本発明は、基板に積層膜を真空薄膜形成することによってウルトラバリア薄膜システムを製造する方法に関しており、積層膜は、平滑膜と透明セラミック膜からなる交互成膜システムとして形成されているが、少なくとも１つの平滑膜は、スパッタリングにより堆積された２つの透明セラミック膜間に含まれており、平滑膜の析出中、モノマーを真空化された成膜チャンバ内に入れ、該成膜チャンバ内でマグネトロンプラズマを作動する。 （もっと読む）

有機材料の薄い均一な層をコーティングできる熱物理蒸着源を提供する。ディスプレイを形成する際基板の表面に向かって有機材料の圧縮ペレットを気化する熱物理蒸着源は、各々圧縮ペレットを受け入れる複数の間隔の開いた通路を画定するハウジングと、ハウジングの間隔の開いた通路に対応する第１の複数の開口を備えたハウジングの上のカバープレートと、カバープレートの上に配置した電気ヒータ構造体とを含む。熱物理蒸着源はさらに、電気ヒータ構造体の上に配置したアパーチャプレートと、電気ヒータ構造体とアパーチャプレートとの間に位置する電気絶縁性スペーサ部材と、ペレットを気化し、材料の蒸気流出がカバープレート、ヒータ構造体、電気絶縁性スペーサ部材及びアパーチャプレートを通過して基板に向かうようにするのに十分な熱を発生する電流を電気ヒータ構造体に印加する回路とを含む。
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対象物の表面上に薄膜を堆積させるプラズマ薄膜堆積方法であって、１つまたは複数の不活性プラズマ発生ガスおよび前駆ガス中でプラズマを発生させ、このプラズマを処理表面上に噴射させる方法。１つまたは複数の前駆ガスは、少なくとも２つの成分、すなわち、飽和有機物質を含む第１の成分と、不飽和有機物質を含む第２の成分とを含み、第１の成分は、プラズマ・ゾーン内で実行されるプラズマ化学プロセスの後に単フリー結合を有する軽ラジカル源であり、第２の成分は、２つ以上のフリー結合を有する重ラジカル源である。

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本発明は、半導体表面、特にシリコンに分子を付着させるための新規手順を提供するものである。ポルフィリンおよびフェロセンを含む（しかし、これらに限定されない）分子が分子ベースの情報記憶のための魅力的な候補であることは、以前に示されてきた。この新規付着手順は、単純であり、短時間に完了させることができ、最少量の材料しか必要とせず、様々な分子官能基と両立でき、場合によっては従来にない付着モチーフを生じる。これらの特徴は、ハイブリッド分子／半導体情報記憶デバイスを作るために必要な加工段階への分子材料の組込みを非常に向上させる。
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有機材料を堆積する方法が提供される。有機材料が基板に堆積されるように、有機材料を搬送するキャリアガスは、そのキャリアガスの熱運動速度の少なくとも１０％である流速でノズルから噴出される。ある実施形態では、そのキャリアガスを囲う、ノズルと基板との間の領域における動態的圧力は、噴出中、少なくとも１Ｔｏｒｒであり、より好ましくは１０Ｔｏｒｒである。ある実施形態では、保護流体がキャリアガスの周囲に供給される。ある実施形態では、バックグラウンド圧力は、少なくとも約１０^−２Ｔｏｒｒであり、より好ましくは約０．１Ｔｏｒｒであり、より好ましくは約１Ｔｏｒｒであり、より好ましくは約１０Ｔｏｒｒであり、より好ましくは約１００Ｔｏｒｒであり、最も好ましくは約７６０Ｔｏｒｒである。
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非重合化合物と流体担体の混合物を得ることによって基板上に非重合化合物の薄膜をコーティングする方法。この混合物（１）は次いで、非重合化合物および流体担体の実質的に全部をガス状に転換するのに十分な内部温度を有する加熱された蒸発ボックス（７）の内部につぎ込まれる。非重合化合物と流体担体は次いで、蒸発ボックス内の出口スリット（８）を介して蒸発ボックスから取り出される。非重合化合物が凝縮する基板が、出口スリットに隣接して、真空状態に維持されている。基板（１０）は、たとえばウェブ・ローラ上を移動し、それによって非重合化合物の連続的なコーティングを基板にコーティングするのが可能になる。

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【課題】長方形枠の形態でマスク(1)を離脱可能に保持するための装置を提供する。
【解決手段】脚部(2,3)上にマスク周縁を把持する把持手段が、複数のバネ要素(4)を具備しマスク周縁(1')上の近接点を把持する。各バネ要素は枠の１つの脚部(2,3)に割り当てられ、板ばねで実施され、櫛形に互いに接続されている。各板ばねは、枠にマスクを搭載する搭載位置から共通の補助把持部材(5)を用いて把持位置まで移動させることができる。板バネ(4)の固定端部が櫛の横木(7)により形成され、補助押圧部材を形成する押圧片(5)により前記枠のリム部(2,3)の傾斜側面(8)に対して押し付けられる。 （もっと読む）

排気可能な内部堆積物のチャンバとの、使用のための材料供給源エバポレータであって、このチャンバ内で、蒸発された材料が、基材上に堆積する。このエバポレータは、付随ヒータを備えたコンテナを備え、このヒータは、コンテナ中に供給される蒸発可能な材料を加熱して、その蒸気を提供可能である。複数の排出口を有するマニホルドもまた、付随ヒータを有し、このヒータは、マニホルド中に提供された材料の蒸気を排出口を通して十分に蒸気の状態を維持するように、加熱可能であり、これらの排出開口部は、蒸気材料の較正した空間分布を提供するように選択されたパターンであり、このパターンは、固定位置の隣接する基材に対して層の形態での材料蒸気の堆積を生じる。従って、この層は、比較的均一な厚さを有する。
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本発明は、基材、第１層、および第２層を含む複合材料の調製方法であって、第１化合物を基材上に蒸着させ、それによって第１層を形成する第１蒸着ステップと、およびトリアジン化合物を含む第２化合物を第１層上に蒸着させ、それによって第２層を形成する第２蒸着ステップとを含み、第１および第２蒸着ステップを、第１層が０重量％から１０重量％のトリアジン化合物を含むように実施する方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、基材および基材上の層を含む複合材料の調製方法であって、トリアジン化合物を含む化合物を１０００Ｐａ未満の圧力で基材上に蒸着させ、それによって前記層を形成する蒸着ステップを含み、蒸着ステップ中、基材の温度が−１５℃〜＋１２５℃である方法に関する。さらに、本発明は、開示する方法によって得ることができる複合材料に関する。 （もっと読む）

【課題】画素内の膜厚分布のパラツキを低減し、高品位で信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンスパネルを提供すること。また、マスク蒸着時の膜厚分布ムラを低減し、高品位で信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】各画素での構成層膜厚の画素内分布のバラツキを±１０％以内に収めることで発光の均一性及び信頼性を向上させた。また各構成層を成膜する際の蒸着装置内の平均自由行程を、蒸着源と基板１との最短距離よりも短くすることでマスク蒸着時の膜厚分布ムラを低減し、発光の均一性及び信頼性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】安価な設備で無色透明な有機層を形成する方法を提供するとともに、従来よりも高いガスバリア性能を持ちかつ曲げてもそのバリア性能が劣化しない透明フィルムを提供する。
【解決手段】熱重量分析による５％重量減少温度の差が３０℃以内である光重合性モノマーと光重合開始剤を含む混合物を基材上に蒸着させ、ＵＶ架橋させる有機層の形成方法、及び、高分子材料からなる基材の少なくとも片面に、前記方法で形成された有機層と無機層とが交互に少なくとも一層以上積層されたガスバリア性プラスチックフィルム。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、水蒸気バリア性、ガスバリア性に優れたプラスチックレンズ基板を用いて軽量、且つ長時間にわたり発光特性を維持することのできる電子デバイス、又は有機ＥＬ素子用プラスチック基板の製造方法、及び該方法により構成された電子デバイス、又は有機ＥＬ素子用プラスチック基板、又は有機ＥＬ素子を提供することを課題とする。
【解決手段】 水蒸気バリア層、及びガスバリア層を有する電子デバイス、又は有機ＥＬ素子用プラスチック基板の製造方法であって、水蒸気バリア層、及びガスバリア層を少なくとも一対の無機層と有機層とからなる無機／有機積層膜で形成し、且つ有機層を熱化学蒸着法、或いはプラズマ重合法を用いて形成することである。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録媒体表面に塗布される潤滑層において、潤滑剤が保護層に結合するのを阻害する不純物を除くことにより、結合潤滑層を厚くする方法であって、蒸着速度を制御することができる量産にも適した磁気記録媒体の製造方法、並びに製造装置を提供することである。
【解決手段】 基板上に各種の下地層、磁気記録層、保護層および潤滑層が積層された磁気記録媒体を製造する方法において、前記保護層および前記潤滑層を、それぞれ保護層を形成する真空槽および潤滑層を形成する真空槽で連続して形成し、前記保護層を形成する真空槽と前記潤滑層を形成する真空槽とが相互に遮断されており、前記保護層および前記潤滑層を孤立した状態で形成することを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】 真空蒸着にて基板に金属薄膜あるいは有機化合物の薄膜を成膜させるに当り、基板の大面積化にも容易に対応することのできる蒸発材料収容容器を提供する。
【解決手段】 導電性平板状体の上面部分に複数の筒状体からなる蒸発材料収容部を有する導電性平板状体の蒸発材料収容容器２であって、上記筒状体が有底筒状体形状の蒸発材料収容部４、開口上面が上記導電性平板状体の上面部より突出する有底筒状体形状の蒸発材料収容部４ｂ、あるいは導電性平板状体の上面に載置した筒状体形状の蒸発材料収容部４ｃを有する蒸発材料収容容器である。 （もっと読む）

【課題】 有機モノマーを飽和蒸気圧の大きい高温で効率良く気化させるとともに得られた有機モノマーガスのプラズマ重合反応により有機高分子膜を高真空中で高速成長する。
【解決手段】 液体ジビニルシロキサンビスベンゾシクロブテン（ＤＶＳ−ＢＣＢ）モノマーをキャリアガスと混合した後、高温に保持された減圧気化室に噴霧して有機モノマーの液体微粒子からなるエアロゾルを形成し、該エアロゾルを介してＢＣＢモノマー（有機モノマー）を瞬時に気化させてＢＣＢモノマーガス（有機モノマーガス）を発生させる。これによって、比表面積の大きいエアロゾルは気化面積が大きく、高温加熱しても重合反応が生じる前に気化が生じるため、飽和蒸気圧の大きい２００℃での０．１ｇ／ｍｉｎ以上のＢＣＢモノマーガスが可能となり、プラズマ重合ＢＣＢ膜を従来の５倍以上の高速成膜が可能となる。 （もっと読む）

【課題】生分解性プラスチック成型体における生分解性ポリマーの親水性という特性に基づく機械的強度の低下を防止することができる生分解性ポリマー積層体及びその成型体の加工方法の提供。
【解決手段】生分解性ポリマーに、フッ素系有機化合物に一定割合で含有されるケイ素系化合物からなる共重合体薄膜を積層して形成されている積層体であることを特徴とする生分解性プラスチック積層体及びその成型体の加工方法。 （もっと読む）

【課題】 非磁性支持体を薄型化した場合でもカッピング等の発生を防止するとともに優れた電磁変換特性を達成する。
【解決手段】 非磁性支持体は、少なくとも、他主面を構成する第１の芳香族ポリアミドフィルムと、上記第１の芳香族ポリアミドフィルム上に形成された第２の芳香族ポリアミドフィルムとを有するとともに、上記第１の芳香族ポリアミドフィルム中に含有される不活性粒子が上記第２の芳香族ポリアミドフィルム中に含有される不活性粒子と比較して大とされてなり、上記非磁性支持体は、上記第１の芳香族ポリアミドフィルムを除いた厚みが２．０μｍ以上であり、上記非磁性支持体の他主面にバックコート層が形成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

基体を被覆するための装置は、大気圧より低い圧力に維持された蒸着室、前記蒸着室に伴われた二つ以上の拡張性熱プラズマ源（１４）を含む一つ以上の配列体、及び各配列体についてオリフィス（１５）を含む少なくとも一つの注入器（１３）を含む。基体を蒸着室中に配置し、各拡張性熱プラズマ源により中心軸を有するプラズマジェットを生じさせ、同時に注入器によりプラズマ中へ気化反応物を注入して基体上に蒸着された被覆を形成する。注入器オリフィスは、全体的に均一な被覆特性を有する被覆が一般に得られるように、拡張性熱プラズマ源から特定の距離以内に位置させる。
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