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Fターム[4K029BA32]の内容

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Fターム[4K029BA32]に分類される特許

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【課題】半導体膜の表面欠陥の発生を抑制する半導体膜蒸着装置および半導体膜蒸着方法を提供する。
【解決手段】
半導体原料を収容するるつぼ2と、るつぼ2と対向して基板5を支持する基板支持器6と、るつぼ2と基板5との間でるつぼ2の開口を覆って配置されるマスク4と、るつぼ2およびマスク4を加熱する加熱器3と、るつぼ2、基板支持器6、およびマスク4を収容する真空チャンバ7とを備える半導体膜蒸着装置。るつぼ2から飛散した半導体分子はマスク4内部を衝突しながら通過することで基板5上に表面欠陥が抑制された状態で成膜される。 (もっと読む)


【課題】被処理体の所定領域に注入された、N型領域を形成する元素のイオンを、アニール処理の前後において被処理体の内部に維持し、所望のキャリア濃度のN型領域を形成することを可能とする、半導体デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】減圧雰囲気とした真空チャンバ内に、シリコンからなる被処理体101を配して、該真空チャンバ内に導入した、N型領域106Nを形成する元素Xを含むガスをプラズマ励起し、励起された該元素Xのイオンを、被処理体101の所定領域に注入する前工程と、該元素Xが注入された被処理体101をアニール処理する後工程と、を含み、該前工程と該後工程との間に、該真空チャンバ内に導入した酸素元素を含むガスをプラズマ励起し、励起された該酸素元素のラジカルに、該被処理体101の所定領域を曝露する工程を、さらに備えてなることを特徴とする半導体デバイスの製造方法。 (もっと読む)



【課題】基板表面におけるSi等の材料から成る対象表面部のみに選択的に薄膜を形成するうえで、CVD法を用いることなく、簡便に基板上に選択的に膜を形成する選択的膜製造方法を提供する。
【解決手段】圧力10〜202kPa(76〜1520Torr)の水素及び希ガスの混合ガスを主体とする反応ガスが充填された反応室内に、比較的高温に保持した基板、及び、比較的低温に保持した、水素化物が揮発性であるターゲットを平行に配置し、基板とターゲットの間に放電を生起させることで、対象表面部上と、他の表面上との間での膜堆積速度の違いを利用して対象表面部上に選択的にターゲットの薄膜を形成する。希ガスとしてはHeやNeを好適に用いることができる。 (もっと読む)


本発明は、カルコゲンについて、特に100 nm〜10 mmの範囲内のカルコゲンの薄い層、またはこれらの材料の混合物を、平面基板上に適用するための非常に速くそして費用効率が高いコーティング方法およびまた、その方法を実施ために適した装置も提供することを意図する。これは、蒸着ヘッド(11)において流入側および流出側ガスカーテンを形成して輸送流路(6)を酸素の漏れないように密閉し、不活性ガスを輸送流路(6)の中に導入して大気酸素を置換し、基板(3)をプロセスチャンバー(1)の輸送流路(6)の中に導入し、源からのカルコゲン蒸気/搬送ガス混合物を、蒸着ヘッドの輸送流路(6)の中の基板(3)より上に導入しそしてPVDを用いて基板の上にセレン層を形成することによって達成される。
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【課題】1枚の基板内に複数個の有機EL素子を配した場合、基板の所定の領域に配された有機EL素子に所定の膜厚を成膜することが可能な、蒸着装置およびそれを用いて作製された有機EL素子を提供する。
【解決手段】蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板にマスクを用いて所望の形状に膜形成を行う蒸着装置において、前記基板およびマスクの蒸着源側に、膜形成を行いたい領域部分に開口を設けたシャッターマスクを配することを特徴とする蒸着装置、およびそれを用いて製造した有機EL素子を提供する。 (もっと読む)


【課題】蒸着材料蒸発装置による複数の蒸着材料からなる化合物の層の成膜において、均一な成分比を有する蒸着膜を形成する。
【解決手段】蒸着材料を加熱して蒸発させる蒸着材料蒸発装置において、異なる蒸着材料14、15をそれぞれ収容する複数の蒸着容器11a、11bと、これらの蒸着容器11a、11bに収容された蒸着材料14、15を加熱する加熱手段16と、この複数の蒸着容器11a、11b内で蒸発した蒸着材料14、15が共に通過して出て行く共通開口13とを備える。 (もっと読む)


【課題】大気開放状態における真空容器の内部の環境を改善することができる真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空成膜装置は、成膜処理ユニット3を収容し、密閉可能な真空容器1と、真空容器1内を真空にする真空排気系5と、前記真空容器1から気体を送出して、大気開放状態における真空容器1の内部を換気する排気ファン43と、排気ファン43および真空容器1の間を連通する第2配管41を開閉するバルブ45とを備えている。基板11に膜を形成する際は、バルブ45を閉止させることで、真空排気系5は真空容器1内を真空にすることができる。また、真空容器1が大気開放状態にあるときは、バルブ45を開放させるとともに、排気ファン43は真空容器1から気体を送出することで、真空容器1内を換気することができる。これにより、大気開放状態における真空容器1の内部の環境を改善することができる。 (もっと読む)


【課題】製造時や廃棄時における赤外線フィルタの取り扱いを容易にする。
【解決手段】赤外線フィルタ1は、赤外線を透過する基板2と、基板2表面上に交互に多層積層されたGe膜及びYF膜とを備える。これにより、多層膜構造を形成する際にZnSを使用することがないので、製造時や廃棄時における赤外線フィルタの取り扱いを容易にすることができる。 (もっと読む)


【課題】 コスト的に安価なシリコン基板を用いながらも、6〜12μm波長領域の全範囲に亘って高く、かつ、リップルのない平坦な透過特性を得ることができる赤外光用反射防止膜を提供する。
【解決手段】 Si基板1の一方の面に、Ge層2、ZnS層3、Ge層4、ZnS層5及びフッ化イットリウム(YF3 )層を前記Si基板1側から順に積層し、これら各層それぞれの光学膜厚を、1.79μm、2.50μm、0.93μm、6.00μm及び5.38μmに設定して6〜12μm付近の赤外波長領域で90%以上の透過特性となるように構成されている。
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【課題】
高級感があり、傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、耐蝕性に優れた、高級感のある銀特有の色調を有する白色装飾品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】
最外層として銀合金からなる被膜が乾式メッキ法により形成された装飾品であって、金属またはセラミックスからなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、該下地層の表面に形成された耐摩耗層、および該耐摩耗層の表面に形成された最外層から構成され、前記最外層が、厚み0.002〜0.1μmであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】所定以上の大きな排気能力による排気を必要とする高真空チャンバを含む複数の真空チャンバを備えた真空装置を低コストに構成する。
【解決手段】高真空チャンバ2を備えた真空装置1において、高真空チャンバ2に開閉自在のバルブ3、4を介してそれぞれ接続された少なくとも2つのバッファチャンバ5、6と、該バッファチャンバ5、6のそれぞれに、開閉自在のバルブ7、8を介して接続された真空チャンバ9、10と、バッファチャンバ5、6のそれぞれに接続された、該バッファチャンバ5、6内を排気する真空ポンプ11、12とを備え、適宜バルブ3、4、7、8を開閉させ、高真空チャンバ2を同時に2つの真空ポンプ11、12により排気を可能とするとともに、高真空チャンバを含む複数の真空チャンバを少数の真空ポンプにより適宜排気可能とする。 (もっと読む)


【課題】従来のITO電極に代わる、ITOの欠点を示さない電極の製造方法を提供する。
【解決手段】第1層が、ポリマーアニオン及び一般式(I):


[式中、Aはアルキレン基を表し、Rは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基等を表す。]で示される反復単位を有するポリチオフェン含む分散体を基材に塗布し、第2層が、有機正孔注入物質及びアニオンを第1層に塗布する少なくとも2層を有する電極の製造方法。 (もっと読む)


【課題】製造時や廃棄時における赤外線フィルタの取り扱いを容易にする。
【解決手段】赤外線フィルタ1は、赤外線を透過する基板2と、基板2表面上に交互に多層積層されたGe膜及びHfO膜とを備え、HfO膜は(111)面と(−111)面を主とする面方向に配向した結晶構造を有する。これにより、多層膜構造を形成する際にZnSを使用しないので、製造時や廃棄時における赤外線フィルタの取り扱いを容易にすることができる。また、HfO膜は(111)面と(−111)面を主とする面方向に配向した結晶構造を有するので、Ge膜とHfO膜の密着力が高まり、高強度の赤外線フィルタを提供することができる。 (もっと読む)


固体塊から固体元素のプラズマを生成する方法及び前記方法に使用されるプラズマソースを提供する。本発明の方法は、加速された粒子またはレーザーを内部でスパッタリングが遂行する第1チェンバー内の固体塊と衝突させて前記固体塊から固体原子を取り出すこと、前記固体原子を内部でプラズマ放電が遂行される第2チェンバーに移動させること、前記第2チェンバーに電圧を印加してプラズマ放電によって固体原子のプラズマを生成すること、及び前記固体原子のプラズマを、処理すべきターゲットに接触させることを含む。本発明は固体元素を含むガスを固体元素ソースとして使用する従来システムで発生する不純物とガスの毒性による問題点を解消する。
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