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Fターム[4K029BA03]の内容

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Fターム[4K029BA03]に分類される特許

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【課題】 過酷条件下においても優れた耐食性を発揮するR−Fe−B系焼結磁石の製造方法を提供すること。
【解決手段】 R−Fe−B系焼結磁石の表面に、水素含有量が50ppm以上のAlまたはその合金からなる被膜を蒸着形成した後、蒸着形成されたAlまたはその合金からなる被膜に対してピーニング処理を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


本発明の対象は、30nm以下の物理的厚みの、金属Mの酸化物の少なくとも1つの膜で、その表面の少なくとも一部をコーティングした基板を得るための方法であって、前記酸化物膜が、少なくとも1つの銀膜を含む多層の一部ではなく、前記方法が、金属M、金属Mの窒化物、金属Mの炭化物、及び酸素が化学量論組成未満の金属Mの酸化物から選択される材料の少なくとも1つの中間膜が、スパッタリングによって堆積される工程であって、前記中間膜が、チタン酸化物ベースの膜の上または下に堆積されず、前記中間膜の物理的厚みが30nm以下である、工程;並びに前記中間膜が、酸化雰囲気、特に空気に、直接、接する際に、前記中間膜の表面の少なくとも一部が熱処理を用いて酸化される工程であって、前記熱処理の際の前記基板の温度は150℃を超えない、工程、を含む方法である。 (もっと読む)


硬質コーティング(2)および切削工具上で使用可能な窒化チタンアルミニウムを含む硬質コーティング(2)を作製する方法が開示される。コーティング(2)は約0重量パーセントと約15重量パーセントの間の六方晶相およびxが約0.53〜約0.58モルの範囲内である(AlTi1−x)Nの組成を有する少なくとも1つの窒化チタンアルミニウム層(6)を含む。
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【課題】単一のスパッタリングチャンバを用いて基板に形成された開口部内へのAl材料の埋め込みを適切に行えるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】スパッタリング装置100は、スパッタリングチャンバ30と、カソードユニット41およびアノードA間の放電によりプラズマを形成可能なプラズマガン40と、プラズマガン40から放出されたプラズマ22を磁界の作用によりシート状に変形可能な磁界発生手段24A、24Bと、を備える。シートプラズマ27は、スパッタリングチャンバ30内の基板34BとAlターゲット35Bとの間を通過するように誘導され、シートプラズマ27中の荷電粒子によってAlターゲット35BからスパッタリングされたAl材料が基板34Bの開口部に堆積する際に、Al堆積膜200のカバレッジ性が、プラズマ放電電流ID、ターゲットバイアス電圧VB、および、ターゲット−基板間距離Lに基づいて調整される。 (もっと読む)


一方が他方の上に配置されたいくつかの層を含む、切削工具のための被覆材(10)であって、金属アルミニウム又はアルミニウム合金の第1層(3)と、第1層の上に配置された酸化アルミニウム又はアルミニウムと少なくとも1種の他の金属とを含有している混合酸化物の第2層(2)とを有することを特徴とする被覆材(10)。
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【課題】基板上に単結晶材料の層を成長させる方法を提供する。
【解決手段】第1単結晶材料から形成された露出領域を有する基板を、プロセスチャンバ中に配置する工程と、拡散制限ガスの存在下で、基板に向かって、第2材料の中性種のビームを供給し、プロセスチャンバ中の圧力を1×10−6torrから1×10−4torrの間にし、第2材料の中性種を露出領域上に吸着され、これにより第1単結晶材料の上にこれと接触して第2材料の単結晶層を成長させる工程とを含み、拡散制限ガスは、非反応性ガスからなる。 (もっと読む)


本発明は、アルミニウム-ケイ素合金または結晶質ケイ素からなり、研磨可能な層が付与された基材に関する。本発明はまた、前記基材を含む金属鏡、金属鏡を製造するための方法、および本発明の金属鏡の使用に関する。 (もっと読む)


【課題】高精度で、かつ、工程期間短くして、成膜を可能とする成膜方法およびEB−PVD装置を提供する。
【解決手段】蒸発源3からの蒸発粒子を被成膜対象に蒸着させて成膜する成膜方法であって、当該方法は、所定波長の光に基づいた被成膜対象の反射率をベースにした上記成膜膜の相対反射率が上記成膜膜の膜厚変化に応じて変化する関係を示す検量線データを得るステップと、上記成膜膜へ光を入射および反射させることで上記相対反射率を測定するステップと、上記検量線データと上記測定した相対反射率とから上記成膜膜の膜厚を演算するステップと、演算により得た膜厚を上記成膜膜の膜厚制御にフィードバックするステップと、を含む。 (もっと読む)


【課題】単一のスパッタリングチャンバを用いて基板に形成された開口部内へのAl材料のコンタクト埋め込みを適切に行えるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】スパッタリング装置100は、Alからなるターゲット35Bおよび開口部が形成された基板34Bを格納可能なスパッタリングチャンバ30と、カソードユニット41およびアノードA間の放電によりプラズマを形成可能なプラズマガン40と、プラズマガン40から放出されたプラズマを磁界の作用によりシート状に変形可能な磁界発生手段24A、24Bと、を備える。シートプラズマ27は、スパッタリングチャンバ30内の基板34Bとターゲット35Bとの間を通過するように誘導され、シートプラズマ27中の荷電粒子によってターゲット35BからスパッタリングされたAl材料が基板34Bの開口部に堆積する際に、Al材料からなる堆積膜のカバレッジ性が、プラズマ放電電流IDおよび基板バイアス電圧VAに基づいて調整されている。 (もっと読む)


【課題】 金属蒸着基材の金属蒸着層に、耐アルカリ性、耐ボイル性、耐レトルト性を付与することができる保護コート剤を提供することにある。また、金属蒸着基材(a)の金属蒸着層面に金属蒸着層保護コート剤を塗布してなる耐アルカリ性、耐ボイル性、耐レトルト性に優れた積層体を提供する。
【解決手段】 酸変性ポリオレフィン樹脂(A)、アミノ系シランカップリング剤(B)および水性媒体を含有し、(B)の含有量が、(A)100質量部に対して、0.2〜2質量部であることを特徴とする金属蒸着層保護コート剤。 (もっと読む)


【課題】焼却処理時の環境負荷が小さく、フィルムの薄膜化や軽量化が可能であるとともに、美しい光沢が得られ、しかも製造時の加工工程が少なく、製造コストを削減することが可能であるガスバリア性フィルムの製造方法及びガスバリア性フィルムを提供すること。
【解決手段】表面フィルム上に印刷層を形成する工程と、該印刷層上に金属からなる蒸着層を形成する工程と、該蒸着層上に接着剤層を形成する工程と、該接着剤層上に裏面フィルムを接着する工程とからなり、前記印刷層を形成する工程と、前記蒸着層を形成する工程と、前記接着剤層を形成する工程を連続的な一連の処理工程で行う。 (もっと読む)


【課題】成膜速度を安定的に制御することができ、均一かつ高品質の膜質を有する薄膜電極を再現性良く形成することができる薄膜電極製造装置及び薄膜電極製造方法を提供する。
【解決手段】電子ビーム真空蒸着装置100は、真空チャンバー110内に、水冷ハース111とインサート坩堝112Aと密着治具113Aからなる原材料収容部が設けられている。密着治具113Aは、水冷ハース111とインサート坩堝112Aの間に介在し、水冷ハース111の凹部111aの内面(側面及び底面)と、インサート坩堝112Aの外周面(側面及び底面)との間に均一に密着する形状を有している。 (もっと読む)


【課題】スパッタリング装置に使用されるシールドが原因となる、異常放電や付着膜の剥がれを低減させたスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】排気可能なスパッタリング室と、該スパッタリング室内に設けられた、ターゲット搭載用のそれぞれ回転可能な複数の支持体と、それぞれの該支持体の複数の面に、互いに離間するように設けられた、複数のカソードと、前記スパッタリング室内で位置決めされた基板の被成膜面の位置に応じて、前記複数の支持体毎に回転させることにより、前記カソードのターゲット搭載面に搭載された前記ターゲットの位置決めをして前記基板に成膜を行うスパッタリング装置のシールドが、前記支持体の前記ターゲットをプラズマクリーニングするために、該ターゲットの表面と平行関係にある構成を有している。 (もっと読む)


【課題】非鉛系の圧電性薄膜を用いて、高性能かつ高信頼の圧電性薄膜デバイスを提供する。
【解決手段】基板1と、接着層2と、下部電極3と、配向制御層である下地層6と、スパッタリング法によって成膜された(NaxyLiz)NbO3(0≦x≦1,0≦y≦1,0≦z≦0.2、x+y+z=1)で表されるペロブスカイト型酸化物を主相とする圧電性薄膜4と上部電極5を有し、圧電性薄膜4の内部応力の絶対値が1.6GPa以下である。 (もっと読む)


【課題】極性が異なる複数の磁石を有する磁石機構の個々の高さを容易に調整可能とし、薄膜形成における膜厚不均一性を改善することが可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】真空排気可能な処理室100、処理室内に配置された第1の電極(高周波電極)10を具備する。また、第1の電極10上に配置され、隣り合う磁石間で極性を逆にして配置された複数の磁石14、第1の電極10と対向して設けられた第2の電極(基板載置電極)20を具備する。そして、それぞれ磁石14と第1の電極10との距離を調整する距離調整機構を設け、個別に複数の磁石14の第1の電極10に対する距離を調整可能とする。 (もっと読む)


【課題】レーダ装置のレーダビーム経路内に配設される外装装飾部材において、高価なインジウムを使用することなく、インジウムより安価な金属を用いながら、インジウムを用いた場合と同等の金属光沢による優れた意匠性とレーダビーム透過性とを兼ね備えた装飾皮膜を形成する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂基材の表面に、300μm/h〜500μm/hの蒸着速度でアルミニウムを真空蒸着することにより、装飾皮膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】実際に成膜に使える蒸着材料の残量を正確に測定することができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空容器1内に蒸着材料2を蒸発させる容器として坩堝2を設置し、該坩堝2において蒸発させられた前記蒸着材料2を基板4に成膜する真空蒸着装置であって、前記真空容器1外から前記坩堝3内の前記蒸着材料2の嵩を計測する計測手段を備えた。 (もっと読む)


【課題】材料の蒸発速度とプラズマ密度を自由に設定し、成膜速度に対するガスバリア性を自由に設定出来、酸素バリア性および水蒸気バリア性に優れたガスバリア性積層体を生産する成膜装置を提供する
【解決手段】フィルム基材をロール・ツー・ロールで搬送する搬送手段と、フィルム基材へ蒸着材料を蒸着させる蒸着手段とを具備する成膜装置であって、蒸着手段が、蒸着材料を蒸発させる手段と、蒸発した蒸着材料をプラズマにより活性化させる手段とを有する。 (もっと読む)


【課題】 透明導電層を、簡便な転写法で、低温で、十分な導電性を有し、安価に形成することを可能にする転写フィルム、透明導電膜付き接着フィルムを提供する。
【解決手段】 仮支持体14と、仮支持体14上に形成された金属層13と、金属層13上に形成された透明導電層12と、透明導電層12上の接着層11と、を備え、接着層11と透明導電層12とが剥離しないように、かつ、透明導電層12と金属層13とが剥離しないように、仮支持体14を金属層13から剥離することが可能である、転写フィルム10。 (もっと読む)


【課題】高密度で均一なプラズマが生成される誘導結合プラズマ装置を提供する。
【解決手段】プロセス・チャンバに電気エネルギを結合して該プロセス・チャンバ内でプロセス・ガスからプラズマを発生させるための要素10であって、要素10は、長さ方向に沿って順次配置された多数のコイル・ターン32を有する単一のコイルで構成される導電性要素10であり、コイル・ターンの少なくとも一つ34aは、プラズマ処理システムの誘電体ウインドウにほぼ平行な第1平面36に配向され、コイル・ターン32の少なくとも一つ34bは、第1平面36と角度をなす第2平面38に配向されている。 (もっと読む)


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