【課題】 表面積の大きい多孔質バルブ金属薄膜およびその製造方法、並びにその薄膜を陽極体として利用した容量密度の大きい薄膜キャパシタを提供する。
【解決手段】 １）バルブ金属と異相成分の粒子径が１ｎｍ〜１μｍの範囲にあり、かつ、バルブ金属と異相成分が均一に分布した薄膜を作製する工程、２）熱処理により粒子径を調整をするとともに適度に焼結を進める工程、３）異相部分を除去する工程、からなる製造方法を用いて、多孔質バルブ金属薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、切削工具として靭性と耐摩耗性さらには膜チッピングに対する耐性とを両立させた表面被覆切削工具を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備えるものであって、該被膜は、該基材上の最外層となるものであり、かつ圧縮応力を有しており、該圧縮応力は、上記被膜の厚み方向に強度分布を有するように変化しており、該強度分布は、上記被膜の表面において最大の圧縮応力を有するとともに、上記被膜の表面から、上記被膜の表面と上記被膜の底面との間に位置する中間点まで該圧縮応力が連続的に減少し、該中間点において極小点を有するとともに、該中間点から上記被膜の底面まで圧縮応力が一定の値となることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 潤滑油を介在させなくても円滑な作動を維持できるチェーンを提供する。
【解決手段】 対の内プレート２１と、各内プレート２１の間に固定される２本のブッシュ２２と、各ブッシュ２２に回転自在に嵌合するローラ２３と、各内プレート２１およびブッシュ２２を挟むようにして設けられる対の外プレート３１と、各ブッシュ２２を貫通しその両端部が各外プレート３１にカシメ固定されるピン３２とを備えるチェーン１において、内プレート２１、ブッシュ２２、ローラ２３、外プレート３１、ピン３２が持つ摺接部の表面に炭素を主成分としたアモルファス構造体からなるＤＬＣコーティング膜２をそれぞれ形成した。 （もっと読む）

【課題】 ＺｎＳ−２０ｍｏｌ％ＳｉＯ₂と同等の光の屈折率と透過率を有し、かつ、青色ＤＶＤのシステムにおいても良好なディスク性能を確保できる保護膜を提供する。
【解決手段】 ＳｉＯ₂粉末とＳｉＣ粉末を、ＳｉＯ₂に対するＳｉＣの比率がモル比で０．２〜１．０となるように混合し、得られた混合物を真空雰囲気中または不活性雰囲気中で加圧焼結してスパッタリングターゲットを作製する。このスパッタリングターゲットをアルゴン雰囲気中でスパッタリングすることにより、Ｓｉの原子数比を１．０としたとき、Ｏ及びＣの原子数比が１．０：０．５〜１．７：０．１７の範囲にある光ディスク用保護膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 触媒を構成する金属粒子の粒径が小さくなり過ぎることによって、反応系や反応物に対して粒径を最適化できないなどの不都合を回避する。
【解決手段】 導電性粉体２の表面に、触媒活性を有する金属粒子４と、この金属粒子の触媒活性を向上させる添加物粒子３とを物理蒸着例えばスパッタリングによって析出担持させ、更に析出担持と同時に或いは前後して加熱すなわちアニール処理を施す。 （もっと読む）

【課題】 設計目標どおりに成膜することができ、所望の光学特性を有する光学素子を製作することができる成膜装置及び成膜方法を提供すること。
【解決手段】 成膜装置１は、真空槽２内に配設されて中心軸Ｃ回りに回転自在な保持部材７と、基板３とともに成膜されるＳｉモニタ部材（第１モニタ部材）８及びＮｂモニタ部材（第２モニタ部材）１０と、Ｓｉモニタ部材８上に成膜された薄膜の膜厚を検出するＳｉ膜厚検出機構（第１膜厚測定手段）と、Ｎｂモニタ部材１０上に成膜された薄膜の膜厚を検出するＮｂ膜厚検出機構（第２膜厚測定手段）と、基板３上に成膜された混合薄膜の光学特性値を検出する光学特性測定機構（特性評価手段）と、各膜厚検出機構の検出値に基づいて各ターゲット５、６からの材料供給速度を制御する制御部とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 高速重切削加工で表面被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）下部層として、１．５〜１０μｍの平均層厚を有し、かつ、層厚方向にそって、ＡｌとＴｉ最高含有点が所定間隔をおいて交互に繰り返し存在し、かつ前記ＡｌからＴｉ最高含有点、及びその逆方向へ、ＡｌおよびＴｉ含有量がそれぞれ連続的に変化する濃度分布を有し、さらに、上記Ａｌ最高含有点が、特定の組成式を満足し、かつ隣り合う上記ＡｌとＴｉ最高含有点の間隔が、０．０１〜０．１μｍからなる構造を有するＴｉとＡｌとＳｉの複合窒化物層、（ｂ）上部層として、１〜１０μｍの平均層厚を有する非晶質炭素系潤滑層、以上で構成された表面被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

真空チャンバーの壁および／またはチャンバー内に配置された構成要素を、層原材料の望ましくない堆積から保護する少なくとも１つの遮蔽装置が、本発明によるコーティング装置の真空チャンバー内に配置され、その中でガラス状のガラス−セラミックおよび／またはセラミック層が蒸気相からの蒸着によって基板に付与される。真空チャンバー内で温度が変化する場合には、遮蔽装置の膨張または収縮がガラス状のガラス−セラミックまたはセラミックの層または堆積の膨張または収縮に対応することが重要である。
（もっと読む）

本発明は、クリーン・ルーム対応の、ＰＶＤ法またはＣＶＤ法用のコーティング・システムに関する。前記システムは、ガラス様の層、ガラス・セラミック層および／またはセラミック層が堆積される、少なくとも１つの真空コーティング・チャンバを備える。真空コーティング・チャンバの第１の開口部が、真空排気可能な別個の真空ロック・チャンバ（ロード・ロック）を介してクリーン・ルームに接続される。この真空ロック・チャンバは、基板を真空コーティング・チャンバ内に供給し、基板を真空コーティング・チャンバから取り出すために使用される輸送手段を備える。真空コーティング・チャンバの第２の開口部が、真空コーティング・チャンバをクリーン・ルームから切り離されたグレイ・ルーム領域に接続する。
（もっと読む）

【課題】配向性カーボンナノチューブ（CNT）のパターン化された柱形状集合体の製造法及びこれを用いた低電圧で均一な電子放出可能な電界放出型冷陰極の製造法を提供する。
【解決手段】基礎基板表面上に複数個の触媒担体被膜を任意の位置にパターン形成する工程、該触媒担体被膜を含む該基礎基板表面に触媒作用を持つ金属元素あるいは化合物を焼成担持する工程、該基礎基板表面上に炭素化合物を供給し熱分解する工程により、該触媒担体被膜上に配向性CNTが集合してなる柱形状の集合体を形成させることにより、配向性CNTのパターン化された柱形状集合体を製造する。また、前記柱形状集合体を作製する工程(1)、電極基板表面に導電性バインダー形成させる工程(2)、該柱形状集合体の先端と該導電性バインダーの表面とを接着後、該導電性バインダーと接着した柱形状集合体を残して、該基礎基板を剥離して柱形状集合体を電極基板に転写する工程(3)により電界放出型冷陰極を製造する （もっと読む）

【課題】基材との密着性に優れ、精密金型としての寸法精度、離型性に優れた含フッ素薄膜撥が得られる。
【解決手段】 基材表面に形成され、該含フッ素薄膜は基材表面に蒸着法によって堆積できる含フッ素有機物質と、イオンビームスパッタ法によって堆積できる物質とが同時に堆積されてなり、上記含フッ素有機物質がパーフルオロ系高分子であり、該高分子は、少なくとも１個の二重結合もしくは三重結合炭素、−ＣＯＯＨ基、または、−Ｓｉ（ＯＲ）₃基（Ｒはアルキル基を表す）を分子内に含み、上記含フッ素有機物質が非晶質パーフルオロ樹脂である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光学基板（１７）上の反射防止被膜を処理する方法を提供する。
【解決手段】本発明の方法は、低屈折率の弗素化ポリマー含有層の物理的気相蒸着を実施する工程を含んでおり、また、この工程は、珪素または弗化マグネシウムと弗素化ポリマーを同時に気相蒸着させることにより、珪素または弗化マグネシウムと弗素化ポリマーの混成層（２１ｄ）を堆積させることに関与していることを特徴とする。好ましい実施形態では、弗素化ポリマーは重合体またはテトラフルオロエチレン重合体の形態で実施され、個々の構成要素はジュール効果または電子衝撃により蒸発させられる。本発明の方法は、何らかの光学基板または本発明の基板の上に堆積される反射防止被膜を積層した下位隣接層に低屈折率層を粘着させる工程を向上させるために利用されると有利である。この方法によって製造される基板と、この方法を実施するための装置も開示されている。 （もっと読む）

【課題】 照射波長３００ｎｍ以下でのリトグラフィーにおいて用いる埋め込み型の減衰移相マスクブランク、及び同マスクブランクのイオンビーム蒸着による作製方法を提供する。
【解決手段】 マスクブランクを基板及び薄膜系から構成し、該薄膜系をＭｇ、Ｙ、Ｌａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、これら金属の酸化物、窒化物、硼化物及び炭化物、及びこれら金属及び化合物の混合物から選択される１または２以上の金属または金属化合物を含む透過制御下位層と、Ｇｅ、Ｓｉ及び／またはＡｌの硼化物、炭化物、酸化物及び／または窒化物あるいはこれらの混合物を含む移相制御下位層から構成する。 （もっと読む）

光学レンズ又はその他の光学製品に反射防止（ＡＲ）コーティングをコーティングするための方法が提供される。これらのレンズは、低い反射率を有し、ほぼ白色の反射光を発し、かつ低応力ＡＲコーティングを有し、低応力レンズ基材を提供するモールディング工程を使用して製造される光学レンズに理想的に適合する。１の態様において、この方法は特殊なコーティング組成物を使用し、その１つは高屈折率組成物であり、他方は低屈折率組成物である。別の態様においては従来の気相蒸着装置とともに光学モニタを使用する方法が開示されており、それにおいては光学基準レンズを使用し、反射光の特定の光の周波数を測定し、次にこの測定値を用いて所望の光学的なコーティングが達成された時点を決定する。さらに別の態様においては、好ましくは反射光の青色対緑色対赤色の特定の比を使用して、各層の光学的な厚さを計算する。また、各層の光学的な厚さを必要に応じて調整し、低屈折率層／高屈折率層間における引張応力と圧縮応力の差を最小にすることによって、ＡＲコーティングの応力がコントロールされる。 （もっと読む）

【課題】 ドリル、エンドミル等に好適で、耐摩耗性、高滑り性、高焼き付き性、被削材の加工精度などを向上できる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 基材と、その基材上に形成された4a、5a、6a族元素およびAlからなる群の中から選択される1種以上の元素の窒化物または炭窒化物を主成分とする耐摩耗性被膜とを具える。耐摩耗性被膜中には、B₄C、BN、TiB₂、TiB、TiC、WC、SiC、SiN_X（X＝0.5〜1.33）およびAl₂0_３をよりなる群から選択される少なくとも1種の超微粒化合物を含む。この超微粒化合物の粒径は0.5〜50nmが好ましい。基材としては、WC基超硬合金、サーメットなどが利用できる。 （もっと読む）