【課題】メンテナンスをする必要が少なく、被蒸着材に蒸発材料の良好な膜を形成することができる真空蒸着装置を提供することにある。
【解決手段】真空チャンバと、真空チャンバ内に配置され、蒸発材料を加熱し蒸発させる蒸発源と、蒸発源に対向して配置され、被蒸着材を保持する保持機構と、蒸発源と保持機構との間に配置され、非成膜時に被蒸着材に前記蒸発材料が付着することを防止するシャッタ部と、シャッタ部を加熱する加熱機構を有する構成とすることで、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】アルカリハライド系の蛍光体層を真空蒸着するに際し、基板や蛍光体層の変質を防止でき、かつ、成膜材料の利用効率が高い真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】蒸発源と基板との間に成膜材料の蒸気を反射するための発熱体を設け、かつ、この発熱体の温度を成膜材料の融点未満で、成膜材料の融点−２００℃以上とすることにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】放射線検出器を高い電子輸送性を維持したまま、正孔輸送性を大きく向上することができるものとする。
【解決手段】記録用光導電層の両側に電極が設けられ、該電極間に所定のバイアス電圧を印加した状態で、放射線の照射を受けることにより前記記録用光導電層内部に発生した電荷を電気信号として検出する放射線検出器において、記録用光導電層に１．９５±０．０２の配位数を有するアモルファスセレンを用いる。 （もっと読む）

【課題】 ＩｎＰ基板上のＧａＩｎＮＡｓＳｂの表面平滑性が良好で、結晶欠陥密度の低い半導体積層構造の半導体ウエハ、その製造方法および半導体素子を提供する。
【解決手段】 ＩｎＰ基板１をＭＢＥ装置の基板取付部に取り付ける工程と、ＩｎＰ基板上に該ＩｎＰ基板との格子定数差が−０．５％以上＋０．５％以下の範囲のＧａ_１−ｘＩｎ_ｘＮ_ｙＳｂ_zＡｓ_１−ｙ（０．４≦ｘ≦０．８、０＜ｙ≦０．２、０≦ｚ≦０．１）を、パイロメータで測定の基板表面温度４９０℃超え５３０℃以下の状態で膜厚０．５μｍ以上に成長させる工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダ内における温度の均一性を保持しつつ、基板ホルダ表面への成膜材料の付着（蒸着）を実質的に防止可能とする真空蒸着装置を提供すること。
【解決手段】基板に成膜材料を真空蒸着させて膜を形成する真空蒸着装置であって、前記基板を保持する基板ホルダを、基板保持部と蒸着領域規制部材（マスク）とから構成し、前記基板保持部と蒸着領域規制部材（マスク）とを異なる材料から構成するとともに、前記基板保持部を熱伝導率１００Ｗ／ｍ・Ｋ以上、かつ比重４．０×１０^３ｋｇ／ｍ^３以下の材料で、前記蒸着領域規制部材（マスク）を融点１３００℃以上の材料でそれぞれ構成してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造後、ＴＦＴ基板側と対向基板側とで水酸基の密度が異なってしまった場合におけるイオンの偏りにより発生する液晶装置におけるフリッカや焼き付き等の表示不良を確実に防止することができるとともに、液晶に対し所望のプレチルト角が得られる無機配向膜を形成することができる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０に、画素電極９、対向電極２１をそれぞれ形成するステップＳ１と、ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０を、還元性雰囲気下で加熱するステップＳ２と、還元性雰囲気下で加熱しながら、各電極９、２１上に、無機配向膜１６、２６をそれぞれ形成するステップＳ３と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】チタンなどの金属膜中にハイドロキシアパタイト粒子が分散されてなるハイドロキシアパタイト分散金属膜を提供する。
【解決手段】金属膜とハイドロキシアパタイト粒子を含有するハイドロキシアパタイト粒子分散金属膜であって、金属膜２と、金属膜２中に分散された、ハイドロキシアパタイト粒子３とを有する膜であって、ハイドロキシアパタイト粒子と、不活性ガス雰囲気下で金属蒸発源の加熱により生成された金属膜となる金属粒子とを混合し、超音速フリージェットの気流に乗せて真空チャンバー中に噴出して、真空チャンバー中に配置した基板上に物理蒸着させて形成する。 （もっと読む）

【課題】高品質の有機物／無機物薄膜を製造して商用化することができる有機物／無機物複合薄膜の蒸着方法及び蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る時間分割型有機物／無機物複合薄膜の蒸着方法および蒸着装置は、有機物／無機物材料が含有されているソースタンクと、これを活性化させる熱開始剤が含有されている触媒ソースタンクとを各々装着することによって、大面積の基板上に有機物／無機物複合薄膜を蒸着する時、厚さを正確に調節することができ、蒸着を均一に行うことができる。また、１つ以上の有機物／無機物複合薄膜を蒸着する場合にも、厚さ及び組成を精密に調節することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の成膜領域に非成膜部分が発生するのを回避することができる成膜基板の製造方法及び成膜基板の製造装置を提供すること。
【解決手段】基板１０のうち成膜粒子の照射方向に対する基板保持部材４の影Ｓがこの非成膜領域１０ｂに重なると共に成膜領域１０ａには重ならないように基板保持部材４を配置して当該基板保持部材４によって基板の非成膜領域１０ｂを保持した状態で成膜粒子を照射するので、成膜粒子の照射時に、基板１０の成膜領域１０ａが基板保持部材４の影になるのを防止することができ、成膜粒子が基板保持部材４によって遮られるのを回避することができる。これにより、基板の成膜領域１０ａに非成膜部分が発生するのを回避することができる。 （もっと読む）

【課題】発光素子（ＯＬＥＤ素子）、薄膜センサ、およびエバネッセント導波路センサなどのデバイスの寿命を延ばすために、デバイス中への酸素および水分の浸透を防ぐ。
【解決手段】リン酸スズ低液相線温度無機材料を、デバイスの少なくとも一部分の上に堆積させて、堆積低液相線温度無機材料を形成する（１３０）。この堆積低液相線温度無機材料を、実質的に酸素と水分を含まない環境中で熱処理して、気密シールを形成する（１４０）。低液相線温度無機材料を堆積させる工程は、タングステンを含む抵抗加熱素子の使用を含む。 （もっと読む）

【課題】オーステナイト組織を有するステンレス鋼からなる母材を加工後、窒化処理を施しても母材と同程度の耐食性を示す基材をもつ被覆部材およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】オーステナイト組織を有するステンレス鋼からなる母材を加工した加工材の表層部を窒化してなり、所定の条件の自然浸漬電位測定で−２００ｍＶより貴の自然浸漬電位を示す基材と、該表層部の表面の少なくとも一部に被覆された無機被膜と、を備える。基材は、母材を加工することで加工誘起マルテンサイトが生成した加工材から加工誘起マルテンサイトを減少させる工程、あるいは、母材をステンレス鋼のＭｄ３０よりも３０℃以上高い温度で温間加工または熱間加工して加工材とする工程を経て、該加工材に窒化処理を行い窒化層を形成することで得られる。 （もっと読む）

【課題】基板に向かって噴射されるエアロゾルの濃度を容易に制御できる成膜装置を提供することにある。
【解決手段】混合部１０において材料粒子Ｍをこの材料粒子Ｍよりも粒径の大きいコア粒子Ｃに付着させ、これをエアロゾル発生槽４０まで移送した後、衝突網４１に衝突させてその衝撃力により材料粒子Ｍをコア粒子Ｃから離脱させる。そして、離脱した材料粒子Ｍをエアロゾル発生槽４０においてキャリアガスに分散してエアロゾルを発生させる。ある程度大きな粒径をもつコア粒子Ｃは、成膜に用いられる微細な材料粒子Ｍと比較して系内での移送量の制御が容易であり、また詰まりも引き起こしにくいから、コア粒子Ｃの移送量を適切に制御することにより、エアロゾル発生槽４０への材料粒子Ｍの供給量を制御し、ひいては、エアロゾル濃度を安定化することができる。 （もっと読む）

【課題】基板が膨張又は収縮した場合においても蒸着すべき部分に精度良く蒸着を行うことができる蒸着方法を提供する。
【解決手段】開口部を有するマスクを用いて、基板に有機物又は無機物の蒸着を行う蒸着方法において、前記マスクの開口部を介して前記基板に前記有機物又は前記無機物の蒸着を行う際に、前記基板の前記マスクに対する相対的な膨張・収縮に応じて、前記マスクと前記基板との間との距離を調整することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、一般的なレベルで、大きい表面積を備える金属製品をコーティングするための方法に関する。本発明はまた、この方法により製造された、コーティングされた金属製品にも関する。このコーティングは、レーザー光線を反射するための少なくとも１つのミラーを備える回転光学スキャナを用いてパルス状レーザー光線が走査される超短パルスレーザー堆積を用いて実施される。本発明は、いくつかの工業的にかつ品質的に有利な効果（例えば、高コーティング生産速度、優れたコーティング特性および全体的な低製造コスト）を有する。 （もっと読む）

【課題】サブミクロンオーダーで微細化され、かつ、径が均一な貫通微細孔を有し、さらに、基板がなくても構造を維持することが可能な多孔質金属箔およびその製造方法を提供する。
【解決手段】スパッタリング法または真空蒸着法により、金属と、該金属と相溶しない異相成分とが分散してなる薄膜を、前記異相成分の体積分率が２０〜６５体積％、厚さが１μｍ以上となるように、前記金属と相溶しない材質からなる基板上に形成する。得られた薄膜を熱処理して、該薄膜中の前記金属および前記異相成分の粒度を調整し、その後、前記基板および前記異相成分を選択的に溶解除去して多孔質金属箔を得る。得られる多孔質金属箔に含まれる微細孔の一部または全部が該金属箔を上下に貫通しており、また、該微細孔の直径は０．０１〜１μｍである。 （もっと読む）

【課題】食品,日用品,医薬品などの包装分野において、また電子機器関連部材などの分野において、包装材料としての通常の加工が施されてもガスバリア性が劣化しない、特に高いガスバリア性が必要とされる場合に、好適に用いられる透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】本発明は、透明なプラスチックフィルムからなる基材層１の表面に、厚さ５〜３００nmの酸化アルミニウム蒸着薄膜層２と、厚さ１〜５nmのアルミニウム蒸着薄膜層３と、重合しうるアクリル系のモノマーからなる又はこのモノマーとオリゴマーとの混合物からなる未硬化のフラッシュ蒸着被膜層を、紫外線又は電子線を照射して硬化させてなる、厚さ０.０２〜２０μmのガスバリア性被膜層４とを、順次積層したことを特徴とするガスバリア性積層フィルムである。 （もっと読む）

【課題】蒸着率安定化到達時間を最小化して蒸着効率を高めてノズルの凝縮現象を防止し、精緻な温度制御が可能になるようにした無機蒸着源及びこれの加熱源制御方法を提供する。
【解決手段】蒸着チャンバ内に配置されて含有された金属または無機物質を蒸発させるためのるつぼと、前記るつぼに熱を供給するための加熱源を含む加熱部と、前記加熱部から放出される熱を遮蔽するためのハウジングと、前記るつぼを安着させる外壁と、
前記るつぼから蒸発された物質を噴射するためのノズル部を具備する無機蒸着源において、前記加熱部は、前記るつぼの上部及び下部にそれぞれ位置される上部加熱部及び下部加熱部を有し、前記上部加熱部に電力を供給するための第１電力源及び前記下部加熱部に電力を供給するための第２電力源が設けられて構成される。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着装置において生産性を向上させる。
【解決手段】真空蒸着装置１０は、ターゲットチャンバ１００、プロセスチャンバ２００及び飛行チャンバ３００を備える。各チャンバは相互に独立して真空を維持可能に構成されており、ターゲット１１０から発生する蒸発物質１１０ａは、各チャンバ内の空間を介して、プロセスチャンバ２００内で治具９００により回動可能に保持された基板２１０に蒸着される。この際、蒸発物質１１０ａは、スリット部２２１が形成された遮蔽板２２０によって基板２１０への到達が制限される。スリット部２２１は、治具９００が回動することによって生じる基板２１０上の角速度の相違に対応付けられ、角速度が大きい領域に対応する箇所程大きい開口面積を有しており、蒸着膜の膜特性が良好に制御される。 （もっと読む）

【課題】 真空蒸着装置において生産性を向上させる。
【解決手段】 真空蒸着装置１０は、ターゲットチャンバ１００、プロセスチャンバ２００及び飛行チャンバ３００を備える。ターゲットチャンバ１００内の空間１０１に設置された複数のターゲット１１０のうち選択された一のターゲットは、電子ビーム照射系１２０によって照射される電子ビームにより蒸発し、飛行チャンバ３００内の空間３０１を介してプロセスチャンバ２００内の空間２０１に到達し、基板２１０に蒸着される。この際、電子ビーム照射系１２０は、電子ビーム移動系１３０の作用により、選択された一のターゲットに対応する位置まで移動する。従って、複数のターゲットに対し、電子ビーム照射手段１２０が共有される。 （もっと読む）

【課題】高速化、洗浄温度の低下、極薄マスクの洗浄の質向上、マスクの初期形状の維持、および時間の短縮化による生産性の向上を達成する、ＯＬＥＤ（有機発光ダイオード）ディスプレイの製造工程で汚染されたシャドウマスクの洗浄方法および装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ１内においてイオン源２によりイオンビームを生成するステップと、チャンバ１内に、イオン源２の放射面３と対向させてマスク４を配置するステップとを含み、マスク４を配置した冷却ホルダ７を真空チャンバ１内に配置して、イオン源２の放射面３に面した、マスクの被処理面５を、リボンイオンビームを集束させることによりスキャンし、単一のイオンビームをこの面上に通過させている間にマスク面の要素が受け取るエネルギー線量が最大許容過熱に相当する熱量を超過しないように、スキャニングの速度を選択し、また、酸素または酸素との混合物をイオン生成ガスとして使用する。 （もっと読む）