラズマガス励起用高周波コイル、および原料モノマーガス供給手段を備えたマイクロプラズマ反応装置。 (もっと読む)


【課題】高品質の薄膜の形成が可能となり、中でも低い基板温度環境において、基板との密着性が良好で、緻密性が高く、硬度の高い、高品質のフッ化物薄膜の形成が可能となる薄膜形成方法および薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】膜材料6を真空中で加熱し、該膜材料6を蒸発させる、前記蒸発させた膜材料による蒸発材料に、イオン源9から放出された1価または2価の金属イオンを付加し、該蒸発材料をイオン化し、前記イオン化した蒸発材料を電界(101)によって被処理基板に向けて加速し、該被処理基板2上に該材料を蒸着させ、薄膜を形成する構成とする。 (もっと読む)


【課題】 良好な強誘電体特性が得られる電極膜、圧電素子、強誘電体キャパシタ及び半導体装置を提供することにある。
【解決手段】 電極膜は、基体の上方に形成される白金族金属を含み、CuKα線を用いたθ−2θ法によるX線回折において求められるピークに対応する回折角2θが、電極膜の熱処理後のピークに対応する回折角以上の大きさである。 (もっと読む)


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