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Fターム[4K029BA31]の内容

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化合物 (8,330)

Fターム[4K029BA31]に分類される特許

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【課題】高速化、洗浄温度の低下、極薄マスクの洗浄の質向上、マスクの初期形状の維持、および時間の短縮化による生産性の向上を達成する、OLED(有機発光ダイオード)ディスプレイの製造工程で汚染されたシャドウマスクの洗浄方法および装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ1内においてイオン源2によりイオンビームを生成するステップと、チャンバ1内に、イオン源2の放射面3と対向させてマスク4を配置するステップとを含み、マスク4を配置した冷却ホルダ7を真空チャンバ1内に配置して、イオン源2の放射面3に面した、マスクの被処理面5を、リボンイオンビームを集束させることによりスキャンし、単一のイオンビームをこの面上に通過させている間にマスク面の要素が受け取るエネルギー線量が最大許容過熱に相当する熱量を超過しないように、スキャニングの速度を選択し、また、酸素または酸素との混合物をイオン生成ガスとして使用する。 (もっと読む)


【課題】蒸着対象が大型基板であっても単純な構成で無機配向膜を効率よく形成する液晶配向膜用真空蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】排気手段を有する真空槽及び真空槽内部の蒸着源を備えた液晶配向膜用真空蒸着装置において、蒸着源の鉛直線を中心として水平に配置されたスリットであって蒸着材料が通過するための複数の開口が放射状に設けられたスリット、およびスリットを介して蒸着源に対向する位置に配置され鉛直線を中心として基板を円周上に配列して保持する基板保持手段であって基板上の任意の点と蒸着源とを結ぶ直線と基板の垂線とのなす入射角を所定の角度に調整可能な基板保持手段を備え、鉛直線を中心に基板およびスリットが相対的に回転可能であり、スリットを通過した蒸着材料によって基板が斜方蒸着されて配向膜が形成されるように構成した。 (もっと読む)


【課題】 微細加工技術の進展に対応して、将来の量子ドットによる集積回路技術にまで
継続発展せしめる基盤となるウエハ技術の実現。
【解決手段】 固体材料を気相化して生成された原子群を特定空間領域5に閉じ込め、気
相原子同士の衝突による結合で直径5nm以下の寸法のクラスター群6を形成せしめ、形
成されたクラスター群6を該特定空間領域5から流出せしめ、クラスター内原子当たりの
運動エネルギーが該原子の持つ原子間結合を破壊するエネルギー以下になる速度で基板7
上に散布し、基板7上に均一なクラスター膜9を形成し、クラスター形成からクラスター
膜9形成の過程において個々のクラスター間に電子的障壁を形成せしめ、基板上の任意の
場所にナノクラスター集合体を活用した電子デバイスを形成できる集積電子装置用ナノク
ラスター基板を提供する。 (もっと読む)


多層被膜を基板の上に堆積するツール。1つの構成では、本ツールは、圧力または温度が制御された環境の少なくとも一つの下で動作するインライン有機材料堆積ステーションを含む。別の構成では、それはさらに、インライン式およびクラスタツールの両方の特徴構造を組み込む複合設計である。この後者の構成では、堆積ステーションの少なくとも1つが無機層を堆積するように構成され、他方で、少なくとも1つの他の堆積ステーションが有機層を堆積するように構成される。本ツールは特に、多層被膜を個別基板の上に堆積することばかりでなく、フレキシブル基板の上に配置された環境に敏感なデバイスをカプセル封じすることにも適切である。安全システムが、本ツールに対する有機材料の分配を監視するために含まれ得る。
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【課題】蒸着装置内にモニタ基板を設置することなく蛍光発光特性の測定を行い、所望の発光特性の蛍光体を成膜することを可能とする蒸着システム及び蒸着方法を提供する。
【解決手段】蒸着システム1に、基板ホルダ7に保持された基板6と、蒸発源10,11と、真空容器5の側面に形成された観察窓と、蒸発源10,11から蒸発して真空容器5の内部に付着した蛍光体に励起光を照射する励起用光源19a〜19cと、発光光を受光して光電変換する受光センサ20a〜20cとを備えた蒸着装置2と、A/D変換装置3と、ネットワークを介してA/D変換装置3から受信したデジタルデータに基づき、真空容器5の内部に付着した蛍光体の発光特性に関する測定値が蒸着装置2の基板6において所定の発光特性を有する蛍光体層を得るための目標値となるように蒸着装置2の各構成部分を制御する制御装置4と、を設ける。 (もっと読む)


【課題】本発明は、有機電界発光素子製造に使われる基板上に複数の薄膜を蒸着する装置に関する。
【解決手段】本装置は、マスク付着チャンバ、蒸着チャンバ、及びマスク回収チャンバを有する工程チャンバを有する。各々のチャンバ内の上部には移送ガイドが配置され、基板を支持する基板支持体は、蒸着チャンバ内で、工程実行時、そして工程チャンバ間の移動時、移送ガイドに沿って水平移動する。本発明の装置によると、工程にかかる時間を縮めることができ、設備面積が減る。また、一つまたは複数個のチャンバ単位でグループ付けられ、各グループ別の内部が他のグループの内部と隔離可能になるように、各グループ別の境界に位置する開口を開閉するゲートバルブが設けられる。これにより、特定グループに属するチャンバの維持補修時、他のグループに属するチャンバの内部は、継続的に真空で維持することができる。 (もっと読む)


【課題】背景技術による内包フラーレンの製造方法では、真空容器中で堆積基板に直流のバイアス電圧を印加して内包原子からなるイオンを含むプラズマを堆積基板に向けて照射し、同時にフラーレン蒸気を堆積基板に向けて噴射していた。そのため、堆積時間が長くなると堆積膜がイオンの電荷によりチャージアップし、堆積膜の剥離が起きるという問題があった。
【解決手段】堆積基板に正と負のバイアス電圧を交互に印加することにした。イオンに加速エネルギーを与える状態と堆積膜のチャージを中和する状態を交互に繰り返すことにより、堆積膜に過度のチャージが蓄積しないので、堆積膜の剥離を防止できる。 (もっと読む)


白熱灯および蛍光灯の代用品としての発光ダイオードなどのためにダイヤモンド基板上に窒化ガリウムデバイスを形成する。一つの実施形態として、少なくとも2つの方法でダイヤモンド上に窒化ガリウムダイオード(もしくは他のデバイス)を形成する。第1の方法は、ダイヤモンド上に窒化ガリウムを成長させ、その窒化ガリウム層にデバイスを設けることを含んでいる。第2の方法は、ダイヤモンド上に窒化ガリウム(デバイスもしくはフィルム)を接合し、接合した窒化ガリウム上にデバイスを設けることをともなっている。これらのデバイスは、白熱光や蛍光よりもかなり効率がよく、他の技術よりも光密度もしくはエネルギー密度がかなり高い。同様の方法および同様の構造により他の窒化ガリウム半導体デバイスをつくることができる。 (もっと読む)


【課題】放射線像変換パネルを蒸着で作製するときに突沸(スプラッシュ)による画像欠陥がない輝尽性蛍光体プレートを作製することを可能とする放射線像変換パネルの製造方法および該パネルの製造装置を提供する。
【解決手段】内部に基板を備えた真空チャンバーと、前記基板に対向する開口部を有し、蒸着原料を収容するボート、前記ボートを加熱する加熱装置とを備えた蒸着装置を用い、気相堆積法により前記基板上に輝尽性蛍光体層を成長させる。前記ボート5は、該ボートの加熱により発生し、該ボート中に収容された蒸着原料11の表面から前記基板に向けて直線的に飛行する蒸着原料粒子をカットする仕切板9を備える。 (もっと読む)


【課題】電気絶縁性シート、特にプラスチックフィルムの放電処理工程で発生する、電気絶縁性シートの片面または両面に存在する局所的な帯電を、後工程で欠陥が発生しないレベルまで除去できる放電処理装置ならびに放電処理方法を提供することである。また、特に比較的厚みの厚い電気絶縁性の発泡ポリエステルフィルムにおいて塗布はじきを発生することのないフィルムを提供することにある。
【解決手段】電気絶縁性シートを、表面に誘電体層を有する対極ロールと接触させながら、前記シート表面に放電雰囲気を曝露する放電処理方法にあって、前記対極ロールからの剥離点から見て搬送方向の上流側および下流側のシート表面を除電する上流側除電および下流側除電を行なう。 (もっと読む)


【課題】 立体形状や凹凸形状等の多様な表面形状を有する基材の全面に成膜ムラのない均一な膜厚の薄膜を容易にかつ無駄なく成膜することが可能なスパッタリング成膜装置を提供する。
【解決手段】 その内部を所定の真空状態で維持する真空チャンバ1と、該真空チャンバの内部で薄膜が成膜される基材を支持する板状の基材ホルダ8と、該基材ホルダと対向する前記真空チャンバ内の所定の位置に配置され前記成膜される薄膜の原料としての成膜物質を供給するターゲット部20aと、該ターゲット部からの前記成膜物質の供給量を制御するための制御部18a〜18d,19a〜19dとを備えるスパッタリング成膜装置100であって、前記ターゲット部が少なくとも3以上の板状のターゲット10a〜10dを有し、前記3以上のターゲットの各々の主面の法線が、前記基材ホルダの主面の法線に対して各々傾斜している。 (もっと読む)


【課題】 マスクや真空槽内部に付着した有機物や無機物を、真空槽を開放することなくイオンビームを照射することにより容易に除去できる極めて生産性に秀れた成膜装置を提供することである。
【解決手段】 マスク1が積層される基板2と、この基板2上に前記マスク1を介して成膜材料を付着させることで所望のパターンの薄膜を成膜する材料蒸発源3とが設けられる真空槽4を有する成膜装置であって、前記基板2に積層されるマスク1若しくは真空槽4内部にイオンビームを照射することで、このマスク1若しくは真空槽4内部に付着した有機物若しくは無機物を除去するイオンビーム源5を備え、前記真空槽4を大気開放することなくマスク1若しくは真空槽4内部にイオンビームを照射し得るように構成したものである。 (もっと読む)


真空チャンバーの壁および/またはチャンバー内に配置された構成要素を、層原材料の望ましくない堆積から保護する少なくとも1つの遮蔽装置が、本発明によるコーティング装置の真空チャンバー内に配置され、その中でガラス状のガラス−セラミックおよび/またはセラミック層が蒸気相からの蒸着によって基板に付与される。真空チャンバー内で温度が変化する場合には、遮蔽装置の膨張または収縮がガラス状のガラス−セラミックまたはセラミックの層または堆積の膨張または収縮に対応することが重要である。
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本発明は、クリーン・ルーム対応の、PVD法またはCVD法用のコーティング・システムに関する。前記システムは、ガラス様の層、ガラス・セラミック層および/またはセラミック層が堆積される、少なくとも1つの真空コーティング・チャンバを備える。真空コーティング・チャンバの第1の開口部が、真空排気可能な別個の真空ロック・チャンバ(ロード・ロック)を介してクリーン・ルームに接続される。この真空ロック・チャンバは、基板を真空コーティング・チャンバ内に供給し、基板を真空コーティング・チャンバから取り出すために使用される輸送手段を備える。真空コーティング・チャンバの第2の開口部が、真空コーティング・チャンバをクリーン・ルームから切り離されたグレイ・ルーム領域に接続する。
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【課題】 処理される流体に含まれる分子や粒子等が効率よく透過可能な無機多孔質膜を有する無機多孔質体、及びそのような多孔質体を製造する方法の提供。
【解決手段】 無機多孔質体は、多孔質基材表面に略膜厚方向に配向した複数の孔を有する無機多孔質膜を備える。その孔の平均孔径は好ましくは2〜200nmにある。この多孔質体を得る方法は、無機質材料を含むターゲット及び多孔質基材を用意する工程と、1〜200Paの雰囲気圧下にターゲット及び多孔質基材を配置し、周波数が5〜500Hzの範囲内にあるパルスレーザを該ターゲットに照射して該無機質材料の蒸気を発生させ、多孔質基材の表面上に該蒸気を堆積させて多孔質膜を形成する工程と、を含む。多孔質膜形成工程は、基材温度が1000℃以下に設定された略一定の温度条件下において行うことが好ましい。パルスレーザの照射回数は200000回以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【目的】(TiAl)N皮膜等耐酸化性の優れる硬質皮膜の耐摩耗性並びに密着性を犠牲にすること無く、更に高温状態での耐溶着性並びに硬質皮膜中への被加工物元素の拡散を改善し、切削加工の乾式化、高速化、高送り化に対応する硬質皮膜被覆工具を提供することが目的である。
【構成】金属成分がTiとBで構成される窒化物、炭窒化物、酸窒化物、酸炭窒化物のいずれかであるa層と、金属成分がAlとTiで構成される窒化物、炭窒化物、酸窒化物、酸炭窒化物のいずれかであるb層とが、それぞれ一層以上交互に被覆され、該a層のX線回折における(200)面の格子定数Aが、0.4200≦A≦0.4270nmの範囲にあり、かつ該a層のラマン分光分析においてc−BN並びにh−BNのピークが検出され、該c−BNのピーク強度をQ1、h−BNのピーク強度をQ2としたとき、ピーク強度比Q1/Q2<1.0であることを特徴とする硬質皮膜被覆工具。 (もっと読む)


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