Fターム[4K029BA31]の内容

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【課題】イオン電流量の低下を抑えつつ、原料ガスの使用量を低減させることが可能なイオン注入装置及びイオン注入方法を提供する。
【解決手段】イオン注入装置10は、イオンビ−ムを引き出すイオン源12と、半導体基板30(ターゲット)にイオン注入を行う注入室20と、注入室20へガスを導入するガス導入部11を備えている。そして、注入室20へ導入されるガスは、原料ガスと不活性ガスとの混合ガスであり、原料ガスのみを注入室20へ導入したときのイオン電流量が最大となる流量をXaとしたときに、混合ガスの総流量が0.7Xa以上、且つ、原料ガスの流量が0.4Xa以上(原料ガスがBFを主体として構成される場合は、原料ガスの流量が0.3Xa以上)となるように設定されている。 (もっと読む)


【課題】蒸発した材料の堆積の均一性、特にインジェクターの軸に沿っての均一性を改善することにある。
【解決手段】 本発明は、真空蒸着システムのためのインジェクターに関し、該インジェクターは、真空蒸発源からの蒸発した材料を受けるのに適したインジェクション・ダクト、および蒸発した材料を真空蒸着室内に放射するための複数のノズルを備えたディフューザーを備えており、各ノズルは、前記インジェクション・ダクトを前記蒸着室に連結するのに適したチャンネルを備えている。本発明によれば、前記ディフューザーは、空間的に変化があるノズル配置を有している。本発明はまた、インジェクターを較正する方法、インジェクターのディフューザーを製造する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】 規則化温度の低い膜を成膜することができると共にパーティクルの発生が抑制可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットが、一般式:{(FePt100−x(100−y)(100−z)、ここでAがAuおよびCuの少なくとも一方からなる金属であり、原子比により30≦x≦80、1≦y≦30、3≦z≦63で表される組成を有した焼結体からなる。また、このスパッタリングターゲットの製造方法は、AuPt合金粉およびCuPt合金粉の少なくとも一方と、AgPt合金粉と、FePt合金粉と、Pt粉と、グラファイト粉またはカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。 (もっと読む)


【課題】様々な材料からなる基材表面を改質することができる表面改質方法及び装置を提供する。
【解決手段】セラミックスから溶出された無機材料を含む粒子が生成された処理溶液3を電解して粒子を帯電させた後、基材1表面に付与して乾燥させることで無機材料を固着させる。無機材料が固着した基材1表面は、親水性、防汚染性、反射防止特性といった様々な特性を備えるように改質処理される。例えば、ホウ酸シリカ水を電解してステンレス板の表面に電着させてシリカ等の無機材料を固着させることで、親水性及び防汚染性を有するように改質処理することができる。 (もっと読む)


【課題】CBD成膜装置を、CBD溶液に溶解してしまうような部分を含む基板であっても基板を溶解させることなくCBD成膜を実施可能なものとする。
【解決手段】CBD成膜装置1を、長尺基板2を密着支持するドラム3と、長尺基板2を密着支持するドラムの一部を浸漬するCBD反応液4で満たされた反応槽5と、ドラム3に密着支持された長尺基板2の短手方向端部と、ドラム3のうち長尺基板2が密着しない部分とをオーバーラップしてCBD反応液4から保護する保護部材6と、ドラム3の周速に合わせてドラム3に密着させた長尺基板2と保護部材6をCBD反応液中で共走行させる駆動部とを有するものとする。 (もっと読む)


【課題】 ターゲットから発生した活性粒子を効率良く前駆体に到達させることができるレーザアブレーション装置を提供する。
【解決手段】 レーザアブレーション装置1では、活性粒子Aを進入させる粒子進入口11が設けられた包囲部材8が、チャンバ2内において前駆体P、支持台6及びヒータ7を包囲している。これにより、ターゲットTから発生した活性粒子Aがチャンバ2の内面に付着しても、その粒子が、ヒータ7の熱や、加熱された前駆体P及び支持台6からの輻射熱によって、再蒸発することが抑制される。さらに、当該熱によってターゲットTが蒸発することも抑制される。そして、再蒸発によって不活性粒子が発生したとしても、包囲部材8によって遮られて、その不活性粒子が前駆体Pに到達し難くなる。 (もっと読む)


【課題】成膜時間の短縮化と連続成膜が可能な蒸着装置及び蒸着方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る蒸着装置1は、真空チャンバ2と、インデックステーブル30(回転台)と、複数の蒸発源31と、回動機構32と、第1及び第2の加熱機構33、34とを具備する。回転台は、回動機構によって回動されることで、回転台上の複数の蒸発源を予備加熱位置P1と成膜位置P2とに順次移動させる。第1の加熱機構は、成膜位置に属する蒸発源に収容された蒸着材料を加熱する。第2の加熱機構は、予備加熱位置に属する蒸発源に収容された蒸着材料を加熱する。各蒸発源は、予備加熱位置から成膜位置に移動させられる。成膜位置は、回転台の回動方向から見て、予備加熱位置の下流側に隣接して配置される。予備加熱位置で加熱された蒸発材料は、その温度が保持されたまま、成膜位置へ移動させられるので、蒸発に要する時間を短くすることができる。 (もっと読む)


本発明は、1つには、半導体及びマイクロエレクトロニクス製造で使用されるイオン注入装置のイオン源構成要素を洗浄するための方法に関する。イオン源構成要素は、イオン化チャンバと、イオン化チャンバ内に含まれる1つ又は複数の構成要素とを含む。イオン化チャンバの内面、及び/又はイオン化チャンバ内に含まれる1つ又は複数の構成要素には、例えばカルボランC1012といったドーパント・ガス中に含有される元素の少なくともいくらかの堆積物が付着している。この方法は、洗浄ガスをイオン化チャンバに導入するステップと、イオン化チャンバの内面から及び/又はイオン化チャンバ内に含まれる1つ又は複数の構成要素から堆積物の少なくとも一部を除去するのに十分な条件下で洗浄ガスを堆積物と反応させるステップとを含む。洗浄ガスは、Fと、希ガス及び/又は窒素から選択される1つ又は複数の不活性ガスと、任意選択でのOとの混合物、或いは酸素/フッ素含有ガスと、希ガス及び/又は窒素から選択される1つ又は複数の不活性ガスとの混合物である。堆積物は、イオン注入装置の正常な動作に悪影響を及ぼし、ダウンタイムを頻繁にもたらし、ツール稼働時間を減少させる。
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蒸着源、処理ドラム、駆動ローラー、およびシャドウマスクを備える、連続ロールツーロール蒸気ベース蒸着プロセスにおいてパターン形成コーティングをOLED基材に施すための装置が形成され、シャドウマスクは、基材上へのコーティングの蒸着を選択的に妨げるマスクライン特徴体を備える。コーティングを施すための方法も提示される。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、流れるワーキングガスを供給しながらアーク放電によって束縛されたプラズマビームを生成させるための、前記ワーキングガスの流れの中で互いに距離をあけて配置された2つの電極及びこれらの2つの電極間に電圧を発生させる電圧源を有するビーム発生器に関する。
【解決手段】
前記電圧源は、アーク放電のための点弧電圧とパルス周波数とを有する電圧パルスを生成し、この電圧パルスは、前後して続く2つの電圧インパルス間ごとにアークを消弧することができる。
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本発明の教示内容は、OLEDや他の種類のディスプレイ装置の一部を成す1以上の基材の上に、1以上の材料(例えば、1種以上の固体など、1以上の薄膜)を積層するための装置および方法に関する。いくつかの実施の形態での開示内容は、1以上の基材の上にインクを積層するための装置および方法に関する。こうした装置には、例えば、インクを格納する1以上のチャンバと、1以上のチャンバ内にあってインクの液滴を噴射するように構成された複数の開口部と、例えば矩形配列の形を取る微細孔配列を有する放出ノズルと、を有し、各微細孔は入口ポートと出口ポートと有し、放出ノズルはチャンバから開口部を介して入口ポートで複数のインク液滴を受け取り、出口ポートから放出する。インク液滴は、放出ノズルの入口ポート上に間隔をあけて定められた固有の位置で受け取られる。いくつかの実施の形態では、複数(例えば3つ)の開口部を有する単一の液体インク格納チャンバが、複数の粒子が懸濁した液体の状態のインクを受け取り、インク液滴はチャンバからほぼ同時に、放出ノズル上の間隔をおいた別々の位置に向けて放出され、放出ノズルはキャリア液を蒸発させてから、固体の粒子を1以上の基材に積層する。 (もっと読む)


【課題】クリーニングガスとしてフッ素系ガスを使用することにより、処理容器自体や被処理体を保持する保持手段にダメージを与えることなく不要な高分子薄膜のみを選択的に且つ効率的に除去することが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】被処理体Wの表面に高分子薄膜を形成する成膜装置において、被処理体を収容する処理容器4と、処理容器内で被処理体を保持する保持手段6と、処理容器内を真空引きする真空排気系30と、処理容器内へ高分子薄膜の複数の原料ガスを供給するガス供給手段20と、処理容器内へクリーニングガスとしてフッ素ガスを供給するクリーニングガス供給手段26と、処理容器を加熱する容器加熱手段14とを備える。これにより、処理容器内をクリーニング処理するに際して、クリーニングガスとしてフッ素系ガスを使用する。 (もっと読む)


【課題】所定の有機膜と無機膜とを有する機能性フィルムの製造において、目的とする性能を有する機能性フィルムを安定して製造することを可能にする。
【解決手段】基板の表面に有機膜を成膜する有機成膜装置と、真空成膜法によって無機膜を成膜する無機成膜装置とを有し、かつ、無機成膜装置は、成膜位置の上流に有機膜を押圧して平坦化する平坦化ローラを有し、その後、有機膜に接触することなく無機膜を成膜する構成を有することにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】繰返し膜を形成する場合であっても、膜質が高い膜を形成することができるとともに、フィルタに付着した異物を容易に除去できる真空蒸着装置および真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】本発明の真空蒸着装置は、真空容器内で蒸着により基板の表面に膜を形成するものであって、真空容器内を排気する真空排気手段と、真空容器内の上部に設けられ、基板を保持する基板保持手段と、この基板保持手段に対向して真空容器内の下部に設けられ、膜の成膜材料を加熱し、蒸発させる蒸発源と、この蒸発源の上方に設けられたフィルタ板とを有する。フィルタ板は、平板に複数の開口部が形成されている。 (もっと読む)


【課題】膜厚分布が良く、膜質が優れた膜を基板に形成することができ、しかも成膜材料の無駄を抑制できる真空蒸着装置および真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】本発明の真空蒸着方法は、真空容器内で複数の蒸発源を用いて蒸着により基板の表面に膜を形成するものである。蒸発源は上方に開口部を有し、内部に成膜材料が収納される加熱容器、この底部から所定の高さの位置の温度を測定する温度センサ、加熱容器を加熱する加熱部を備え、成膜材料を蒸発させるものである。基板に膜を形成するに際して、各蒸発源について、所定の温度に達した後からの温度センサにより測定された温度の平均値を求め、温度センサによる温度の測定値が、平均値に所定の温度差値を足した値以上になったとき、温度が達した蒸発源における成膜材料の蒸発を停止させる。 (もっと読む)


【課題】より高い電流密度を得ることを可能とすることにより、プロセスの高速化を図ることが可能なイオンガン及び成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明のイオンガン1は、スリット状の開口部11が形成された陰極2と、開口部11の幅方向に磁場を発生させる磁石3と、この磁場に対して略垂直方向に電界を生じさせるように陰極2の裏面から離間して配置された陽極4と、を備え、陰極2の表面の開口部11からイオンビームBが引き出されるもので、陽極4を構成する材料が強磁性材、または非磁性のステンレス鋼を熱処理により弱磁性材化した弱磁性材である。 (もっと読む)


【課題】ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜、特に垂直磁気記録媒体に適用される磁気記録膜を形成するための比透磁率の低い垂直磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性酸化物:0.5〜15モル%、Cr:4〜20モル%、Pt:5〜25モル%を含有し、残部:Coおよび不可避不純物からなる成分組成を有するスパッタリングターゲットであって、このスパッタリングターゲットはCo−Cr二元系合金相1の一部または全表面が薄い非磁性酸化物相2により包囲されている複合相3がPt相素地4中に均一分散している組織を有する。 (もっと読む)


【課題】効果的な修飾微粒子の形成方法の提供。
【解決手段】微粒子を単層固定させる基板表面に金を所定の厚さで蒸着する。一方、1-ethyl-3(3-dimethylaminopropyl)carbodiimidehydrochloride(通称EDC)、NaCl、あるいは、KCl等の微粒子間の静電反発力を抑制するための材料を利用した粒子固定液を作製し、これに微粒子を混合した粒子懸濁液として上記基板上に塗布することにより、金を所定の厚さで蒸着された基板表面に微粒子を単層固定させる。また、単層固定された微粒子表面に遷移金属、金属または半導体を蒸着させて修飾微粒子を形成する。基板から修飾微粒子剥離させるには、超音波洗浄装置等を利用して、基板に超音波を作用させて、剥離を促進する。修飾微粒子を生体機能分子によって修飾して生体物質の検査のための標識として利用する場合、修飾微粒子からの反射電子を利用する。 (もっと読む)


【課題】電波透過性および鏡面のような金属調光沢を有し、該金属調光沢が失われにくく、かつ低コストである電波透過性装飾部材を提供する。
【解決手段】該課題は、基体12と、該基体12上に設けられた、半導体物質からなる光反射層14とを有する電波透過性装飾部材10により解決され、光反射層14としては、半導体物質の物理的蒸着によって形成された蒸着膜であることが好ましい。 (もっと読む)


本発明は優れた耐久性及び信頼性の電気的接続を新空室(225)の壁(27)を通って形成するための電気的貫通接続構造(200)を提供する。電気的貫通接続構造(200)は、開口端(217)及び閉口端(218)を持つチューブ状部材を備える。少なくとも1つの導電体(201)が閉口端(217)を通って伸びており、閉口端(217)に真空密閉接合部(214)によって固定される。接合部(214)は、開口端(217)からの視野方向に含まれないように構成されている。このようにすることで、衝突物(220)及び直熱放射(221)が接合部(214)に直接当たることを防ぎ、問題を起こし得る接合部(214)の汚染にかかる時間を延ばす。 (もっと読む)


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