説明

Fターム[4K029BA02]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被膜材質 (15,503) | 金属質材 (5,068) | 単体金属 (3,635)

Fターム[4K029BA02]の下位に属するFターム

Al (562)
Ag (263)
Au (197)
Co (87)
Cr (335)
Cu (398)
Fe (66)
In (49)
Mo (124)
Ni (175)
Pt (183)
Sb (2)
Sn (64)
Ta (165)
Ti (419)
Zn (60)

Fターム[4K029BA02]に分類される特許

21 - 40 / 486


【課題】リチウムターゲットのリチウムの膜厚の測定機能を備えると共に、蒸着源をリチウムターゲットに移動させて消耗されたリチウムターゲットの再生を自動で行うことができるリチウムターゲット自動再生装置及びリチウムターゲット自動再生方法を得る。
【解決手段】リチウムターゲットのリチウムを自動で再生することができるリチウムターゲット自動再生装置106であって、リチウムターゲット自動再生装置106は、リチウムターゲットにリチウムを蒸着させるリチウム蒸着ユニット1を備え、リチウム蒸着ユニット1は、リチウムターゲット側に移動してリチウムターゲットにリチウムを蒸着させることが可能である。 (もっと読む)


【課題】ターゲットを高融点金属とし、このターゲットを処理対象物に成膜するときにグレインサイズや表面モホロジーを制御し得るスパッタリング方法を提供する。
【解決手段】ターゲット2として高融点金属製のものを用い、真空チャンバ1内でこのターゲットに処理対象物Wを対向配置し、所定圧力の真空チャンバ内にスパッタガスを導入し、ターゲットに所定の電力を投入して真空チャンバ内にプラズマを形成してターゲットをスパッタリングし、処理対象物の表面に上記高融点金属からなる金属膜を成膜する。スパッタリング中、処理対象物の全面に亘って垂直な静磁場を作用させることを特徴とするスパッタリング方法。 (もっと読む)


【課題】 特に再生処理された使用済みスパッタ材をリサイクルすることができる再製スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 元スパッタ面と、元非スパッタ面とを有する使用済みスパッタ材と、
前記使用済みスパッタ材の元スパッタ面に一体に形成される充填層と、
前記使用済みスパッタ材の元非スパッタ面からなる新スパッタ面とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】炎天下の車内環境等のような高温かつ直射日光に曝される状況であっても、優れた意匠性と視認性を保ち、且つ変形、変色等の変質を起こし難い耐候性を有する樹脂製品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】軟質樹脂基材2上に金属皮膜が形成された樹脂製品1において、前記金属皮膜は、前記軟質樹脂基材2上に少なくとも上下二層に形成されており、下層である第1金属皮膜3はスズ、インジウム又は亜鉛のうち少なくともいずれか1つから形成され、上層である第2金属皮膜4はクロムから形成されてなる樹脂製品1と、前記第1金属皮膜3及び第2金属皮膜4を、スパッタリング法によって形成する樹脂製品1の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】ロール・ツー・ロールで搬送される長尺の樹脂フィルムの両面に金属薄膜を成膜する場合に、第1の面の金属薄膜の表面と第2の面の金属薄膜の表面とがくっつくことによる、しわ、膜剥がれ等の不具合を防ぐことができ、両面積層基板の生産効率を低下させることのない金属薄膜積層基板の製造方法を提案する。
【解決手段】長尺のフィルム基板Fの両面に金属薄膜を真空成膜により成膜したのち、該金属薄膜の少なくとも一方の金属薄膜の表面に金属酸化物の薄膜を形成し、その後金属薄膜積層基板Fをロール状に巻き取ることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】蒸発した材料の堆積の均一性、特にインジェクターの軸に沿っての均一性を改善することにある。
【解決手段】 本発明は、真空蒸着システムのためのインジェクターに関し、該インジェクターは、真空蒸発源からの蒸発した材料を受けるのに適したインジェクション・ダクト、および蒸発した材料を真空蒸着室内に放射するための複数のノズルを備えたディフューザーを備えており、各ノズルは、前記インジェクション・ダクトを前記蒸着室に連結するのに適したチャンネルを備えている。本発明によれば、前記ディフューザーは、空間的に変化があるノズル配置を有している。本発明はまた、インジェクターを較正する方法、インジェクターのディフューザーを製造する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】光量を高めた特殊な光源や感度の高い特殊な検出器を用いることなく、成膜される光学薄膜の膜厚を、高い精度で計測する光学式膜厚モニターを備えた成膜装置を得ることである。
【解決手段】モニター基板と、真空チャンバーの外に設置され、透明窓を介してモニター基板にモニター光を投射する発光手段と、モニター基板から反射され、真空チャンバーの外に導出されるモニター光を受光する受光手段と、受光手段で計測したモニター光の強度変化から、被成膜部材に形成される薄膜の膜厚を算出する手段とを有する光学式膜厚モニターを備えた成膜装置であって、モニター基板が、平面に半導体でなる膜厚が100nm未満の第1の薄膜を備えているものである。 (もっと読む)


【課題】成膜材料であるDy、Tbを有効に利用しつつ、所定形状鉄−ホウ素−希土類系の磁石の表面に高速で成膜させて生産性が向上し、低コストで永久磁石を製造できる成膜装置を提供する。
【解決手段】真空排気可能な処理室2と、前記処理室内を加熱する加熱手段23と、前記処理室内でバルク体たる金属蒸発材料と被処理物とをそれぞれ保持する保持手段6とを備え、前記処理室の減圧下で前記加熱手段を作動させ、少なくとも金属蒸発材料が蒸発する温度まで処理室を加熱して処理室内に金属蒸気雰囲気を形成し、前記金属蒸気雰囲気中の金属原子が、加熱されている被処理物表面に付着するように構成した。 (もっと読む)


【課題】成型加工を行っても相手材表面との摩耗を低減できる被膜を被覆した鉄系合金製パンチ工具を提供する。また、万一に被膜の摩耗が生じても鉄系合金製パンチ工具の損傷を未然に防止できる被膜を被覆した鉄系合金製パンチ工具を提供する。
【解決手段】V(1−X)から成り、かつXは原子%で70at%超95at%以下であるバナジウム含有被膜を鉄系合金製パンチ工具21に被覆する。また、鉄系合金製パンチ工具21とバナジウム含有被膜との間に複合被膜を被覆して、複合被膜は鉄系合金製パンチ工具21から近い順にV被膜、V(1−Y)被膜(ただし、Yは原子%で40at%以上60at%以下)から成る被膜とする。 (もっと読む)


【課題】蒸発源の冷却時間を短縮する。
【解決手段】蒸着準備工程では、蒸着材料30を収納する坩堝13、坩堝13を加熱する加熱部14、および坩堝13内で気体化した蒸着材料30を被処理物に向かって放出するノズル12、を備える蒸発源10、および被処理物を真空チャンバ内に配置する。次に、坩堝13に収納された蒸着材料30を加熱部14により加熱して、気体化した蒸着材料ガスを発生させ、被処理物に蒸着膜を形成する。次に、蒸発源10の外側からノズル12を介して坩堝13内にガス26を供給し、かつ、加熱部14を停止させて坩堝13を冷却する。 (もっと読む)


【課題】成膜材料であるDy、Tbを有効に利用しつつ、所定形状鉄−ホウ素−希土類系の磁石の表面に高速で成膜させて生産性が向上し、低コストで永久磁石を製造できるようにする。
【解決手段】真空排気が可能な処理室と、前記処理室内を加熱する加熱手段と、前記処理室内でバルク体たる蒸発材料と被処理物とを離隔して保持する保持手段とを備え、前記被処理物を保持する保持手段が、前記処理室内の加熱により蒸発材料から蒸発した材料の通過を許容し、前記被処理物の複数個が並置できる部材から構成される。 (もっと読む)


【課題】スパッタターゲット及びその形成方法を提供する。
【解決手段】回転軸方向鍛造を用いてスパッタターゲットを作製する方法が記載される。当該鍛造工程の前及び/又は後に他の熱機械加工工程を用いることができる。特有の粒子サイズ及び/又は結晶構造を有することができるスパッタターゲットがさらに記載される。 (もっと読む)


【課題】稀少な蒸着原料を浪費することなく、効率的な拡散処理を行える拡散処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着処理装置(1)は、被処理材を収容する処理室(10)と、処理室内に配置された被処理材(M)を加熱する第一加熱手段(13)と、処理室内の雰囲気を調整する第一雰囲気調整手段と、処理室に連通可能に設けられ蒸着源(D)を収容し得る蒸着源室(20)と、処理室と蒸着源室との間で蒸着源を移動させ得ると共に被処理材へ近接させ得る近接移動手段(21)と、処理室と蒸着源室との連通と遮断を蒸着源の移動に応じて切換える切換手段(30)と、蒸着源を加熱する第二加熱手段(22)と、蒸着源室内の雰囲気を調整する第二雰囲気調整手段と、を備える。これによれば被処理材と蒸着源とを、独立して加熱できると共に任意のタイミングで接近させることができる。従って蒸着自由度が非常に高くなり、効率的な蒸着処理等が可能となる。 (もっと読む)


【課題】ファインピッチ化に適した、裾引きが小さい断面形状の回路を良好な製造効率で製造可能なプリント配線板用銅箔及び電子回路の形成方法を提供する。
【解決手段】銅箔基材と、該銅箔基材表面の少なくとも一部を被覆する被覆層とを備えたプリント配線板用銅箔であって、前記被覆層が、Pt、Pd、及び、Auの少なくともいずれか1種を含み、前記被覆層には、Auが200〜2000μg/dm2、Ptが200〜2000μg/dm2、Pdが120〜1200μg/dm2の付着量で存在し、CCL製造工程の熱履歴を受けると、XPSによる該被覆面表面からの深さ方向分析から得られた深さ方向(x:単位nm)のPt、Pd、及びAuのいずれか1種以上の原子濃度(%)をf(x)、銅の原子濃度をg(x)としたとき、区間[0、5]において0.1≦∫f(x)dx/∫g(x)dx≦0.7を満たすプリント配線板用銅箔。 (もっと読む)


【課題】 基板上に、高い精度で、形成不良なく電極を形成し得る電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の電子部品の製造方法は、平板状の基板1を準備する基板準備工程と、基板1の主面上にレジストパターン2aを形成するレジストパターン形成工程と、基板1の主面上のレジストパターン2aが形成されていない部分にIDT電極4を薄膜技術により形成する電極形成工程と、レジストパターン2aを除去するレジストパターン除去工程とを含み、電極形成工程は、基板1を、電極が形成される側の主面が凹むように反らせておこなうようにした。 (もっと読む)


【課題】安定した膜質で薄膜を形成し得るバイアススパッタリング方法及びそれを利用した弾性波装置の製造方法を提供する。
【解決手段】供給された電力の総和である積算電力の異なる複数種類のターゲット12a〜12cを用いてバイアススパッタリングすることにより薄膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】ビットパターンを高密度に集積した場合にも,熱安定性と記録性に優れ,ビットパターンのトラック周期よりも広い記録素子及び再生素子の磁気ヘッドを用いることができるようにする。
【解決手段】円錐台状の記録ビットの下層に垂直磁気異方性の大きい熱安定層を,上層に飽和磁束密度の大きい高出力層を備える。外周部は高出力層を除去して熱安定性を向上した熱安定性領域22とし,中心部は再生領域21とする。また,外周部と中心部の間に垂直磁気異方性と飽和磁束密度を小さくした反転制御領域23を設ける。 (もっと読む)


【課題】成膜面を下にして上下を逆にして載置したウエハ上の堆積膜にクラック、バリ、剥がれの発生を防止する。
【解決手段】蒸着設備において、下から受けてウエハ2を支えて搭載するウエハ搭載用のヤトイ治具3において、ヤトイ治具3の内周側の先端部に庇状の段差部3aが平面視リング状に設けられている。リング状のヤトイ治具3の段差部3b上にはウエハ2が搭載され、さらに外周側のヤトイ治具3の段差部3c上には、その下面がウエハ2の上面にと当接してウエハ2を自重で固定するための蓋4が搭載されている。段差部3c上に搭載された蓋4の下面は、段差部3b上に搭載されたウエハ2の上面を多少押圧する段差部3b、3cの段差高さ関係を有している。 (もっと読む)


【課題】基材に溶射皮膜を設けた真空装置用部品において、膜剥がれ、微小パーティクルの発生を低減した真空装置用部品を溶射皮膜溶射皮膜提供する。
【解決手段】基材1と前記基材の上に設けられた溶射皮膜3とを有する真空装置用部品において、前記溶射皮膜は、高融点金属粒子またはセラミック粒子の少なくとも一種と、アルミニウム粒子を用いて形成し、前記溶射皮膜が、金属溶融膜膜片5と、粒子6と、空隙7とを有し、空隙率が12%以上40%以下である。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、以上の点に鑑み、異種金属からなる導電層間に介在されるような場合でも十分なバリア性能を発揮し得るバリア層を生産性よく形成することができるバリア層の形成方法を提供する。
【解決手段】 バリア層BMは、処理対象物Wを一方の導電層CL1を有するものとし、この処理対象物と、例えばTi製のターゲット2とを真空処理室1a内に配置し、真空処理室内に希ガスを導入してプラズマ雰囲気を形成し、ターゲットをスパッタリングして一方の導電層表面に第1金属層を形成し、真空処理室内に酸素ガス及び窒素ガスを含むガスを導入してプラズマ雰囲気を形成し、第1金属層の表面を酸窒化処理すると共に、ターゲットをもプラズマ雰囲気に曝して当該ターゲット表面を酸窒化し、真空処理室内に希ガスを更に導入してプラズマ雰囲気を形成し、ターゲットをスパッタリングして酸窒化処理された表面に第2金属層を形成してなる。 (もっと読む)


21 - 40 / 486