説明

Fターム[4K029BA03]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被膜材質 (15,503) | 金属質材 (5,068) | 単体金属 (3,635) | Al (562)

Fターム[4K029BA03]に分類される特許

21 - 40 / 562


【課題】 布帛や不織布表面に金属蒸着層を設けてなる金属蒸着積層体であって、基体となる布帛等と金属蒸着層との間に存在する層間密着力を維持しつつ、さらには金属蒸着層の白化や脱離を抑制出来る、金属蒸着積層体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 表面に核付金属を付着させてなる基材の、核付金属付着面に金属又は金属合金を金属蒸着層として蒸着してなり、前記金属蒸着層のさらに表面にトップコート層を積層してなる金属蒸着積層体であって、前記基材が不織布又は布帛であり、前記金属又は金属合金がアルミニウム、銀、銅、チタン、スズ又はニッケルであり、前記核付金属が、周期表における第4周期第4族から同第12族に属するいずれかの金属、若しくは当該範囲内の金属同士による合金であること、を特徴とする、金属蒸着積層体とした。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、減圧雰囲気内で絶縁性のフィルムを連続的に繰り出し薄膜を蒸着する薄膜形成方法において、冷却ローラへ安定して直流電圧を印加し、フィルムを十分冷却することによってフィルムの熱変形を防止し薄膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】
冷却ローラへ導入する冷却媒体の体積抵抗率が1MΩ・m以上であって、+25℃から−30℃までの範囲における動粘度が200mm2/s以下である液体を用いることにより、前記冷却ローラへ安定的に電圧を印加し、前記フィルムを前記冷却ローラへ静電引力で密着させて成膜することを特徴とする薄膜形成方法。 (もっと読む)


【課題】反射膜の膜厚が約25nm以下に薄く調整されていても、光情報記録媒体での反射率やジッター値などの初期特性に優れていることは勿論のこと、高温高湿下で長期間保管した場合であってもこれらの特性が劣化することがなく、耐久性に優れた光情報記録媒体用反射膜を提供する。
【解決手段】本発明の光情報記録媒体用反射膜は、Siを0.5〜10%、および/またはGeを0.5〜10%と、高融点金属元素を0.2〜1.0%含むAl基合金からなる。上記反射膜の膜厚は25nm以下である。 (もっと読む)


【課題】酸素バリア性、水蒸気バリア性、遮光性、及び光沢性についてはアルミ蒸着PET等と同等の性能を有し、基材とアルミ蒸着膜との密着性も良好で、かつ、ヒートシール性も有するバリア性積層フィルムの提供。
【解決手段】未延伸ポリオレフィン樹脂フィルム11と、その上に設けられたガスバリア性塗布膜12と、その上に設けられたアルミ蒸着層13と、を備えたバリア性積層フィルム1であって、前記ガスバリア性塗布膜が、一般式:RM(OR(式中、Mは金属原子を表し、R、Rは炭素数1〜8の有機基を表し、nは0以上の整数であり、mは1以上の整数であり、n+mはMの原子価を表す)で表される少なくとも1種以上のアルコキシド、ポリビニルアルコール、および/またはエチレン・ビニルアルコールを含んでなる組成物を、ゾルゲル法によって重縮合して得られるアルコキシドの加水分解物またはアルコキシドの加水分解縮合物からなる。 (もっと読む)


【課題】優れたガスバリア性を有し、透明性、照射エネルギーの低化、ガスバリア層の屈曲性に優れたガスバリア性フィルムとその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の少なくとも一方の面側に、SiOx(xは、1.2以上、2.0以下)及び平均粒径が1.0nm以上、10nm以下の光触媒活性無機粒子を含有するガスバリア層を有することを特徴とするガスバリア性フィルム。 (もっと読む)


【課題】薄膜リチウム二次電池を小型の装置で簡易に真空一貫で製造する技術を提供する。
【解決手段】本発明の薄膜リチウム二次電池製造装置1は、真空槽2内に、回転駆動軸3を中心として旋回させて基板10を搬送する基板搬送機構30を有し、回転駆動軸3の周囲に、仕込取出室4と、第1〜第3のスパッタリング室5〜7と、負極層形成室8と、保護層形成室9とが設けられている。第1のスパッタリング室5においては、集電体層と保護層を形成する。第2のスパッタリング室6においては、LiCoO2からなる正極層を形成する。第3のスパッタリング室7においては、LiPONからなる固体電解質層を形成する。各室の開口部4a、5a〜7a、8a、9aは、基板搬送機構30の保持部32が通過する領域と対向する位置に配置される。各室の開口部4a、5a〜7a、8a、9aは、基板10を装着した状態で蓋機構によって塞がれる。 (もっと読む)


【課題】スパッタ効率の高いことよりも、むしろ効率よくプラズマが生成し、かつエネルギー密度の高いプラズマ発生技術が求められている。
しかも安定したプラズマを生成させる際にはトリガーを必要とするため、装置内にトリガーを設置する空間を要すること、及びより装置が複雑になることによって装置が大型化していた。
【解決手段】板状のターゲット側電極の一方の面に、
1つの中心磁石と、該中心磁石の周囲に配置してなり、該中心磁石と極性が異なる1つ以上の周辺磁石との組み合わせからなるターゲット側磁石を設け、
該ターゲット側電極の他方の面にターゲット基板を近接して設けると共に、
該ターゲット基板に対向して試料を設置し、
該試料のターゲット基板に面する側の反対の側にアシスト磁石を設置し、該アシスト磁石の該試料側の極性と、該中心磁石のターゲット側電極側の極性が同じであるプラズマ発生装置。 (もっと読む)


【課題】基板サイズの大型化により、基板を水平搬送でき、基板を略垂直に立てて成膜でき、かつ膜厚均一性がよく、低コストのターゲットや電源を利用でき、蒸着装置とのクラスタ化に適したスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】処理真空チャンバ(10)を有するスパッタリング装置であって、処理真空チャンバ内にカソード電極(60)が設けられ、カソード電極上にスパッタリングターゲット材料(61)が設けられ、処理真空チャンバ内に基板が上面搬送され、カソード電極は矩形であり、基板が垂直方向に立てられた状態でカソード電極が基板面と平行に走査されることで、スパッタリングターゲット材料が基板に成膜されるスパッタリング装置。 (もっと読む)


【課題】窒化物半導体層とオーミック電極とのコンタクト抵抗を低減できる窒化物半導体装置を提供する。
【解決手段】Si基板10上に形成されたアンドープGaN層1,アンドープAlGaN層2と、アンドープGaN層1,アンドープAlGaN層2上に形成されたTi/Al/TiNからなるオーミック電極(ソース電極11,ドレイン電極12)とを備える。上記オーミック電極中の酸素濃度を1×1016cm−3以上かつ1×1020cm−3以下とする。 (もっと読む)


【課題】 真空処理装置の処理室内において、マスクに対する基板のアライメントのために両者の位置関係を確実に検出できる簡単な構成で低コストのアライメント装置を提供する。
【解決手段】 真空チャンバ1内で相互に対向配置される基板Wとこの基板に対する処理範囲を制限するマスクWとのいずれか一方を保持する固定の保持手段5と、その他方を保持する、固定の保持手段に対して相対移動可能な可動の保持手段2とを備える。固定の保持手段内に、一端側が可動の保持手段で保持された基板またはマスクのいずれか他方に向けて開口し、その他端側が処理室を画成する壁面に向けて開口する光路52R,52Lが形成され、光路の他端側から光を入射する光源61と、この他端側から光路を通して他方を撮像する撮像手段62と、撮像手段からの出力に応じて可動の保持手段を相対移動させてアライメントを行う制御手段Cとを更に備える。 (もっと読む)


【課題】物理気相成長中に加工物を支持する方法及び関連する装置を提供する。
【解決手段】吸熱性コーティング(15)でコートされた支持面を有するアルミニウム製支持体(11)が提供される。冷却によって、加工物が350℃〜450℃の温度になるように、支持体は約100℃に冷却されPVDプロセスが実施される。コーティングは、不活性であり及び/または超高電圧に適合できる。 (もっと読む)


【課題】少なくとも一方の面に複数の凹凸部を有する長尺シートを用いた場合、凹凸部の一部に蒸着材料を選択的に蒸着することが可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の面に複数の凹凸部を有する長尺シートW1に、一方の面が鉛直方向を含む縦平面に沿い、かつ、搬送方向が縦平面内における水平方向に沿う状態で斜方蒸着を行う斜方蒸着装置であって、一方の面が縦平面以外の平面に沿う、又は、搬送方向が縦平面内における水平方向以外の方向に沿う長尺シートW1を、一方の面が縦平面に沿い、かつ、搬送方向が縦平面内における水平方向に沿うようにする第1搬送方向変更部20と、第1搬送方向変更部20の後段に配置され、凹凸部の一部に蒸着材料を斜方蒸着する斜方蒸着部40とを備える斜方蒸着装置1。 (もっと読む)


【課題】コンタクトホール内に良好にAl膜が埋設されたコンタクトプラグを有する半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、基板の層間絶縁膜内にコンタクトホールを形成する工程と、基板を加熱した状態でコンタクトプラグを形成する工程を有する。コンタクトプラグを形成する工程では、スパッタ装置のチャンバー内のステージ上に、チャックを介して基板を保持し、チャックに印加するESC電圧を第一の電圧、第二の電圧、第三の電圧と、この順に3段階のステップ状に増加させる。チャンバー内のターゲットに対して第一のターゲット電力を印加してコンタクトホール内に第一のAl膜を成膜する。次に、チャンバー内のターゲットに対して第一のターゲット電力よりも高い第二のターゲット電力を印加して第一のAl膜上に第二のAl膜を成膜する。 (もっと読む)


【課題】炎天下の車内環境等のような高温かつ直射日光に曝される状況であっても、優れた意匠性と視認性を保ち、且つ変形、変色等の変質を起こし難い耐候性を有する樹脂製品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】軟質樹脂基材2上に金属皮膜が形成された樹脂製品1において、前記金属皮膜は、前記軟質樹脂基材2上に少なくとも上下二層に形成されており、下層である第1金属皮膜3はスズ、インジウム又は亜鉛のうち少なくともいずれか1つから形成され、上層である第2金属皮膜4はクロムから形成されてなる樹脂製品1と、前記第1金属皮膜3及び第2金属皮膜4を、スパッタリング法によって形成する樹脂製品1の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】再現性よく光取り出し効率を向上させることができる半導体発光素子、ウェーハ、および窒化物半導体結晶層の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施態様によれば、第1半導体層と、発光層と、第2半導体層と、低屈折率層と、を備えた半導体発光素子が提供される。前記第1半導体層は、光取り出し面を形成する。前記発光層は、前記第1半導体層の上に設けられ活性層を有する。前記第2半導体層は、前記発光層の上に設けられている。前記低屈折率層は、前記第1半導体層の屈折率よりも低い屈折率を有し、前記光取り出し面を部分的に覆う。 (もっと読む)


【課題】静電容量バラツキの少ない大容量電極箔を形成する事を目的とする。
【解決手段】この目的を達成するため本発明の蒸着用ボート13は、凹溝17が、少なくとも蒸着材料が供給される供給用凹溝19Aと、この供給用凹溝19Aと連通する蒸発用凹溝20と、この蒸発用凹溝20と連通する拡散用凹溝19Bとで構成され、表面に供給用凹溝19Aおよび拡散用凹溝19Bが形成された領域のそれぞれの基体18の抵抗値に対する、表面に蒸発用凹溝20が形成された領域の基体18の抵抗値の比は、蒸着材料の沸点を蒸着材料の融点で除した値以上であるものとした。これにより本発明は、供給用凹溝19A近傍の温度を下げ、供給用凹溝19A近傍における蒸着材料の溶融や酸化を抑制し、蒸発量を安定化させる。また凹溝17の端部にまで均一に蒸着材料を行き渡らせることが出来る。そしてその結果、均一な粗膜層7を形成できる。 (もっと読む)


【課題】表面に凹凸形状が形成されている長尺シートを用いた場合に、凹凸形状のうち一部に蒸着材料を選択的に蒸着することが可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】表面に凹凸形状が形成されている長尺シートW1における凹凸形状の一部に、蒸着材料Mを選択的に蒸着する蒸着装置であって、長尺シートW1を搬送する搬送部20と、蒸着時において蒸着材料Mを収容し加熱する蒸着源30と、蒸着材料Mの放出方向を制限する放出方向制限部40とを備えることを特徴とする蒸着装置1。 (もっと読む)


【課題】十分な光量を透過できるとともに高いブラインド効果を得ることができるシート材であって、高い遮光性、遮熱性と高い視認性のいずれもを兼ね備えた光透過性シート材を提供する。
【解決手段】総繊度が10〜330dtexの合成繊維を用いてカバーファクターを500〜4000にした織編物の片面に金属層を設けており、反対面は金属層を設けずしてなるシート材であり、該シート材の前記片面から前記反対面への可視光透過率が5〜50%、且つ前記反対面の可視光反射率が30%以下である光透過性シート材。 (もっと読む)


【課題】フィルムにした際に、蒸着強度、耐ブロッキング性およびヒートシール強度に優れ、溶媒抽出成分量の少ない蒸着フィルム用ポリプロピレン系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】プロピレンに由来する構造単位が主な構造単位であるプロピレン系重合体成分(成分(A))60〜90重量%と、エチレンに由来する構造単位の含有量が20〜40重量%であり、極限粘度([η]B)が3〜8dL/gであるプロピレン−エチレン共重合体成分(成分(B))10〜40重量%とを含む蒸着フィルム用ポリプロピレン系樹脂組成物(但し、成分(A)と成分(B)との合計の重量を100重量%とする。)。 (もっと読む)


【課題】光量を高めた特殊な光源や感度の高い特殊な検出器を用いることなく、成膜される光学薄膜の膜厚を、高い精度で計測する光学式膜厚モニターを備えた成膜装置を得ることである。
【解決手段】モニター基板と、真空チャンバーの外に設置され、透明窓を介してモニター基板にモニター光を投射する発光手段と、モニター基板から反射され、真空チャンバーの外に導出されるモニター光を受光する受光手段と、受光手段で計測したモニター光の強度変化から、被成膜部材に形成される薄膜の膜厚を算出する手段とを有する光学式膜厚モニターを備えた成膜装置であって、モニター基板が、平面に半導体でなる膜厚が100nm未満の第1の薄膜を備えているものである。 (もっと読む)


21 - 40 / 562