金属基体２と、その上にある、少なくとも１つの機能層および／または少なくとも１つの装飾層８より形成される被覆とを有する金属製品は、前記少なくとも１つの機能層および／または少なくとも１つの装飾層８の上に、厚さ１０ｎｍ〜１０μｍのクリアラッカー層９を備える。
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【課題】潤滑性に優れ、高い耐摩耗性を有する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】基体２表面に周期律表第４ａ、５ａ、６ａ族元素、ＡｌおよびＳｉから選ばれる１種以上の金属元素と、窒素、炭素および酸素から選ばれる１種以上の非金属元素との化合物からなる下層７と、組成が（Ｔｉ_１−ａＭ_ａ）Ｂ_ｂ（Ｃ_ｃＮ_１−ｃ）（ただし、ＭはＴｉを除く周期律表第４ａ、５ａおよび６ａ族金属元素、ＡｌおよびＳｉの群から選ばれる１種以上、０≦ａ＜１、０＜ｂ＜３、０≦ｃ＜１）からなるとともに、最表面におけるＢ（ホウ素）の含有濃度ｍ_１と前記最表面から０．２μｍの深さ位置におけるＢ（ホウ素）の含有濃度ｍ_２との比（ｍ_１／ｍ_２）が０．１〜０．９の表面層８とを形成する。 （もっと読む）

【課題】 ナノ狭窄スペーサを有する磁気抵抗（ＭＲ）センサのスピンバルブ内に使用する薄膜の生成方法を提供する。
【解決手段】 スピンバルブのボトムをピン層まで蒸着し、蒸着室を用意し、スペーサ層をその上にスパッタリングする。主イオンビームが磁性チップと絶縁材を含む合成面上にイオンを生成する。同時に、支援イオンビームが基板に直接イオンを供給し、かくしてスペーサ層の柔軟度と平滑度を改善する。中和器もまた配設し、イオン反発を防止し、イオンビーム合焦を改善する。その結果、薄膜スペーサを形成することができ、低保磁力とフリー層とピン層の間の低層間結合とを有するナノ狭窄ＭＲスピンバルブが形成される。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜、特に垂直磁気記録媒体に適用されるＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２グラニュラ磁気記録膜を形成するための微細な組織を有するＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｐｔ粉末およびＳｉＯ_２粉末を配合した混合してＰｔ−ＳｉＯ_２混合粉末を作製し、このＰｔ−ＳｉＯ_２混合粉末にさらにＣｒ粉末およびＣｏ粉末を添加して混合して目標成分組成を有する混合粉末を作製し、この目標成分組成を有する混合粉末を加圧焼結することを特徴とする磁気記録膜形成用ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２スパッタリングターゲットの製造方法。 （もっと読む）

基板上に、第１の金属成分からなる金属部分と、上記第１の金属成分とは異なる第２の金属成分の化合物からなる金属化合物部分とが互いに混合分散してなる複合薄膜を形成し、次いで上記複合薄膜中の金属成分を除去すること、又は基板上に、第１の金属成分からなる第１の金属部分と、上記第１の金属成分とは異なる第２の金属成分からなる第２の金属部分とが互いに混合分散してなる複合薄膜を形成し、次いで上記複合薄膜中の第１又は第２のいずれかの金属部分のみを除去することを特徴とする多孔質薄膜の形成方法を提供する。
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本発明は、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ａｌのうちのいずれかの金属またはその金属をベースとした合金を摺動層の素地としたものにおいて、特に耐疲労性の向上を図る。 オーバレイ（摺動層）４は、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ａｌのうちのいずれかの金属またはその金属をベースとした合金を素地とし、この素地にアモルファスカーボンを添加した構成とする。オーバレイ４は、スパッタリングにて形成する。Ｓｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｉｎは、Ｆｅなどの相手材への凝着性の低さから非焼付性に優れる。アモルファスカーボンは、高硬度であるため耐摩耗性および耐疲労性の向上に寄与し、摩擦係数も低いため非焼付性の向上にも寄与する。さらに、アモルファスカーボンを添加することにより、素地の結晶が微細化し、機械的強度が増加し、耐摩耗性および耐疲労性を一層向上させることができる。
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【課題】ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜、特に垂直磁気記録媒体に適用されるＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２グラニュラ磁気記録膜を形成するための微細組織を有するＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｐｔ粉末と微細なＳｉＯ_２粉末を混合して得られた混合粉末を仮焼処理することにより、Ｐｔ−ＳｉＯ_２仮焼処理粉末を作製し、このＰｔ−ＳｉＯ_２仮焼処理粉末にＣｒ粉末およびＣｏ粉末を配合し混合して得られた混合粉末を加圧焼結することを特徴とする磁気記録膜形成用ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２スパッタリングターゲットの製造方法。 （もっと読む）

抗微生物性を持つ基板。その表面の少なくとも一つを真空下のスパッタリングの磁気的に増強された方法により付着された少なくとも一つの混合層で被覆された抗微生物性基板（ガラス、セラミックまたは金属）が記載されている。この層は金属酸化物、オキシナイトライド、オキシカーバイドまたは窒化物の中から選ばれた結合剤材料に混合された少なくとも一つの抗微生物剤を含む。この基板は熱処理が適用されなかった時でさえ抗微生物性、特に殺細菌活性を与える。もし焼戻しされた抗微生物性ガラスが必要であるなら、同じコスパッタリング法が使用されることができ、任意にアンダー層が付加されることができる。抗微生物性は焼戻し工程後でさえ維持される。 （もっと読む）

【課題】化学量論的に良好なカーバイド又は炭素含有のマスター合金スパッタターゲット材料を提供すること。
【解決手段】スパッタターゲット材料は、Cr-C、Cr-M-C又はCr-M₁-M₂-Cからなる合金系を含有してなり、Cは、0.5〜20at%を含み、Mは、0.5〜20at%を含み、かつTi、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及びWの群から選ばれた元素とし、またM₁は、0.5〜20at%を含み、かつTi、V、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及びWの群から選ばれた元素とし、更にM₂は、0.5〜10at%を含み、Li、Mg、Al、Sc、Mn、Y及びTeの群から選択した元素とする。他方、基板及び上記のスパッタターゲット材料からなる少なくとも１つの下層を含む磁気記録媒体とすることができる。スパッタターゲット材料を製造する方法は、クロム合金やカーバイド又は炭素含有のマスター合金を含む元素の組み合わせからなる粉体材料を用いる。 （もっと読む）

本発明は、構成元素の単体、酸化物又はカルコゲン化物から選択した１種以上の粉末を原料とし焼結するものであり、焼結工程中に８５０℃以下の温度で１時間以上保持する反応工程を含み、この反応工程後に反応工程温度以上の温度で加圧焼結することを特徴とするＬａ及びＣｕを含有するオキシカルコゲナイドを主成分とするスパッタリングターゲットの製造方法に関する。Ｌａ及びＣｕを含有するオキシカルコゲナイドを主成分とするＰ型透明導電材料用ターゲットの密度を向上させ、ターゲットを大型化しかつ低コストで製造できるようにするとともに、該ターゲット中の未反応物の存在を無くし、ターゲットの割れの発生を抑制することにより製品歩留りを上げ、さらにこのようなターゲットを用いてスパッタリングすることによって形成される成膜の品質を向上させることを目的とする。 （もっと読む）

本発明は、Ａ、Ｂは其々異なる３価以上の陽性元素であり、その価数を其々Ｋａ、Ｋｂとしたとき、Ａ_ＸＢ_ＹＯ_{（ＫａＸ＋ＫｂＹ）／２}（ＺｎＯ）_ｍ、０＜Ｘ＜２、Ｙ＝２−Ｘ、１≦ｍを満たす酸化亜鉛を主成分とする化合物を含有し、さらにカルコゲン化亜鉛を含む、相対密度９０％以上、バルク抵抗値０．１Ωｃｍ以下であることを特徴とするスパッタリングターゲットに関する。スパッタリングによって膜を形成する際に、基板への加熱等の影響を少なくし、高速成膜ができ、また膜厚を薄く調整でき、さらにスパッタ時に発生するパーティクル（発塵）やノジュールを低減させ、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができ、かつ結晶粒が微細であり高密度のスパッタリンダターゲット及びその製造方法並びに、特に保護膜としての使用に最適である光情報記録媒体用薄膜及びその製造方法を得る。 （もっと読む）

【課題】金型や切削工具等の金型加工工具表面用保護膜によって、成型品の外観を向上させるために、ある程度の高硬度を有すると共に、潤滑性を向上させ、且つ濡れ性を低下させる。
【解決手段】 気相薄膜形成法によって金属表面に形成される、遷移金属元素の窒化物と非晶質構造の炭素との混合膜又は積層膜からなる金属加工工具表面保護膜。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の密着性を改善し、耐酸化性、耐摩耗性を向上させ、更に高温状態での耐溶着性並びに硬質皮膜中への被削材元素の拡散を抑制し、切削加工の乾式化、高速化、高送り化に対応する硬質皮膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本願第１発明は、硬質皮膜は高密度プラズマにより被覆した相と、低密度プラズマにより被覆した相とが多相構造をなし、該硬質皮膜内部において組成濃度差を発生させることを特徴とする硬質皮膜の製造方法である。次に、本願第２発明は、プラズマ密度の異なる手法を被覆時に併用し、高硬度皮膜と低硬度皮膜とを連続して交互に被覆することを特徴とする硬質皮膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】潤滑性非晶質炭素系被膜がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製ブローチを提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金で構成されたブローチ本体の表面に、（ａ）下部層として、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＡｌ_Ｘ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．６５）を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物からなると共に、１〜３μｍの平均層厚を有する硬質被覆層、（ｂ）上部層として、オージェ分光分析装置で測定して、Ｗ：５〜２０原子％、Ｔｉ：０．５〜４原子％、窒素：１０〜３０原子％、を含有し、残りが炭素と不可避不純物からなる組成を有すると共に、透過型電子顕微鏡による観察で、炭素系非晶質体の素地に、結晶質炭窒化チタン系化合物の微粒が分散分布した組織を示し、かつ１〜３μｍの平均層厚を有する潤滑性非晶質炭素系被膜を蒸着形成してなる表面被覆超硬合金製ブローチ。 （もっと読む）

【課題】金型の耐久性を向上させるべく、ある程度の高硬度を有すると共に、潤滑性を向上させ、且つ濡れ性を低下させる金型表面用保護膜を形成すること。より高硬度の金属加工工具表面用保護膜を形成すること。
【解決手段】気相薄膜形成法によって金属表面にTi、B、及びNを必須元素とし、AlまたはSiのうち１種又は２種の元素を含む硬質の保護膜を形成し、TiとNを必須元素とし、AlまたはSiのうち１種又は２種の元素を含むNaCl型の結晶相と、非結晶構造もしくは微結晶の六方晶構造を有するBN相とから構成される金型表面用保護膜とする。さらに、ＢＮ相の割合が体積比で１０〜１７％の範囲内にある金属加工工具表面用保護膜とする。 （もっと読む）

【課題】転がり摺動部材から発生する摩耗粉を簡易にトラップする。
【解決手段】被処理体に対してアモルファス状又は多層状に固体潤滑膜を成膜する。この成膜は、スパッタリングされるためのターゲット１６ａ，１６ｂ，１６ｃ，１６ｄと、ターゲットの表面に非平衡磁場を発生させる非平衡磁場発生手段１１，１２と、ターゲットからスパッタリングされる物質が付着するように被処理体を対向配置するための配置手段１４とを有し、電磁的に閉鎖した状態で被処理体に成膜する閉鎖磁界不均衡マグネトロンスパッタ（ＵＢＭＳ）装置を用いて行われる。そして、ターゲットの少なくとも１つ（１６ｂ）は磁性体（Ｎｉ）によって構成されているので、かかる装置によって成膜される固体潤滑膜は、被処理体に成膜された状態のときには磁場の影響をほとんど受けず、外力を受けることによって粉体となったときには磁場の影響を受ける。 （もっと読む）

【課題】輝尽性蛍光体の結晶性を均一とし、鮮鋭性の高い放射線画像が得られる放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線画像変換パネルの製造装置１において、真空容器２と、真空容器２の内部に設ける支持体ホルダ５と、支持体ホルダ５に保持される支持体４とを設け、さらに輝尽性蛍光体を蒸発させて支持体４に輝尽性蛍光体を蒸着させる複数の蒸発源８を、支持体４の中心から放射状に延びる直線上に配置する。 （もっと読む）

【課題】配線パターンとなる金属材料中にＣＮＴを均一に分散させると共に、配線パターンの電気導電率を向上させる。また、スパッタリングによって金属薄膜中にＣＮＴを均一に分散混入するためのターゲット材を提供する。
【解決手段】絶縁性材料からなる基材８の表面にＣＮＴ入り金属層１３を形成し、金属層１３をパターンエッチングして配線パターンを形成する配線材の製造方法において、ＣＮＴ入り金属層１３をスパッタリング法により形成する。ＣＮＴとＣｕを同時にスパッタリングしてＣＮＴ入り金属層１３を形成しているため、ＣＮＴをＣｕ中に均一に混入できると共に、ＣＮＴとＣｕ間の界面抵抗を低減でき配線の電気導電率が向上する。スパッタリング用ターゲット材１０としては、ＣｕにＣＮＴが含まれたターゲット材を用いる。 （もっと読む）

【課題】 擬似位相整合型波長変換素子を用いて基本波光を高調波光に変換する波長変換レーザ装置におけるレーザの生成効率を改善する。
【解決手段】 光共振器７内に配置する擬似位相整合型波長変換（ＱＰＭ）素子４の両端面４ａ、４ｂの反射率を下げるために、各端面４ａ、４ｂに酸化シリコンと窒化シリコンとの混合物を材料とする薄膜を形成する。その混合物の混合比率は、使用する波長におけるＱＰＭ素子の基体の屈折率と入射（又は出射）媒質である空気の屈折率とから求まる所定の屈折率になるように制御する。それによって、端面４ａ、４ｂでの反射率を従来よりも１桁以上改善した０．０１％以下にまで抑制することが可能である。 （もっと読む）

本発明は、透明基材の表面をコーティングするための層システム、特にガラス窓のための低輻射率（低Ｅ）の層システムであって、金属ターゲット合金から反応性陰極スパッタリングによって作製された混合酸化物の少なくとも１つの層を含む層システムに関する。この混合酸化物層は、ＺｎＯと、ＴｉＯ₂と、酸化物Ａｌ₂Ｏ₃、Ｇａ₂Ｏ₃及びＳｂ₂Ｏ₃のうちの少なくとも１種とを含み、そして上層及び／又は下層反射防止層、反射防止層のうちの部分的な層及び／又は最終仕上げ層として応用される。該層システムは、高い硬度と海洋気候に対する優れた耐性を特徴とする。 （もっと読む）