【課題】基材に形成される各層の移動方向及び該移動方向と垂直方向のアライメントを調整して、効率的に有機ＥＬ素子を製造し得る有機ＥＬ素子の製造方法及び製造装置を提供。
【解決手段】電極層の形成された帯状の基材を供給し、該基材の非電極層側を回転駆動するキャンロール表面に当接させて該基材を移動させつつ、前記キャンロールと対向するように配された蒸着源を用いて、有機層を形成する蒸着工程を含む有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記蒸着工程では、更に、シャドーマスクを、前記キャンロールに当接した前記基材と前記ノズルとの間に介入させるように供給し、シャドーマスクとして、長手方向に配列された複数の貫通孔が設けられたものを用い且つ前記キャンロールとして、前記貫通孔に係合する係合突起部が設けられたものを用い、それらを係合させて前記基材及びシャドーマスクを移動させることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】加熱による蒸着材料の劣化を抑制しつつ、より安定に蒸着材料を対象部材に蒸着することのできる真空蒸着装置及び真空蒸着方法を提供することを目的とする。
【解決手段】真空蒸着装置１は、開口部を有し、蒸着材料３を収容可能な容器４と、該容器４に蒸着材料３が収容された場合に、蒸着材料３と接触するよう容器４内に固定配置された、外部から個別に加熱制御可能な複数の熱源５と、を備える。熱源５を蒸着材料３と直接接触させることにより、効率良く蒸着材料３を加熱することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の面内における原料ガスの供給量を均一にし、成膜される膜の膜質を一定にすることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜容器６０内で基板を水平面内で回転可能に保持する基板保持部４４と、供給孔７５が形成された供給管７３ａを含み、供給孔７５を介して成膜容器６０内に原料ガスを供給する供給機構７０と、排気孔８３が形成された排気管８２を含み、排気孔８３を介して成膜容器６０内からガスを排気する排気機構８０と、基板保持部４４と供給機構７０と排気機構８０とを制御する制御部９０とを有する。供給孔７５と排気孔８３とは、基板保持部４４に保持されている基板を挟んで互いに対向するように形成されている。制御部９０は、基板保持部４４に保持されている基板を回転させた状態で、供給機構７０により原料ガスを供給するとともに排気機構８０によりガスを排気することによって、基板に膜を成膜するように制御する。 （もっと読む）

【課題】真空槽内の真空雰囲気を維持しながら振動子から付着膜を除去できる真空蒸着装置及び薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】
真空排気された真空槽１１内に蒸着材料の蒸気を放出させ、ホルダ３２ａ、３２ｂに接触して保持された振動子３１ａ、３１ｂの表面に蒸気を付着させ、付着膜の膜厚を測定しながら、基板１６に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、付着膜の蒸発温度より融点の高い振動子３１ａ、３１ｂとホルダ３２ａ、３２ｂと、ホルダ加熱装置３３ａ、３３ｂとを用いて、真空槽１１内の真空雰囲気を維持しながら、ホルダ３２ａ、３２ｂの融点と振動子３１ａ、３１ｂの融点の両方より低い温度でかつ付着膜の蒸発温度以上の温度にホルダ３２ａ、３２ｂを加熱し、ホルダ３２ａ、３２ｂからの熱伝導により振動子３１ａ、３１ｂを加熱し、振動子３１ａ、３１ｂから付着膜を気化させて除去する。 （もっと読む）

【課題】大型の成膜対象物の表面に分布が均一な成膜を簡素な構成の装置で行うことができる技術を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置１は、真空槽の外部に設けられたホスト材料用蒸気発生源３ｈ、ドーパント材料用蒸気発生源３ｄと、互いの雰囲気が隔離され、ホスト材料用蒸気発生源３ｈ、ドーパント材料用蒸気発生源３ｄから供給される有機材料の蒸気をそれぞれ基板１５に向って面状に放出するホスト材料用蒸気放出器５ｈ、ドーパント材料用蒸気放出器５ｄを有する蒸気放出器ユニット２とを備える。ホスト材料用蒸気放出器５ｈ、ドーパント材料用蒸気放出器５ｄは、蒸気放出基準点Ｏを中心として放射状に配列され当該蒸気放出基準点Ｏからの距離に応じて当該蒸発材料の蒸気の放出量が増加するように構成された複数の蒸気放出口７ｈ，７ｄを有する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は高品質な有機系薄膜を高い生産性で連続的に製造可能な蒸発源を実現するために、蒸発材料の蒸発と活性化および基材への供給を連続で安定に行うことが可能な蒸発源およびこれを用いた薄膜被覆物の製造方法を提供することを目的とする。また、それにより、ロール・ツー・ロール法などを用いて長尺基材に連続して均一なコーティングを可能とすることを目的とする。
【解決手段】
内部を加熱可能で開口部を有する蒸発材料収納部と、前記蒸発材料収納部の開口部に連結された透気性多孔質材からなる蒸発蒸気加熱部とを備え、前記蒸発蒸気加熱部が前記蒸発材料収納部の内部よりも高温に加熱できることを特徴とする、蒸発源。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着用マスクフレーム組立体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複数個のスティック型分割マスクが採用されるマスクフレーム組立体１００であり、該マスクフレーム組立体１００は、単位画面に対応する蒸着用パターンを具備する複数の分割マスク１１０を具備し、さらに各分割マスクは、複数の部分マスク１１０ａ，１１０ｂが結合され、単位画面に対応する蒸着用パターン１１１を形成するように構成される。これにより、大型画面に対応するパターンを収容した分割マスクをエッチング誤差増大の恐れなく容易に製作することができる。 （もっと読む）

【課題】膜厚センサの使用寿命が長い真空蒸着装置及び薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】
真空槽２１と、真空槽２１内を真空排気する真空排気装置２７と、真空槽２１内に露出する放出口１１ａ、１１ｂから蒸着材料の蒸気を放出する放出装置１２ａ、１２ｂと、放出口１１ａ、１１ｂと対面する位置に基板２６を保持する基板保持部２５と、放出された蒸気が入射する位置に配置され、付着した蒸気からなる付着膜の膜厚を測定する膜厚センサ１５ａ、１５ｂとを有し、基板保持部２５に保持された基板２６に薄膜を形成する真空蒸着装置２であって、膜厚センサ１５ａ、１５ｂに向けてレーザーを照射するレーザー照射装置１８ａ、１８ｂを有し、膜厚センサ１５ａ、１５ｂに付着した付着膜にレーザーが照射されると、膜厚センサ１５ａ、１５ｂから付着膜が除去される。 （もっと読む）

【課題】 複数のスリット状の開口を持つ蒸着マスクにおいて、隣接するスリット状の開口間の箔が互いに接触して密着し、スリット状開口部が塞がって成膜パターンの不良を引き起こしてしまう。
【解決手段】連続して配置された少なくとも３つの前記開口の少なくとも一方の端部を、前記開口の長手方向に互いにずらして配置する。 （もっと読む）

【課題】基板の処理に好適なプラズマ源を提供すること。
【解決手段】基板を処理するための直線形状のプラズマ源であって、 内部にマグネトロンプラズマが生成される放電キャビティであるとともに、内面上に配置されたカソード電極（１６）上にマグネトロンプラズマが生成され、アノード電極が放電キャビティの外部に配置されている、放電キャビティと；放電キャビティの外部に配置された複数の磁石（１，２）であるとともに、放電キャビティ内に無磁界ポイントを形成する、複数の磁石と；を具備し、処理の一様性が、プラズマに対して基板を移動させることにより、あるいは、基板に対してプラズマを移動させることにより、得られている。 （もっと読む）

【課題】光学的検知装置の測定光路の光路長を十分に確保することで、材料ガス濃度の測定を高精度で行うことが可能であり、さらにバックグラウンド測定を簡易に実施することができ、かつ材料ガスが複数種のガスの混合ガスである場合に各材料ガスの個別の濃度を測定することが可能となる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板に薄膜を成膜させる成膜装置であって、キャリアガスおよび材料ガスを供給する減圧自在な１または複数の材料供給部と、前記基板の上面に材料ガスを噴射させる蒸着ヘッドと、を備え、前記材料供給部と前記蒸着ヘッドは、複数の異なる供給路を介して連通し、前記複数の供給路の１つには材料ガス濃度を測定する光学的検知装置の測定光路が設けられている、成膜装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】蒸着レートを正確に計測し、より高精度の膜厚制御を行うことを可能にする真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー５０と、基板保持機構と、蒸着源３０と、モニタ用膜厚センサー２０と、制御系６０と、校正用膜厚センサー１０と、を有し、モニタ用膜厚センサー２０と校正用膜厚センサー１０のうち計測精度を高める方の膜厚センサーから前記蒸着源の開口部の中心までの距離が、他方の膜厚センサーから前記蒸着源の開口部の中心までの距離よりも短いことを特徴とする、真空蒸着装置１。 （もっと読む）

【課題】蒸着レートを正確に計測し、より高精度の膜厚制御を行うことを可能にする真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー５０と、基板保持機構と、蒸着源３０と、モニタ用膜厚センサー２０と、校正用膜厚センサー１０と、制御系６０と、を有し、蒸着源３０の開口部３２の中心から校正用膜厚センサー１０までの距離Ｌ₁と、蒸着源３０の開口部３２の中心からモニタ用膜厚センサー２０までの距離Ｌ₂との間にＬ₁≦Ｌ₂の関係が成り立ち、かつ、蒸着源３０の開口部３２の中心から基板４０の成膜面に下ろした垂線と、蒸着源３０の開口部３２の中心と校正用膜厚センサー１０とを結ぶ直線とでなす角度θ₁と、蒸着源３０の開口部３２の中心から基板４０の成膜面に下ろした垂線と、蒸着源３０の開口部３２の中心とモニタ用膜厚センサー２０とを結ぶ直線とでなす角度θ₂との間にθ₁≦θ₂の関係が成り立つ。 （もっと読む）

【課題】蒸着対象物の表面に分布が均一の蒸着を高速で行うことができる技術を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置１０は、蒸気放出器１００が、蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って４^n-1（ｎは自然数）の等比級数で段階的に分岐する連通口を介して連通された箱状の第１〜第３蒸気分岐部１〜３を備えている。第３蒸気分岐部３の蒸気放出側端部に、蒸発材料の蒸気を蒸着対象物に向って面状に放出する複数の蒸気放出口３Ｂが設けられている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、輝度を低下させずに高精細化を図ることを目的とする。
【解決手段】複数の画素電極２４を有する回路基板１０に、複数の貫通穴４０を有する蒸着マスク３８を使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層３０を形成する蒸着工程を含む。複数の画素電極２４は、複数の列をなすように配列されている。複数の貫通穴４０は、複数の列をなすように配列され、列に沿った方向に長くなる形状を有し、各列で２つ以上の貫通穴４０が並んでいる。各列に並ぶ画素電極２４の数は、少なくとも、各列に並ぶ貫通穴４０の数の２倍以上ある。蒸着工程で、それぞれの貫通穴４０の内側に、いずれかの列に並ぶ２つ以上の画素電極２４を配置して、複数の画素電極２４上に複数の発光層３０を形成する。 （もっと読む）

【課題】有機材料の利用効率の向上と装置設置面積の削減とを両立させて、有機ＥＬデバイスの製造コストを低減できる薄膜形成装置及びインライン型の有機ＥＬデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】基板１６の搬入位置２０に配置され、基板１６と蒸着マスク１７とを相対的に移動させて位置合わせする位置合せ機構１５と、基板１６が組み込まれた蒸着マスク１７を搬送する搬送機構１４と、基板１６と蒸着マスク１７が移動しながら、蒸着マスク１７の開口部を通して基板１６上に有機材料を積層する成膜機構１３と、を備え、少なくとも成膜機構１３の前段もしくは後段のいずれか一方において、基板１６の搬入位置２０もしくは搬出位置２１の搬送機構１４ａ、１４ｃと成膜区間の搬送機構１４ｂとが並列配置されている。 （もっと読む）

【課題】蒸着ステージを移動しながら、多層膜の蒸着を行う場合に、蒸着マスクと基板の熱膨張の差によって、蒸着マスクと基板が位置ずれを起こすことを防止する。
【解決手段】
蒸着ステージにおいて蒸着マスクを介して基板に所定の蒸着を行い、その後蒸着マスク、基板および押さえ板３０の組を移動させ、他の蒸着ステージにおいて、蒸着マスクを介して基板に他の蒸着を行う。蒸着マスク、基板、押さえ板３０の組が移動している間、冷却ローラ６０を押さえ板３０に接触させ、蒸着マスクを介して基板に他の蒸着を行っている間は、冷却ローラ６０は押さえ板３０からは離しておく。冷却ローラ６０は金属で形成され、表面に高分子材料がコーティングされており、内部を冷却媒体が流れることが出来る。基板および蒸着マスクの温度が上がって熱膨張することを回避することが出来るので、有機ＥＬ表示装置の製作裕度を向上させることが出来る。 （もっと読む）

【課題】真空装置内におけるマスク組み立て体と素子基板の対を移動するときに、搬送装置においてガイドローラ等とマスクフレームとが接触した時の衝撃によって蒸着マスクと素子基板との相対位置がずれることを防止する。
【解決手段】蒸着マスクを配置し、素子基板が載置されたマスクフレーム２１の両端部が搬送用ベルト２００によって支えられ、回転ローラ１００が回転することによって搬送用ベルト２００が移動するとともにマスクフレーム２１が移動する。搬送用ベルト２００が接触する回転ローラ１００には曲率が形成されており、この曲率に沿って搬送用ベルト２００も同様の曲率を有する。この構成においては、クラウン効果によって搬送用ベルト２００の蛇行が抑制されるので、搬送用ベルト２００に載置されたマスクフレーム２１、蒸着マスク、素子基板等は、横ずれを生ずることなく搬送することが出来る。したがって、蒸着マスクと素子基板との相対的な位置ずれを生ずることは無い。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとのアライメント動作回数を少なくすることによって、基板とマスクへのダメージを低減したアライメント方法及びアライメント装置を提供する。
【解決手段】基板１１を基板保持手段１３に保持した後、該基板１１の重力方向の振動の振幅を検出し、該振幅が所定の値以下になった時点で、基板１１とマスク１２とにそれぞれ設けたアライメントマークの相対位置を撮像装置１５によって撮像し、位置合わせを行う。 （もっと読む）

【課題】マスクと基板との隙間を介して侵入する蒸着物質によって生じる輪郭ボケや回り込み等のない、高品位な薄膜パターンを得ることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板２０の裏面の、マスクフレームの内側であって、マスクの開口領域１０の外側の領域を、基板の対向する２辺に沿った線状に、押圧体３０によって押圧することにより、マスク開口部の変形を招くことなく、基板とマスクとを略水平状態にして密着させることができる。 （もっと読む）