【課題】大面積基板に均一な膜厚の薄膜を形成する技術を提供する。
【解決手段】真空槽８内に配置された細長の放出装置３０の両端位置の第一、第二の接続口３８ａ、３８ｂに、第一、第二の蒸気生成装置２０ａ、２０ｂを接続し、第一、第二の蒸気生成装置２０ａ、２０ｂから、放出装置３０の両端位置に成膜材料の蒸気を供給する。放出装置３０の一端から他端に亘って、真空槽８内に蒸気が均一に放出される。第一、第二の蒸気生成装置２０ａ、２０ｂから放出装置３０に供給される蒸気の供給速度を個別に制御することで、膜厚が均一な薄膜を基板６の成膜面上に成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】熱による蒸着物質の変性を防止し、材料の利用効率を高めることができる蒸着源、それを備えた蒸着装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】蒸着物質を冷却しながら保存し、前記保存された蒸着物質を加熱しながら供給する第１及び第２蒸着源部と、前記第１及び第２蒸着源部に接続され、前記第１または第２蒸着源から供給される蒸着物質が移動する移送部と、前記移送部に接続され、前記移送部を経て供給される蒸着物質を噴出するノズル部と、を含むことを特徴とする蒸着源。 （もっと読む）

【課題】優れた耐候性及び耐摩耗性、耐擦傷性を有し、しかもシンプルで且つ低コストな工程によって量産可能な自動車用樹脂ガラスを提供する。
【解決手段】透明な樹脂基板１２の少なくとも一方の面上に積層形成されたハードコート層１４を、真空蒸着重合によって形成された有機高分子薄膜１６を含んで構成した。 （もっと読む）

【課題】膜厚分布の均一性の高い表示装置の作製方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る表示装置の作製方法は、基板１０１を蒸着室に搬送し、蒸着源１０４から薄膜材料を気化させ、前記薄膜材料を気化させている間、前記基板に対する前記蒸着源の位置を移動させることにより、前記基板上に薄膜を成膜することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理室１に２種類の原料モノマーガスを流入させ、基板Ｓの表面に高分子膜を形成する蒸着重合装置であって、組成分布及び膜厚分布の均一な高分子膜を形成でき且つ生産性に優れた装置を提供する。
【解決手段】基板Ｓに対向する処理室１の面に設けられるシャワープレート４と、シャワープレート４を挟んで処理室１に隣接するガス導入室５とを備える。ガス導入室５に、その内部空間を２種類の原料モノマーガスを個別に供給する２つのガス導入通路５１Ａ，５１Ｂに仕切る隔壁５２が設けられる。隔壁５２は、２つのガス導入通路５１Ａ，５１Ｂがシャワープレート４の板面に沿って所定ピッチで交互に並ぶように形成される。また、シャワープレート４に、各ガス導入通路５１Ａ，５１Ｂに沿わせて吹出し孔４１Ａ，４１Ｂが多数形成される。 （もっと読む）

【課題】 テンションをかけた状態でマスクフレームに固定された成膜マスクを用いて基板上に成膜を行う場合、成膜マスクと基板の各々の撓み形状の差により、マスクフレームの開口の四隅において成膜マスクと基板の間に隙間が生ずる。この隙間により、成膜パターンがぼけたり、成膜位置がずれたりする。
【解決手段】 マスクフレームの開口の四隅において、被成膜基板を成膜マスクに押し当てる押圧部材を有する押圧装置を用いる。 （もっと読む）

【課題】発光効率を改善することが可能な有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】画素電極を形成する工程と、第１有機材料及び前記第１有機材料よりも昇華する温度が高い第２有機材料を含む混合材料を供給する工程と、前記混合材料に含まれる前記第２有機材料が昇華する温度よりも５０℃以上高い温度で前記混合材料を加熱する工程と、昇華した前記混合材料を前記画素電極の上方の面に蒸着させる工程と、を具備したことを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】大型基板上に膜厚が均一で不純物の少ない薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ層が形成される基板１が蒸着室５内に垂直に設置され、基板１の上には、有機ＥＬ層を選択的に蒸着するためのファインメタルマスク４が配置されている。有機ＥＬ層の材料となる蒸発源８が蒸着室外に配置されている。ノズルが線状に配置した蒸発ヘッド３と蒸発源８とは軟らかい配管７によって接続している。蒸発ヘッド３を、ノズルの配置方向と直角方向に移動させることによって、基板１に有機ＥＬ層を蒸着する。蒸発ヘッド３と蒸発源９とを軟らかい配管７で接続することによって、蒸発ヘッド３のみを移動させることが可能になり、装置の機構を簡略化でき、また、可動機構から発生する不純物による有機ＥＬ層の汚染を防止することが出来る。 （もっと読む）

【課題】 屈曲しても優れたガスバリア性を維持することで長寿命を達成できる有機デバイスを提供すること。
【解決手段】 プラスチックフィルム基材上に、無機バリア層とポリマー層とが互いに隣接して配置された２層からなるユニットを１単位として、３〜５回繰り返し積層されてなるガスバリア性積層体を少なくとも１つ有するガスバリアフィルムにおいて、前記無機バリア層の少なくとも１層がＳｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、ＣｅおよびＴａから選択される酸化物の２種以上より構成され、前記２種以上の金属酸化物から構成される無機バリア層が、複数の金属ターゲットと酸素ガスを原料とし、プラズマを用いた反応性スパッタ方式で形成され、且つ前記ガスバリアフィルムの３８℃・相対湿度９０％における水蒸気透過率が０．００５ ｇ／ｍ²／ｄａｙ以下であり、かつ、２５℃でＩＰＣ規格での５０回繰り返し屈曲試験後のバリア性が０．００４ｇ／ｍ²ｄａｙ以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】防塵性能の高い光学物品を提供する。
【解決手段】基板１の上に複数層からなる無機薄膜２を有する防塵ガラス１０であって、無機薄膜２は、複数の酸化ケイ素層２Ａと、複数の金属酸化物の層２Ｂと、が積層され、金属酸化物は、ジルコニウム、タンタルまたはチタンのいずれかを含んだ金属酸化物であり、酸化ケイ素の層２Ａには、低密度の酸化ケイ素層と、この低密度の酸化ケイ素層より密度の高い高密度の酸化ケイ素層とがあり、無機薄膜２の最表層２Ｓは、低密度の酸化ケイ素層であり、無機薄膜２の最表層２Ｓの表面粗さは０．５５ｎｍ以上０．７０ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】無駄になる材料を少なくして蒸着効率を高め、さらに生産性の向上も可能にした蒸着装置を提供する。
【解決手段】被処理基板Ｗに蒸着材料を蒸着させる蒸着装置１である。蒸着室２内に配置されて蒸着材料を収容する蒸着容器４と、蒸着容器４の開口を覆う蓋部１１に設けられて、被処理基板Ｗに向けて収容した蒸着材料を飛散させる複数の口部１５と、蒸着容器４内の蒸着材料を加熱する加熱手段と、少なくとも複数の口部１５を、蒸着容器４の周方向に回転させる回転手段と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、基板やマスクの撓みを低減し高精度に蒸着できる、または搬送チャンバを小型化できる、あるいは駆動部等を大気側に配置することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し、生産性の高いまたは稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置またはその製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、真空チャンバ内での基板とマスクとのアライメントを前記基板または前記マスクを具備する垂下体として垂下した状態で行い、該基板に蒸着材料を蒸着する際に、前記垂下体上の接触部を移動させて前記垂下体を垂直にし真空チャンバ内に搬送し、前記位置合せ位置にセットし、前記垂下体の垂下体接触部と前記搬送する搬送手段の前記垂下体接触部との搬送接触部とを離反し、その後前記アライメントを行なうことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機高分子薄膜を、基体表面上に、高い成膜効率で、再現性良く且つ安定的に形成し得る技術を提供する。
【解決手段】真空状態の複数の蒸発源容器３２ａ，３２ｂ内で蒸発させた複数種類の原料モノマーを、真空状態の成膜室１０内に導入して、成膜室１０内に配置された基体１２の表面上で重合させることにより、基体１２の表面上に有機高分子薄膜を形成する真空蒸着重合操作を繰り返し行うに際して、毎回、原料モノマーの蒸発操作の開始時に、原料モノマーが、蒸発源容器３２ａ，３２ｂ内に液体状態で一定の量だけ存在するようにした。 （もっと読む）

【課題】ドライプロセスで作成した薄膜を紫外光照射して、加熱処理するだけで、近赤外光を吸収する薄膜をパターニングして固定化できる方法を提供する。
【解決手段】下記の式で表されるオリゴチオフェンの薄膜を固体基板上に真空蒸着により形成し、当該基板に紫外光を照射後、加熱処理することにより、固体基板上に近赤外光を吸収する薄膜のパターニングを形成する。


式中、Ｒ１，Ｒ２の一方はアンスリル基であり、他方はアンスリル基又はメチル基であり、ｎは１〜５の整数である。これにより、ドライプロセスで作成した薄膜を紫外光照射して加熱処理するだけで、近赤外光を吸収する薄膜を簡便にパターニング形成できる。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】 基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向して配され、第１方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、パターニングスリットは、それぞれ複数のサブスリットを備えることを特徴とする薄膜蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】樹脂フィルムに金属蒸着膜と蒸着重合膜とが積層形成された積層シートを低コストに且つ優れた作業性をもって有利に製造し得る技術を提供する。
【解決手段】排気パイプ２４と真空ポンプ２６によって真空状態とされる真空槽２２内に、巻出し及び巻取りローラ２８，３０と第一、第二、及び第三のローラ３２，３４，３６とを設置すると共に、第一のローラの周面上で、樹脂フィルムの一方の面上に、第一の金属薄膜を形成せしめる第一の金属蒸着手段と、第二のローラの周面上で、第一の金属薄膜上に、樹脂薄膜を形成せしめる蒸着重合手段と、第三のローラの周面上で、樹脂フィルムの他方の面上に、第二の金属薄膜を形成せしめる第二の金属蒸着手段とを更に設置して、製造装置２０を構成する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は高精彩に成膜できるまたは生産性あるいは稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置または有機ＥＬデバイス製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、真空蒸着チャンバの壁に設けられた真空隔離手段から前記マスクを搬出し、前記真空隔離手段を共有するマスク洗浄チャンバで前記基板に付着した前記蒸着材料の堆積物にレーザ光を照射し前記マスクをドライ洗浄し、洗浄後前記マスクを真空隔離手段を介して前記真空蒸着チャンバに戻し、前記蒸着を行なうことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】支持基板上に形成した昇華温度が異なる２種以上の成膜材料を含む材料層を、加熱処理により被成膜基板上に成膜する方法において、昇華温度の異なる２種以上の成膜材料が濃度勾配を生じることなく成膜されることを課題の一つとする。
【解決手段】基板の一方の面上に形成される吸収層と、吸収層上に形成され、第１の成膜材料、第２の成膜材料及び下記数式（１）を満たす高分子化合物を含む材料層とを有する第１の基板の一方の面と、第２の基板の被成膜面とを対向させて配置し、第１の基板の他方の面側から加熱処理をすることで、第２の基板の被成膜面に第１の成膜材料と第２の成膜材料とを含む層を形成する成膜方法。


（式（１）中、Ｓは、高分子化合物のガラス転移温度（℃）を示し、Ｔ_ａは、第１の成膜材料又は第２の成膜材料の昇華温度（℃）のうち高い温度（℃）を示す） （もっと読む）

【課題】成膜される膜の膜厚均一性に優れた成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】容器１３１と，容器１３１内を加熱するヒータ１３７と、容器１３１内に設けられ、液体状または固体状の成膜材料１３５がその内部に置かれ、気体状となった成膜材料を容器１３１内に供給する成膜材料供給部１３３と、容器１３１に設けられた開口部１３６と、被成膜体１１を開口部１３６の最外部よりも内側に位置させる回転ドラム１１０と、開口部１３６と連通する真空容器１０２と、真空容器１０２を排気する真空ポンプ１０３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】成膜中に基板を搬送しつつ、基板上に所望の被膜のパターンを形成する成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】並列状に配列した複数の孔部を有する、ライン状の蒸着源の前記孔部から蒸着材を飛散させながら、前記孔部に対向する基板およびマスク部材を前記孔部が配列する方向に対して略直交する方向に搬送し、前記基板の上に前記蒸着材を蒸着して薄膜を積層する成膜方法であって、前記蒸着源に隣接し、前記蒸着源からみて搬送により前記基板および前記マスク部材が移動する方向とは反対側に設けられた加熱手段を用いて、前記基板の被蒸着部分を予備加熱した後、前記被蒸着部分に前記蒸着材を蒸着することを特徴とする成膜方法が提供される。 （もっと読む）