【課題】
永久磁石による反発磁界の幅を狭めることなく、シートプラズマの傾きを調整できるシートプラズマ成膜装置を提供する。
【解決手段】
本発明に係るシートプラズマ成膜装置１は、円柱状のプラズマＰを出射するプラズマガン２と、円柱状のプラズマＰを挟んでＮ極の磁極面が対向するように配置された一対の永久磁石７Ａ、７Ｂで構成され、円柱状のプラズマＰをシート状に変形させる永久磁石対７と、少なくとも一方の永久磁石７Ａ、７ＢのプラズマPに対向する面に配置され、かつ、一対の永久磁石７Ａ、７Ｂの対向方向（Ｙ方向）からみて円柱状のプラズマＰの中心軸Ｔに対し非対称に配置された磁性部材８と、シート状のプラズマＰを利用して成膜が行われる成膜室９と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】クロストークを回避して多元共蒸着における各蒸着源の蒸着レートを正確に測定する。
【解決手段】蒸着材料２を蒸発させる容器１に、基板方向に向いた開口部３ａを有する分岐配管部３と、基板方向に向かない開口部４ａを有する分岐配管部４を接続する。非蒸着時に、基板方向に向かない開口部４ａから放出される蒸着材料の蒸着レートを測定し、容器１の加熱機構にフィードバックさせ、蒸着レートを安定化する。蒸着時には、基板方向に向いた開口部３ａから蒸気を放出させる。蒸着レートを測定するときの開口部４ａを基板方向と異なる方向に向かせることでクロストークを回避する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高いプロトン伝導性を示すペロブスカイト型複合酸化物薄膜を提供すること。
【解決手段】一般式：Ａ(Ｂ_1-YＭ_Y)Ｏ_3-Zで表される組成を有するプロトン伝導性ペロブスカイト型複合酸化物を含むペロブスカイト型複合酸化物薄膜。但し、Ａは、アルカリ土類金属元素から選ばれる２種以上の元素。Ｂは、Ｚｒ及びＣｅから選ばれる１種以上の元素。Ｍは、Ｓｃ、Ｙ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、及び、Ｙｂから選ばれる１種以上の元素。０＜Ｙ＜０．２、０＜Ｚ。 （もっと読む）

【課題】酸化ガリウム基板部材を用いながらも表面平坦性に優れ且つ結晶品質性に優れた窒化ガリウム層を有する光デバイス用基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】サーマルクリーニングを施したGa₂O₃基板部材を窒化処理してGa₂O₃基板部材の表面上に六方晶GaNからなる第１のバッファ層を形成し、第１のバッファ層の表面上に成長温度480〜520℃で六方晶GaNからなる第２のバッファ層を成長形成した後、第２のバッファ層の表面上に光デバイス用基板の表面層として成長温度650〜750℃で六方晶GaN層を成長形成する。 （もっと読む）

【課題】対象物の所望の領域に簡単に金属膜を成膜することができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置１に、金属を収納する金属収納器と、金属収納器に収納された金属を加熱して金属蒸気を発生させるヒータと、金属蒸気を送出する送出口９において開口するとともに金属蒸気を送出口９まで誘導する中空部を形成され、中空部に面する内表面部が金属蒸気の蒸着を抑制する蒸着抑制材により形成された蒸気誘導器４とを設ける。 （もっと読む）

【課題】極めて微細なパターンを形成できるフォトマスクブランク及びそのフォトマスクブランクに微細パターンを形成したフォトマスクを提供する。
【解決手段】透明基板上に少なくとも２層からなる遮光膜を有するフォトマスクブランクであって、前記遮光膜は、タンタル窒化物を主成分とし、キセノンを含む材料からなる遮光層と、該遮光層の上面に積層されるタンタル酸化物を主成分とし、アルゴンを含む材料からなる反射防止層とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｉ−ＩＩＩ−ＶＩ族カルコパイライト化合物の結晶配向性を改善し、光電変換効率の向上を図ることが可能なＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族カルコパイライト型薄膜系太陽電池およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に少なくとも、積層構造の金属裏面電極１０と、ｐ型Ｉ−ＩＩＩ−ＶＩ族カルコパイライト型化合物半導体５とが順次積層され、更に透明電極７が積層されてなるＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族カルコパイライト型薄膜系太陽電池であり、積層構造の金属裏面電極１０の少なくとも、ｐ型Ｉ−ＩＩＩ−ＶＩ族カルコパイライト型化合物半導体５に接する層が体心立方構造を有し、その結晶配向性が主として（００２）配向を有し、かつ、その体心立方構造のａ軸の格子定数が面内方向で異なった値を持つことを特徴とするＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族カルコパイライト型薄膜系太陽電池。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、被成膜物における未成膜部分を低減させることができる成膜装置の支持機構を提供する。
【解決手段】成膜面Ｗ１ａが下方に向けられた状態にガラス基板Ｗ１を支持して成膜面Ｗ１ａに成膜物質を付着堆積させる成膜装置１におけるガラス基板Ｗ１の搬送トレイ４０であって、成膜面Ｗ１ａと同等以上の広さを有する開口部４２を内部に備えると共に開口部４２を囲む外枠４３から構成される枠体４４と、外枠４３から内に突出してガラス基板Ｗ１を複数の箇所で支持すると共に、複数の箇所を結んで形成される領域Ｒ１内にガラス基板Ｗ１の重心Ｇが位置するように配置された複数のワイヤー状の線状支持部材４５，・・・とを備える。このようなワイヤー状の線状支持部材４５でガラス基板Ｗ１を支持することにより、ガラス基板Ｗ１の未成膜部分が低減される。 （もっと読む）

複数のパルスで陽極とターゲット間に電力を印加することによってＴａＮ層（４）を被着し、ターゲットから基板（２）へ反応的にＴａをスパッタしてＴａNシード層（４）を形成する方法から成る。Ｔａ層（５）は複数のパルスにおける電力を印加すると共に、前記基板（２）を支持するペデスタルに高い周波数信号を印加することによって前記ＴａＮシード層（４）の上に被着され、前記基板（２）に隣接した自己バイアス場を生成する金属化構造体（１）を被着する方法。
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【課題】装置の簡素化及びメンテナンスの容易化を図った上で、パーティクルの発生を防ぐことができるスパッタ装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】キャリア５０には、キャリア５０の外周部分から基板Ｗの外周部分を覆うように防着板７０が着脱可能に設けられ、防着板７０はチャンバ２２内で着脱されるとともに、チャンバ２２内を循環するように構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】材料と被成膜基板との間にマスクを設けることなく、被成膜基板に微細なパターンの薄膜を形成する成膜方法を提供することを課題の一とする。また、このような成膜方法を用いて発光素子を形成し、高精細な発光装置を作製することを課題の一とする。
【解決手段】反射層、光吸収層及び材料層が形成された成膜用基板を透過して、光吸収層にレーザ光を照射することによって材料層に含まれる材料を、対向して配置された被成膜基板へ成膜する。反射層を選択的に形成することによって、被成膜基板に成膜される膜は、反射層のパターンを反映した微細なパターンで選択的に成膜することができる。材料層の形成は、湿式法を用いて行う。 （もっと読む）

【課題】任意の基材の表面に、水に対する高い濡れ性を付与する方法を提供する。
【解決手段】本発明の基材表面の超親水化方法は、基材の表面を超親水化させる方法であって、斜め蒸着法によって、該基材の表面に該表面からの仰角が９０度未満で突出した斜め柱状構造体の集合層を形成させる。 （もっと読む）

【課題】成膜材料の蒸気を放出する開口位置と基板との距離を一定に保ち、安定した成膜を行う。
【解決手段】材料収納坩堝１０１の有機材料１０６を加熱して蒸発させ、複数のノズル１０４から真空チャンバー内に噴出させる。成膜中にノズル１０４が熱膨張によって変形し、ノズル先端位置が変化して成膜が不安定になるのを防ぐために、各ノズル１０４に嵌合する開口部１０７ａを有する開口制御部材１０７を設ける。開口制御部材１０７は、ノズル１０４等とは独立して真空チャンバー内に固定する。 （もっと読む）

【課題】過酷な環境に長期間曝されても比抵抗値および透明性が劣化することのない耐劣化性に優れた透明導電膜およびこの透明導電膜を成膜するためのターゲットを提供するものであり、この透明導電膜は液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、帯電防止導電膜コーティング、ガスセンサー、太陽電池などに用いられる。
【解決手段】Ｃｅ：０．５〜４．５質量％、Ｇａ：０．０５〜１．５質量％、Ｚｎ：７３．４〜７９．８質量％、残部：酸素からなり、かつＣｅ含有量＞Ｇａ含有量となる条件を満たす成分組成を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ナノ粒子蛍光体（ナノメートルサイズの半導体物質の蛍光体粒子）として、公知例では得られない、好適な、高輝度、単分散のシリコンナノ粒子、それを含有するシリコンナノ粒子含有酸化ケイ素膜、シリコンナノ粒子溶液、およびシリコンナノ粒子を標識材とした分子観察方法を提供することにある。
【解決手段】半導体基板上に成膜された、シリコンナノ粒子を含有するシリコンナノ粒子含有酸化ケイ素膜において、該シリコンナノ粒子含有酸化ケイ素膜の表面粗さＲｙが１０．０ｎｍ以上１００．０ｎｍ以下であることを特徴とするシリコンナノ粒子含有酸化ケイ素膜。 （もっと読む）

【課題】基板へのダメージを低減可能なスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】複数の凹部３は、電極２のホルダー７側の面に面して電極２に形成される。ターゲット部材６は、石英からなり、複数の凹部３の内壁と、電極２のホルダー７側の面とに沿って配置される。複数の配管４は、Ａｒガスを複数の凹部３内の空間へ供給し、複数の配管５は、Ｏ_２ガスを電極２とホルダー７との間の空間に供給する。ホルダー７は、基板１２を支持し、ヒーター８は、基板１２の温度を昇温する。高周波電源９は、電極２とホルダー７との間に高周波電力を印加する。 （もっと読む）

【課題】耐候性、耐食性に優れたフレキシブル透明膜を簡易に形成することができる多層膜の形成方法及び多層膜を提供すること。
【解決手段】一つのスパッタリング用電極上に、異種成分からなる複数の素材を張り合わせて取り付け、前記複数の素材同士の境界の上方に分離板を設けておき、放電行いながら基板を前記ターゲット上を移動させて該基板上に多層膜を形成すること特徴とする多層膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】膜厚が極めて薄く耐熱性に優れた透明電極、透明導電性基板および透明タッチパネルを提供する。
【解決手段】基板（Ｃ）上に、酸化インジウムを主成分とする結晶性透明導電膜（Ａ）と酸化インジウムを主成分とする非晶質性透明導電膜（Ｂ）がスパッタリング法によって順次形成された積層構造の透明電極であって、結晶性透明導電膜（Ａ）は膜厚が５〜４０ｎｍであり、非晶質透明導電膜（Ｂ）は膜厚が２〜１０ｎｍであり、表面抵抗が７０〜３０００Ω／□であることを特徴とする透明電極；前記透明電極が、透明基板の表面に形成されてなる透明導電性基板；前記透明導電性基板を用いて得られた透明タッチパネルなどによって提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、同時スパッタ数の多い多元スパッタリング装置およびその制御方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態では、基板とターゲット電極との間に、第１及び第２のシャッター板を設け、該シャッター板によって対象となるターゲットと基板との間を遮断してプリスパッタ工程を行う。また、本スパッタ工程に移行する際に、第１及び第２のシャッター板を適宜回転させて、該シャッター板に設けた貫通孔を重ねることで対象となるターゲットと基板との間を開放して本スパッタ工程を行う。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法により従来よりもバリア性が高い無機層を成膜すること。
【解決手段】無機層を成膜する面の面積がａ（単位：ｃｍ²）である支持体を、容積が１００ａ（単位：ｃｍ³）以下である第１真空槽へ搬入して真空状態とし、真空状態を維持したまま支持体を第２真空槽へ搬送して、第２真空槽内にて支持体上に無機層を真空成膜する。 （もっと読む）