説明

Fターム[4K029BA01]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被膜材質 (15,503) | 金属質材 (5,068)

Fターム[4K029BA01]の下位に属するFターム

単体金属 (3,635)
合金 (1,295)

Fターム[4K029BA01]に分類される特許

61 - 80 / 138


【課題】光学素子を成形から成膜に至るまで時間ロスのない工程設定を行い生産のリードタイムの短縮化を図る。
【解決手段】成膜機50において成膜に要する時間をT1、成膜機50の処理室58の数をN1(自然数)、成形機10において成形に要する時間をT2、成形機10の処理室22の数をN2(自然数)とした場合に、T1>T2のときはT1/T2≦N1,N2=1であり、T1<T2のときはT2/T1≦N2,N1=1とした。 (もっと読む)


【課題】基材に対して、均一で且つ十分な厚さを有する被膜を、大きな密着力と良好な膜質とをもって一挙に形成可能な基材の支持装置とスパッタリング装置とを提供する。
【解決手段】スパッタリングにより被膜が形成されるべき基材23をターゲット22に対向させるように支持する支持装置36を、真空チャンバ10内に、ターゲット22との対向方向と直角な方向に延びる第一の回転軸38回りに、第一の駆動機構42,44,46にて回動乃至は回転可能に、且つ該ターゲット22との対向方向と該第一の回転軸38の延出方向の両方向に対して直角な方向に延びる第二の回転軸50回りに、第二の駆動機構64,65,68,70,72,90にて回動乃至は回転可能に配置して、構成した。 (もっと読む)


【課題】過剰の温度を必要としない金属堆積に適合する脱着方法を提供する。
【解決手段】金属膜を基材上に堆積させる方法は、超臨界プレクリーンステップ、超臨界脱着ステップ、および金属堆積ステップを含む。好ましくは、プレクリーンステップは、基材の金属表面から酸化物層を除去するために超臨界二酸化炭素およびキレート化剤を基材と接触して維持することを含む。金属膜を基材上に堆積させるための装置は、移送モジュール、超臨界プロセシング・モジュール、真空モジュール、および金属堆積モジュールを含む。 (もっと読む)


【課題】ハウジング部に光源を組み込んで、ハウジング部内側面と、光源先端部とに反射膜を形成するにあたり、光源先端部の膜厚がハウジング部内側面の膜厚よりも厚くなるようにする。
【解決手段】固定金型となる第一金型6に、第一、第二マグネトロンスパッタリング装置9a、10aを備えた第一、第二成膜装置9、10を設けるとともに、第一成膜装置9を構成するターゲット室11aの開口にマスキング部材16を設ける構成とし、一次の射出工程の後、第二金型6に保持され、バルブ3が組み込まれたハウジング部4に対し、第一成膜装置9による第一成膜工程と、第二成膜装置10による第二成膜工程とを実施する構成とする。 (もっと読む)


【課題】 フィルム基板を搬送する駆動ロールによる搬送シワの発生を防止し、作業性の向上を図りうる薄膜太陽電池の製造装置を提供する。
【解決手段】 巻き出しロールに巻かれた帯状可撓性のフィルム基板を略真空状態に維持された成膜室に送り、前記成膜室に互いに対向して配置された接地電極と、ターゲット材を有する印加電極との間で放電させて、フィルム基板の面上に電極となる金属薄膜を、一定の加熱下で形成し、金属薄膜が形成されたフィルム基板を巻き取り室に設けられた巻取りロールで巻き取るようにした薄膜太陽電池の製造装置において、前記巻取り室5に、金属薄膜22が形成されたフィルム基板1を一定の張力で搬送する一対の駆動ロール14,15を設け、前記フィルム基板の幅方向両端部に対応する前記少なくとも一方の駆動ロール15の両端部周面にそれぞれ弾性部材の層21を形成した装置。 (もっと読む)


【課題】電波透過性および鏡面のような金属調光沢を有し、該金属調光沢が失われにくく、かつ低コストである電波透過性装飾部材を提供する。
【解決手段】該課題は、基体12と、該基体12上に設けられた、シリコンまたはゲルマニウムと金属との合金からなる光反射層14とを有する電波透過性装飾部材10により解決され、光反射層14としては、シリコンまたはゲルマニウムと金属との合金の物理的蒸着によって形成された蒸着膜であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】高分子フィルムの上に微粒子を連続して形成する装置を提供する。
【解決手段】本発明の微粒子形成装置1は、金属材料を蒸着する真空アーク蒸着源5と、被蒸着材料であるフィルム4を走行させるフィルム走行手段3と、真空アーク蒸着源5をパルス駆動する制御手段65とを備え、フィルム4の走行方向に対して交差するように複数配列した。これにより、フィルム4上に均一化された良質の微粒子を連続して形成することができる。従って、量産が可能となった。 (もっと読む)


【課題】基材表面上に金属薄膜を形成した成膜品に更に塗装を施すことにより得られる加飾製品において、塗装欠陥や塗装不良の発生を有利に防止し、且つ、塗装欠陥や塗装不良を惹起する成膜品上に付着する付着異物の有無を、作業者の眼の健康を確保しつつ効果的に検査し得るようにした加飾製品の製造方法を提供すること。
【解決手段】成形された基材を成膜チャンバ内に搬送して、所定の成膜処理を施し、基材表面に所望の金属薄膜を形成した後、その得られた成膜品に塗装を施すことにより、加飾製品を製造するに際して、かかる成膜品を前記成膜チャンバから取り出した後、成膜品に対して除電・除塵操作を実施し、次いで緑色光を照射して、成膜品表面における付着異物の有無の検査を行なって、成膜品を選別し、そして得られた付着異物の認められない成膜品に対して、前記塗装が施されるようにした。 (もっと読む)


【課題】サブミクロンオーダーの金属膜を透明基板上に確実に形成することができるメタルワイヤーパタンの製造方法、バックライトシステム及びそれらを用いた液晶ディスプレイを提供する。
【解決手段】モールド20aにナノインプリント法により凹凸部11を形成する凹凸部形成工程と、モールド20aの凹凸部11上に真空成膜法またはめっき法により金属膜13を堆積させる金属膜形成工程と、凹凸部11上に堆積した金属膜13のうち、凸部15上に堆積した金属膜13を透明基板30に転写してメタルワイヤー層32を形成する転写工程と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】搬送室内の汚染を軽減し、メンテナンス頻度の減少を図ることが可能な基板処理システムを提供すること。
【解決手段】被処理基板に対して処理を行う処理チャンバ22及び23と、処理チャンバ22及び23に接続され、内部が処理チャンバ22及び23の処理圧力と適合した圧力に調整可能な搬送室21と、搬送室21内に設けられ、被処理基板を処理チャンバ22及び23に対して搬入出する搬送機構26と、搬送室21内を、この搬送室21内に処理チャンバ22及び23からの放出物が付着しない温度に加熱する加熱機構71と、搬送室21内を排気する排気機構54と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】高品質の薄膜を形成することができる蒸着装置及び蒸着方法並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着装置2は、基板12の蒸着面12aに、開口パターンを有したマスク14を配置し、基板12の蒸着面12aに所定のパターンの成膜を行う蒸着装置であって、チャンバ18と、チャンバ18内に設けられ、マスク14の基板12と接触する第1の面を、基板12の蒸着面12aと対向する位置に、変位させるマスク保持部36と、マスク保持部36の作動を制御する機能を有する制御部38と、を含む。 (もっと読む)


本発明は、乾式真空蒸着を用いた多層薄膜の製造方法に関し、特に、携帯電話、MP3プレイヤー、携帯型マルチメディアプレイヤー(PMP)、デジタルマルチメディア放送(DMB)受信機、カーナビゲーションシステム、ノート型パソンコンなどの携帯用電子製品及びディスプレイ製品などのケース、ウィンドウ、キーパッド、ファンクションキー部品、様々なアクセサリー部品などに光学的美麗感と高級感を与えることができる、安定且つ簡単な乾式真空蒸着を用いた多層薄膜の製造方法に関するものである。
(もっと読む)


【課題】磁気媒体の作成において、良質の磁気媒体を作製できるようにする。
【解決手段】マグネトロンスパッタリングのためのチャンバー1内に、基板8と第1及び第2ターゲット21,21とを、前記基板8の中心軸と前記第1及び第2ターゲット21,21の中心軸とが交差するように配置し、前記チャンバー1内を排気し、前記チャンバー1内にガスを導入し、前記排気及びガス導入された雰囲気下で、前記基板8を回転させながら、グネトロンスパッタリング法により前記基板8の上に磁性膜及び異種材料膜を成膜する。 (もっと読む)


【課題】真空蒸着やスパッタリングなどの過程においてシャドーマスクの表面に累積した薄膜の剥離によって生じる粉塵による欠陥を防止して、長期間安定して用いることができるシャドーマスクを提供する。
【解決手段】シャドーマスク200は、基板210と、マスク220と、剥離防止用の高分子層240とを備える。マスク220は、基板210の上に所望の形状に薄膜を転写するための開口部を有して形成される。剥離防止用の高分子層240は、マスクの上に形成される。マスク220は、金属からなることが好ましい。また、高分子層240は、40℃〜250℃の範囲のガラス転移温度を有することが好ましい。さらに、高分子層240は、非結晶性PET、可塑化PVC、高密度PE、PP及びPEIのいずれか1つの材料からなることが好ましい。 (もっと読む)


本発明は、光学装置及び方法であり、前記光学装置内の、EUV及び/又は軟X線の放射線を反射する光学部品2、6、13にその場で処理を施す光学装置及び方法であり、前記光学部品2、6、13が、前記光学装置の真空チャンバ14内に配設され、1つ又は幾つかの表面材料から成る最上層を持つ1つ又は幾つかの反射面3を有する光学装置及び方法に関する。前記方法においては、前記1つ又は幾つかの表面材料の供給源1、5が、前記光学装置の前記チャンバ14内に設けられ、前記光学装置の動作中及び/又は動作休止中に、堆積した汚染物質の材料を覆う若しくは置換するために、且つ/又は表面材料の削摩を補償するために、前記供給源1、5からの表面材料が、前記1つ又は幾つかの反射面3に堆積させられる。
(もっと読む)


【課題】数百μmを超える厚膜の成膜が可能であり、かつ、多量の成膜材料を高い均一性で迅速に溶融でき、しかも、突沸に起因する欠陥等も防止できる真空蒸着用の蒸発源、および、この蒸発源を利用する真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】成膜材料を加熱/溶融して蒸発させる蒸発源が、成膜材料を加熱/溶融する複数の蒸発室と、この蒸発室の上方に配置される、成膜材料の蒸気が通過する開口部が1個のみ形成された遮蔽部材とを有することにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】ハウジング部に光源を組み込んで、ハウジング部内側面と、光源先端部とに反射面を成膜するにあたり、成膜にムラができず、光源先端部のみを成膜できるように構成する。
【解決手段】固定金型となる第一金型6に、ターゲット室11aの溝奥側に、成膜方向の直進性が低減され、よりムラのない成膜ができるような装置として汎用されるマグネトロンスパッタリング装置9aを設けた成膜装置9を配設し、ターゲット室11aの開口部に、貫通孔10aが開設された円板体10bを備えたマスキング部材10を設けて、一次の射出工程の後、前記ターゲット室11aにバルブ3を組み込んだハウジング部4を突き当てることにより、マスキング部材10の貫通孔10aにバルブ先端部3bを貫通させ、この状態において成膜する構成とする。 (もっと読む)


【課題】蒸着(スパッタリング)金属による形成成膜の接着力が強く、形成速度の速い電子ビーム蒸着装置を提供する。
【解決手段】プラズマ電子銃から発射される電子ビームパルスは、大きい断面積であってエネルギ密度が低いと言う特徴がある。スパッタリングに利用する場合には面積の大きなターゲットを使用できることと、スパッタ粒子が微細であるという利点がある反面、ターゲットと基板は近接しなければならないと言う制約がある。そこで、基板の周囲にターゲットを配置し、プラズマ電子銃からの電子ビームをターゲットに照射してスパッタ粒子を発生させるとき、基板表面に並行する磁力線を作っておくと、電荷を持つ金属イオンの運動との相互作用(ローレンツの力)により方向が偏向させられ、基板面に誘導されて薄膜が堆積される。 (もっと読む)


【課題】面内方向に組成分布を有する膜を簡易に低コストに成膜することが可能な成膜技術を提供する。
【解決手段】無機膜53は、面内方向に組成分布を有するスパッタリングターゲットを用いて、スパッタリング法により成膜されたものである。スパッタリングターゲットの好適な態様としては、組成が略均一なターゲットの表面の所定箇所に、該ターゲットより面積が小さく、かつ該ターゲットの組成とは異なる単数又は複数のターゲットチップが取り付けられたものが挙げられる。他の好適な態様としては、互いに接合する形状に加工された組成の異なる複数のターゲットが接合されたものが挙げられる。 (もっと読む)


【課題】水素を含有する混合ガスから水素を選択的に透過及び分離する水素透過性に優れた、厚さが極薄くても割れなどの破損及び変形のない水素透過金属膜を効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成した水素透過金属層を剥離することにより水素透過金属膜を製造する方法において、基板上から剥離して得られた水素透過金属膜を、真空下又は不活性ガス雰囲気下に500〜1100℃の温度で熱処理することを特徴とする。 (もっと読む)


61 - 80 / 138