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Fターム[4K029BA01]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被膜材質 (15,503) | 金属質材 (5,068)

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単体金属 (3,635)
合金 (1,295)

Fターム[4K029BA01]に分類される特許

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【課題】摩擦調整剤を含有した潤滑油が共存した摺動環境において従来技術よりも良好な低摩擦性と高い耐摩耗性とを兼ね備えた摺動部品を提供する。
【解決手段】モリブデン化合物を含有する潤滑油が共存する環境下で使用される摺動部品1であり、該摺動部品を構成する基材3の最表面に表面硬度が1800以上のビッカース硬度の硬質保護層20が形成された摺動部品であって、前記硬質保護層は、炭素、窒素および金属元素を主成分とし、かつ窒素を含有する炭素非晶質体と前記金属元素の化合物結晶体との複合体により構成され、前記化合物結晶体は金属炭化物、金属窒化物および金属炭窒化物のうちの少なくとも1つである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、レーザを用いてハーフトーンマスクの欠陥を除去し、欠陥部領域に遮断膜を効率良く形成でき、遮断膜の膜厚を調節し、ペリクル膜が形成された後も欠陥の除去が可能な機能とともに、リアルタイムで透過率を調節してリペア工程を行うことができるようにし、リペア部位の透過率の均一性を保障できるリペア方法及びそのシステムに関する。
【解決手段】本発明のハーフトーンマスクリペア方法は、原料物質にレーザを照射して半透過層の欠陥部位に蒸着することにより、ハーフトーンマスクの半透過領域の欠陥部位をリペアする。 (もっと読む)



【課題】貴金属部品のゲルマニウム含有真空めっき法の提供。
【解決手段】本貴金属部品のゲルマニウム含有真空めっき法は、(一)部品加工、(二)表層処理、(三)ゲルマニウムめっき処理、(四)チタンめっき処理、(五)気化処理、(六)製品組立の工程を少なくとも包含し、これにより大幅に環境汚染を低減し、並びに貴金属にゲルマニウム及びチタン元素の処理効果を具備させると共に、該ゲルマニウム及びチタン元素の物理特性を利用し、使用者の身体健康の向上を促進し、及び貴金属製品の付加価値と適用範囲を増加する。 (もっと読む)


【課題】パターニングの精度を向上させるための真空蒸着用マスク及びこれを備えた真空成膜装置を提供する。
【解決手段】金属フレーム2と、開口パターンが形成され、金属フレーム2に固定される金属箔4と、から構成され、金属フレーム3のうち、金属箔3を介して被成膜基板(基板1)を支持する領域の少なくとも一部に弾性体3が設置されていることを特徴とする、真空成膜用マスク11及びこのマスク11を備えた真空成膜装置10。 (もっと読む)


【課題】 スパッタリング中におけるアーク放電抑制の失敗を無くすことができるスパッタリング用電源装置を提供すること。
【解決手段】 負極出力端子及び正極出力端子を有するスパッタリング用電源装置において、スパッタリング用直流電源PS1と、このスパッタリング用直流電源の負極側に設けられた第1のスイッチング手段SW1と、この第1のスイッチング手段に複数直列接続される互いに独立のチョークコイルL1〜L4と、この複数のチョークコイルと前記負極出力端子との間に設けられた逆方向アーク防止回路13と、逆電圧発生用直流電源PS2と、この逆電圧発生用直流電源と前記複数直列接続された互いに独立のチョークコイルと逆方向アーク防止回路との中間位置との間に設けられた第2のスイッチング手段SW2と、前記負極出力端子と前記正極出力端子との間に発生する電圧を検出する電圧検出部R1,R2と、前記第1のスイッチング手段及び第2のスイッチング手段の開閉を制御する制御手段21とから構成される。 (もっと読む)


【課題】蒸着パターンの位置ずれを抑え所望の位置に精度よく蒸着を行うことができる成膜用マスクを提供する。
【解決手段】被処理基板上に蒸着源から蒸発した蒸着材料を成膜する蒸着パターンに対応するマスク開口部が形成されたチップと、チップを保持する支持基板とを有し、チップの一方面を被処理基板に重ね合わせた状態で蒸着に用いられる成膜用マスクにおいて、断熱層41が支持基板30の蒸着源の側に形成され、熱遮蔽層42が断熱層41の露出する部位全体を覆うように蒸着源の側の支持基板30の全体に亘って形成されている。 (もっと読む)


【課題】フットプリントを抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板を保持する基板ホルダと、イオンを発生させるイオン源と、該イオン源から発生するイオンが照射されるターゲットと、前記基板ホルダが軸延長方向に位置するように配置される回転軸と、該回転軸に対して垂直方向であって異なる方向に複数延在する延在部と、該延在部それぞれに設けられ前記ターゲットを前記基板ホルダ側に近づくに従って前記回転軸と前記ターゲットとの距離が短くなるように保持するターゲットチャックと、前記回転軸を回転させる回転装置と、を有する。 (もっと読む)


蒸着源、処理ドラム、駆動ローラー、およびシャドウマスクを備える、連続ロールツーロール蒸気ベース蒸着プロセスにおいてパターン形成コーティングをOLED基材に施すための装置が形成され、シャドウマスクは、基材上へのコーティングの蒸着を選択的に妨げるマスクライン特徴体を備える。コーティングを施すための方法も提示される。 (もっと読む)


【課題】金属メッキ層を有する薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】主に薄膜の表面に剥離層を吹き付け塗装、塗布または印刷によって設け、剥離層に空白部をあらかじめに残し、この剥離層と空白部上に金属メッキ層をメッキ加工して、金属メッキ層によって剥離層と空白部とを被せた上、この金属メッキ層上に接着層を吹き付け塗装、塗布または印刷によって設ける。引き続き、この接着層上に基層を貼り付けるか、または前記金属メッキ層に接着層を有する基層を貼り付け、最後に、この基層と接着層を剥がし、接着層によって、余分な金属メッキ層と剥離層を同時に剥がし、特定図案、線形、文字、符号または数字だけの金属メッキ層を残す。これにより、金属メッキ層を有する薄膜を無線周波数識別(Radio Frequency Identification, RFID)システムまたは無線伝送のアンテナあるいは導電製品に応用できる。 (もっと読む)


【課題】最適なメンテナンス時期を通知する膜厚検知器を提供する。
【解決手段】減圧雰囲気において被処理体の上に薄膜を形成しまたは前記被処理体をエッチングする真空処理装置内に設けられる膜厚検知器であり、第1の導電性端子と、前記第1の導電性端子に隣接する第2の導電性端子と、を備え、前記被処理体以外の部分に堆積する被膜の厚みを、前記第1の導電性端子と前記第2の導電性端子との間に堆積する被膜の厚みに応じた前記第1及び前記第2の導電性端子の間の電気特性の変化として検知可能としたことを特徴とする膜厚検知器が提供される。 (もっと読む)


【課題】帯電防止性の良好な層を形成できる光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第1の層を形成する工程と、チタン、ニオブ、チタンの酸化物およびニオブの酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1つの組成をイオンアシスト蒸着することにより、第1の層の表層の少なくとも一部を低抵抗化する工程とを有する光学物品の製造方法を提供する。チタン−ニオブ系でありながら高温プロセスを用いずに表面の電気抵抗を下げることができ、また、高価なインジウムを用いずに表面の電気抵抗を下げることができる。 (もっと読む)


【課題】大気圧プラズマ放電処理の際の、電極表面の誘電体層の劣化や不均一放電、及び回路全体のインピーダンスが高くなることを防ぐことのできる放電用電極を提供すること。
【解決手段】本発明の放電用電極は、対向する二つの電極を備え、これら電極には、対向側表面に誘電体層が形成され、前記各誘電体層の一方が体積抵抗率1011Ωcm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ターゲットの表面上に発生する磁場の強度を高めながら、ターゲットを適切に冷却することができ、なお且つ、ターゲットの小径化に対応可能なマグネトロンスパッタ装置を提供する。
【解決手段】被処理基板Wが配置される反応容器と、反応容器内を減圧排気する減圧排気手段と、被処理基板Wを処理する処理手段1Aとを備え、処理手段1Aは、被処理基板Wに対向してターゲットTを保持する保持手段8と、ターゲットTの表面上に磁場Mを発生させる磁気発生手段11と、ターゲットTを冷却する冷却手段40とを有し、ターゲットTの被処理基板Wと対向する面とは反対側に、磁気発生手段11が配置されると共に、この磁気発生手段11の外側に冷却手段40が配置されている。 (もっと読む)


【課題】本発明のシンチレータパネルを用いることにより、シンチレータパネルとセンサパネルを均一に密着させることが可能となり、画像ムラのない良好な画像を得ることができる。
【解決手段】一方の面に複数の光電変換素子が二次元状に配列されて形成された光電変換基板と、X線により可視領域で発光するシンチレータパネルの発光面を対向させた構成の放射線検出パネルに用いるシンチレータパネルであって、該シンチレータパネルにおける中央部膜厚が周辺部膜厚より厚い層であることを特徴とするシンチレータパネル。 (もっと読む)


【課題】スパッタ成膜時に、真空槽内の圧力や電極への投入電力を変化させる必要がなく、基板上の有機薄膜などへのダメージを最小限に抑えつつ効率的な成膜を可能とする。
【解決手段】ソフト成膜時、シャッター5をターゲット8に対向して配設し、かつ基板搬送機構4により基板3をシャッター5の脇部分に搬送させ、この状態でシャッター5の脇から僅かに漏れるターゲット粒子を基板3に衝突させることによりソフト成膜を行う。ソフト成膜後、基板搬送機構4により基板3をシャッター5の背後に搬送させ、かつシャッター5を移動させて高レート成膜を行う。この状態ではターゲット電極2に対向する放電空間が基板3の下方に広がり、高エネルギー状態のターゲット粒子や反跳イオンおよびγ電子が大量に基板3に衝突することになる。 (もっと読む)


【課題】ターゲット部材の片減りを防止しつつ、簡易な構造で、基板に平行で基板中心に向く磁界を基板上に形成し、膜厚分布を向上させることのできるマグネトロンカソードを提供する。
【解決手段】基板に対向して配される環状のターゲット6と、ターゲット背面にターゲットに対して移動可能且つ回転可能に配置され、不均一な磁界を発生させるマグネット組立15によって構成されるマグネトロンカソードにおいて、ターゲットの中心開口部周縁に中央シールド部が設けられ、中央シールド部は複数の磁性体部品による積層構造を有する中央カバー10が設けられるとともに、ターゲット外周側保持リング11は、複数の磁性体部品からなる積層構造を有し、これら磁性体部品の少なくとも一つが、マグネット組立によって生じる磁界に対応して基板上に磁気異方性を構築する。 (もっと読む)


【課題】スループット良くEL発光を利用した照明装置を製造することが可能な製造装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】真空室と、真空室を減圧あるいは高真空状態とする排気系と、真空室へ基板を搬送する搬送室と、を有する照明装置の製造装置を提供する。この製造装置において、真空室は、搬送室から搬送された基板上に第1の電極を成膜する成膜室と、第1の電極上に少なくとも発光層を有する第1の発光ユニットを成膜する成膜室と、第1の発光ユニット上に中間層を成膜する成膜室と、中間層上に少なくとも発光層を有する第2の発光ユニットを成膜する成膜室と、第2の発光ユニット上に第2の電極を成膜する成膜室と、第2の電極が設けられた基板上に封止膜を成膜する成膜室と、成膜室のそれぞれに基板を順次搬送するための基板搬送手段と、を有する。 (もっと読む)


【課題】金属基材の上に貴金属の薄膜を設けてなる耐食性導電部材において、ピンホールがきわめて少なく、薄膜が緻密であって基材金属によく密着しており、したがって過酷な使用環境に耐える耐食性導電部材、とりわけ燃料電池の金属セパレータを提供する。
【解決手段】たとえばステンレス鋼の表面に厚さ100nm以下の貴金属の薄膜を形成した材料において、貴金属層および基材と貴金属層との中間層の内部に存在する不純物の量を、それぞれ、C:1.5%以下、P:1.5%以下、O:1.5%以下、S:1.5%以下であって、C+P+O+S:4.0%以下に規制する。基材の表面に存在する汚染被膜を物理的および(または)化学的な方法により除去して清浄な表面を露出させ、その直後に、表面が再度汚染されるに先だって電気メッキなどにより貴金属被膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】よりいっそうの高記録密度化に対応可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録方式での情報記録に用いる垂直磁気記録媒体であって、基板上に少なくとも軟磁性層と下地層と磁気記録層とを備える垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記下地層の成膜を2つのチャンバーを使用して行い、まず1つ目のチャンバーにおいて、連続または非連続の成膜の間に少なくとも1回のガス圧変更を含み、そのうち少なくとも1回は、変更後のガス圧が変更前よりも高くなるようにして成膜を行い、次いで2つ目のチャンバーにおいて、1つ目のチャンバーにおいて最も低い成膜圧力よりも高い圧力に設定して成膜を行う。 (もっと読む)


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