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Fターム[4K029BA02]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被膜材質 (15,503) | 金属質材 (5,068) | 単体金属 (3,635)

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Fターム[4K029BA02]に分類される特許

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【課題】 従来技術に比べてよりコンパクトな製造工程、並びにFe−Zn反応を起こさせない加熱段階を可能とする金属被覆鋼製品の製造方法を提供する。
【解決手段】 金属被覆を持つ鋼製品の被覆に追加の元素を添加するに先立って、表面を浄化し、活性化するためにプラズマ処理を受けさせること、追加の元素が物理蒸着技術により添加されること、続いての熱処理が高エネルギー赤外線を被覆の外表面に向けることにより適用されることを特徴とする。 (もっと読む)


例えば、マグネトロン蒸着装置に用いられるターゲット組立体が、主張される。ターゲット組立体は、管の軸受、管の回転、電気接点、冷媒シール、及び真空シールのような機能の少なくとも1つが管自体の内部に一体化されていることを特徴としている。このような組立体は、エンドブロックが内蔵される容積を低減させることによって、真空空間をさらに有効に用いるという利点を有している。組立体の小形化によって、現在、平面ターゲット組立体のみしか使用できない小型の設備にも、用いることができる。 (もっと読む)


本発明の1つの態様は、プラズマスパッタリアクタのチャンバー壁の外側に位置された補助的磁石リングであって、特に、スパッタ堆積されている基板をスパッタエッチングするためにプラズマを誘導的に発生するのに使用されるRFコイルの半径方向外方に少なくとも一部分配置された補助的磁石リングを包含する。従って、磁気バリアが、プラズマがコイルへと外方に漏れるのを防止し、スパッタエッチングの均一性を改善する。また、この磁界は、コイルが、一次ターゲットと同じ材料で作られているときに、二次ターゲットとして使用されるときには、マグネトロンとしても働く。本発明の別の態様は、ターゲットからペデスタルへと延び、滑らかな内面をもち、且つシールド中央部が環状フランジで支持された一部片の内部シールドを包含する。このシールドは、RFコイルを支持するのに使用されてもよい。 (もっと読む)


【課題】低抵抗の浅いpn接合を実現すること。
【解決手段】ガス導入26からI(沃素)をアークチャンバー21内に導入し、アークチャンバー21の内壁に設置されたGeF2 を含む材料板30を、Iによって物理的および化学的にエッチングし、GeF2 イオンを発生させ、このGeF2 イオンをn型半導体基板の表面に注入し、その後試料内のGeF2 を活性化するための熱処理を行う。 (もっと読む)


【課題】 真空蒸着にて基板に金属薄膜あるいは有機化合物の薄膜を成膜させるに当り、基板の大面積化にも容易に対応することのできる蒸発材料収容容器を提供する。
【解決手段】 導電性平板状体の上面部分に複数の筒状体からなる蒸発材料収容部を有する導電性平板状体の蒸発材料収容容器2であって、上記筒状体が有底筒状体形状の蒸発材料収容部4、開口上面が上記導電性平板状体の上面部より突出する有底筒状体形状の蒸発材料収容部4b、あるいは導電性平板状体の上面に載置した筒状体形状の蒸発材料収容部4cを有する蒸発材料収容容器である。 (もっと読む)


【課題】 2次元あるいは3次元で任意の形状を有し、任意の密度を有する均質な超微粒子厚膜と、その超微粒子厚膜の新規な形成方法を提供する。
【解決手段】 超微粒子を分散質とする煙霧質を、通気性を有する担体を介して吸引濾過することにより前記担体上に超微粒子堆積膜を形成し、その超微粒子堆積膜を焼成することで超微粒子厚膜を形成する。 (もっと読む)


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