【課題】成膜装置において、成膜中に基板へのイオン照射を十分に行うと共に、良好なイオン化率を得る。
【解決手段】本発明の成膜装置１は、内側に配備された内極磁石９と、この内極磁石９の外側に配備され且つ内極磁石９より磁力線密度が大きな外極磁石１０とで形成された非平衡磁場形成手段６と、非平衡磁場形成手段６の前面に配備されたターゲット５とからなるスパッタリング蒸発源４を２基有し、２基のスパッタリング蒸発源４を１組として１０ｋＨｚ以上の周波数で極性が切り替わる交流電流を流すことにより、両スパッタリング蒸発源４の間に放電を起こして成膜を行う交流電源８が設けられている。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性、ガスシール性および油かき性を同時に満たすことが可能であり、かつその摺動面に形成された硬質皮膜自体が剥離することのないピストンリングを提供すること。
【解決手段】外周面に凹部が形成された母材と、前記凹部に設けられる硬質皮膜と、からなるピストンリングにおいて、前記ピストンリングの径方向に垂直な断面において、前記凹部を、母材の上下面のいずれか一方から他方に向かって、ピストンリング外周面に平行に延びる第１の面と、前記第１の面の一端からピストンリング外周面に向かって延びる第２の面と、から構成し、前記凹部に硬質皮膜を設けることで、ピストンリング外周面を、硬質皮膜が形成されている部分と母材が露出している部分とが存在し、前記凹部を形成する第２の面とピストンリング外周面とは１０〜３０°の角度をもって接しているようにする。 （もっと読む）

【課題】長時間にわたって樹脂膜を成膜する場合においても、加熱部材の表面に付着・堆積する残渣の発生量を抑制すること。
【解決手段】基材上に樹脂膜を成膜する際に、加熱された加熱部材１０の表面に、液状の樹脂原料３０を供給することにより、液状の樹脂原料３０を気化させる気化工程を、少なくとも実施し、かつ、加熱部材１０が、金属製の加熱部材本体１２と、加熱部材本体１２の表面の少なくとも一部を覆う撥油性の層１４とを有する成膜方法。 （もっと読む）

【課題】筒状体の内周面に均一な膜厚で、かつ均一なドープ濃度で共蒸着膜を形成可能な成膜装置および成膜方法。
【解決手段】成膜装置３０は、筒状体１の内周面に共蒸着膜を形成するための成膜装置であって、筒状体１を保持するための筒状体ホルダ２と、第１の蒸着材料１１を充填するための内部空間を有する第１の蒸着容器１２と、第２の蒸着材料１２を充填するための内部空間を有する第２の蒸着容器２２とを備えている。筒状体ホルダ２と第１および第２の蒸着容器１２、２２とは、筒状体１の延在する方向に互いに相対的に移動可能であり、筒状体１の延在する方向に延びる仮想の軸線Ａ−Ａを中心として互いに相対的に回転可能である。 （もっと読む）

【課題】筒状体の内周面への成膜に適したものであって、かつγ電子によるダメージを抑制することができる成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】ターゲットホルダ９は、スパッタ膜の材料としてのターゲット８を保持するためのものであって、相対的に負電位が印加されるように構成されている。筒状体ホルダ２は、筒状体１を保持するためのものであって、相対的に正電位が印加されるように構成された導電部２ｂを有する。導電部２ｂは、筒状体１が筒状体ホルダ２に保持された状態において筒状体１の内部空間へ露出するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】サブミクロン（１μｍ以下）のサイズのパターンを持つシームレスモールドを高い生産性・量産性で得ること。
【解決手段】本発明のモールドのエッチング装置は、真空槽中に配置されたスリーブ形状のモールド（１５）と、前記真空槽中の前記モールド（１５）の表面に対向する位置に配置された円筒形状の対向電極（２２）と、を具備し、前記モールド（１５）に高周波を印加させ、前記対向電極（２２）を接地して前記モールドをエッチング処理するエッチング装置であって、前記エッチング処理の際、前記モールド（１５）を回転させないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
ターゲット材料の使用効率を良くできると共に形成される膜の均一性に優れたスパッタ成膜装置を提供する。
【解決手段】
本発明によるスパッタ成膜装置では、基板ホルダを回転させかつターゲットに対する距離を変えるため垂直方向に移動させる基板駆動装置と、カソード電極を基板の表面に平行に移動させるカソード電極水平方向駆動装置と、基板駆動装置及びカソード電極水平方向駆動装置に接続され、基板駆動装置による基板の回転及び垂直方向移動、並びにカソード電極水平方向駆動装置によるターゲットの水平移動を制御して、基板の表面形状に応じて基板とターゲットとの距離及び基板に対するターゲットの位置を調整する制御装置とが設けられる。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性皮膜システムを提供する。
【解決手段】本耐摩耗性皮膜システム（３０）は、ガスタービンエンジンの高温構成要素（２２、２４）を含む組立体（２０）の表面（２６、３２）のような、高温における接触摩耗を受ける表面（２６、３２）を保護するのに適している。構成要素（２２、２４）は、互いに摩耗接触状態になった表面（２６、３２）を有する。表面の１つ（２６）は、他方の構成要素（２４）の表面（３２）と摩耗接触状態になるようになった耐摩耗性皮膜システム（３０）をその上に有する。本耐摩耗性皮膜システム（３０）は、ＴｉＡｌＮ及びＣｒＮの交互層を含む。 （もっと読む）

【課題】ワークに連続的にバリア膜を形成するプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、ワークＨの両側に配置され、ワークＨに向かってマイクロ波が通過するスロット３１０Ｒを有するスロットアンテナ３１Ｌ、３１Ｒと、スロットアンテナ３１Ｌ、３１ＲのワークＨ側の表面を覆う誘電体３２Ｌ、３２Ｒと、誘電体３２Ｌ、３２Ｒ間に介装され、負圧条件下においてマイクロ波の電界によりプラズマ生成用ガスを電離させ荷電粒子ＰＬ、ＰＲを生成するプラズマ生成室３８４を、内部に区画するチャンバー３８と、プラズマ生成室３８４に配置され、ワークＨの処理対象面ＨＬ、ＨＲと誘電体３２Ｌ、３２Ｒとの間に介装され、互いに絶縁されるメッシュ３３Ｌ、３３Ｒと、メッシュ３３Ｌ、３３Ｒに互いに逆位相の高周波電圧を印加する電源３７と、電源３７とメッシュ３３Ｌ、３３Ｒとの間のインピーダンスを調節する整合器３６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】融着トナー又はインクの支持体への移動が良好であるフューザ部材を提供することである。
【解決手段】フューザ部材は、基材と、前記基材に配置された機能層と、前記機能層上に配置された外側層であって、テクスチャーを有するシリコン、及び前記シリコン上に配置された疎油性コーティングを含む外側層とを備える。テクスチャー構造としては、ピラー構造、溝構造が例示できる。これらの構造は、極疎油性表面の形成に有効である。 （もっと読む）

本発明は、ガス雰囲気中におけるカソードスパッタリングにより、且つ、少なくとも１つの金属ターゲット（１６）を使用することにより、摩擦的に有効な摺動層（６）を有する基材の表面（５）を被覆することによって滑り軸受要素（１）を製造する方法であって、円筒形空洞（３）を有する基材が使用され、且つ、ターゲット（１６）は、空洞（３）内に少なくとも部分的に配置され、且つ、更には、ターゲット（１６）をスパッタリングするための放電は、第３電極（２６）によって支持又は維持される方法に関する。
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【課題】成膜される膜の膜厚均一性に優れた成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】容器１３１と，容器１３１内を加熱するヒータ１３７と、容器１３１内に設けられ、液体状または固体状の成膜材料１３５がその内部に置かれ、気体状となった成膜材料を容器１３１内に供給する成膜材料供給部１３３と、容器１３１に設けられた開口部１３６と、被成膜体１１を開口部１３６の最外部よりも内側に位置させる回転ドラム１１０と、開口部１３６と連通する真空容器１０２と、真空容器１０２を排気する真空ポンプ１０３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】溶接ラインや溶接作業を止めることなく、長時間連続して溶接することができる耐スパッタ特性に優れたガスシールドアーク溶接トーチのシールドノズルを提供する。
【解決手段】ソリッドワイヤーが挿通され、ソリッドワイヤーに電流を供給するコンタクトチップを包容するように配設された筒状のガスシールドアーク溶接トーチのシールドノズル５であって、シールドノズル母材５ａ表面に、密着性セラミック被膜の母材表上被膜層５ｂを形成し、母材表上被膜層５ｂの上層に、硬質セラミック被膜の表面被膜層５ｄを形成する。なお、母材表上被膜層５ｂと表面被膜層５ｄの間に、密着性セラミックと硬質セラミックの混合物からなる中間被膜層５ｃを形成することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高アスペクト比の貫通穴であっても、貫通穴内部に薄膜をカバレッジ良く形成することができ、かつ成膜レートを低下させないスパッタリング装置及び方法を提供する。
【解決手段】基板保持部２０に、基板ホルダ２と基板１１とＯリング４によって囲まれる閉空間２１を形成し、その空間に流量及び圧力を制御した散乱用ガスを導入する。そのガスを基板１１の貫通穴３３を通じて真空チャンバー１内に流出させることにより、真空チャンバー全体のガス圧力を上昇させずに、貫通穴内部及びその近傍のみの圧力を上昇させる。 （もっと読む）

【課題】比較的安価な構成により、スイングアームのロックし忘れを防止する真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空成膜装置３は、ホルダ１９ｆを支持しかつ揺動自在なスイングアーム９０を備えている。スイングアーム９０は、ホルダ１９ｆを他のホルダ１９と共に周回状に配置する閉位置と、ホルダ１９ｆを中心位置１５ａの外方に移動させた開位置との間で揺動可能である。真空成膜装置３は、スイングアーム９０を閉位置に保持するロック機構と、スイングアーム９０が閉位置にあるとスイングアーム９０を開位置側に向かって付勢する付勢部材６１と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】
大掛かりな装置を必要とせず、高速かつ低コストで実施できる管体内面への透明導電膜成膜方法を提供する。
【解決手段】 管体内面への透明導電膜成膜方法は、非酸化金属からなる蒸着物質を管体とほぼ同じ長さにして管体内に挿通する工程と、蒸着物質が挿通された管体を真空チャンバ内に配置する工程と、真空蒸着法あるいはスパッタ法によって管体内面に蒸着物質からなる金属膜を形成する工程と、金属膜を酸化することで透明導電膜とする工程と含んでいる。 （もっと読む）

本発明はナノ粒子が最初に製造され、その後前記コーティングプロセスに際に前記コーティング内に導入され、前記コーティングプロセスがＰＶＤ及び／又はＣＶＤ方法で実施される、コーティング方法に関する。摺動部材は、別に製造されるナノ粒子を含むＰＶＤ及び／又はＣＶＤ方法により形成されるコーティングを含む。 （もっと読む）

【課題】 分割プレート（１４）と、少なくとも一つのスパッド箇所（１８）と、少なくとも一つのマニホールド（２０）とを含む、中空物品（５０）の内面（６０）を気相コーティングするための構造（１０）を提供する。
【解決手段】 分割プレート（１４）は、蒸気コーティング（Ｃ）を供給するためのチャンバ（１６）の一部を形成する。各スパッド箇所（１８）はチューブ（２２）を有し、成形可能な第１シーラント（２６）がチューブ（２２）の周囲に配置されている。各マニホールド（２０）は、蒸気を夫々の中空物品（５０）内に供給するため、マニホールド（２０）から延びる少なくとも一つの供給チューブ（２８）を有する。各マニホールド（２０）は、蒸気をマニホールド（２０）内に供給するため、マニホールド（２０）から延びる送込みチューブ（３０）を有する。各スパッド箇所（１８）のチューブ（２２）は、夫々のマニホールド（２０）の送込みチューブ（３０）に挿入されており、マニホールド（２０）から遠方の送込みチューブ（３０）の端部（３２）は、成形可能な第１シーラント（２６）内に配置されている。成形可能な第２シーラント（３４）が夫々のマニホールド（２０）の少なくとも一つの供給チューブ（２８）の周囲に及び夫々のマニホールド（２０）と中空物品（５０）との間に配置されている。 （もっと読む）

【課題】プラスチック製排水管を現場で、建築躯体に合わせて、長さ調整がされる切断に際して、また弾力性があるが故の変形に際して、剥離、及び亀裂を起こさないようなメッキが施されたポリプロピレン（ＰＰ）製排水管を提供する。
【解決手段】ポリプロピレン（ＰＰ）と親和性の塩素化ポリプロピレン系溶剤型プラマー塗料を塗布したポリプロピレン（ＰＰ）製排水管表面に、密着性を持ち、該表面を平滑に仕上げ、紫外線（ＵＶ）によるアンカー効果を発現する紫外線（ＵＶ）硬化型塗料が塗装されてアンダーコート層を形成し、該アンダーコート層を施した排水管の表面に比較的軟らかい金属が真空蒸着されてメッキ層を形成し、該メッキ層の表面には、紫外線（ＵＶ）硬化型塗料を塗布し、強度を保持するためのクリアなオーバーコート層が形成されて構成する。 （もっと読む）

【課題】使用率を向上させ、Ｉｎ等の半田材の注入を容易にし、半田等の割れやクラック、剥離を著しく低減できる円筒形スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】ＩＴＯまたはＡＺＯ等のセラミックス焼結体からなる複数個の円筒形ターゲットの、少なくとも一方の端部に、内周に向かってテーパ状及び／又は段状の形状を形状とし、円筒形ターゲットと円筒形基材との間隙にＩｎ等の接合材（半田材）を容易にかつ円滑に注入して接合し、スパッタリングターゲットと成した後、使用効率が高く、割れやクラック、剥離のないことを特徴とする、円筒形スパッタリングターゲット。 （もっと読む）