【課題】粉体の組成を変化させずに且つ均一な膜を容易に形成し得る成膜方法を提供する。
【解決手段】真空下にされた容器３内にて、表面に薄膜が形成される基板Ｋを保持する上部電極５と、膜材料である粉体Ｐが載置される下部電極７との間に高圧の直流電圧を印加して両電極５，７間に静電場を形成し、この静電場にて発生した電界により上記粉体Ｐを両電極５，７間で往復移動させて当該粉体Ｐを基板Ｋの表面に付着させて成膜する方法である。 （もっと読む）

【課題】縁摺り加工時の軸ずれを防止するとともに、玉型形状の眼鏡用レンズに真空蒸着法によって多層反射防止膜層と撥水膜層を形成するとき、蒸着物質が眼鏡用レンズの上方に回り込んでも蒸着すべき光学面以外の面に付着しないようにする。
【解決手段】ハードコート膜層が形成された円形の眼鏡用レンズを眼鏡枠形状と略一致する玉型形状に縁摺り加工する工程と、縁摺り加工された眼鏡用レンズ１Ａの蒸着すべき光学面５ａとは反対側の光学面５ｂ全体を樹脂製フィルム６４によって覆う工程と、眼鏡用レンズ１Ａをレンズ保持手段６０によって保持する工程と、レンズ保持手段６０によって保持された眼鏡用レンズ１Ａを真空蒸着装置内に装着する工程と、真空蒸着装置内に装着した反射防止材を加熱蒸発させ、眼鏡用レンズ１Ａの光学面５ａに蒸着する工程と、撥水材を加熱蒸発させ、反射防止膜層の上に撥水膜層を蒸着する工程とを備えている。 （もっと読む）

【課題】高品質の有機物／無機物薄膜を製造して商用化することができる有機物／無機物複合薄膜の蒸着方法及び蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る時間分割型有機物／無機物複合薄膜の蒸着方法および蒸着装置は、有機物／無機物材料が含有されているソースタンクと、これを活性化させる熱開始剤が含有されている触媒ソースタンクとを各々装着することによって、大面積の基板上に有機物／無機物複合薄膜を蒸着する時、厚さを正確に調節することができ、蒸着を均一に行うことができる。また、１つ以上の有機物／無機物複合薄膜を蒸着する場合にも、厚さ及び組成を精密に調節することができる。 （もっと読む）

本方式は、１１より多い元素を含む非晶質金属源を提供するステップと、１１より多い元素を含む非晶質金属を表面にスプレーで塗布するステップとを含む。１１より多い元素を含む非晶質金属製の複合材料を含む皮膜。堆積室と、堆積スプレーを生成する堆積室の堆積源であって、１１より多い元素を含む非晶質金属製の複合材料を含む堆積源と、構造物に堆積スプレーを向ける系とを含む、構造物に耐食性非晶質金属皮膜を生成する装置。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性と、熱起因の破損に対する抵抗力とを高めたＰＶＤ又はＰＥＣＶＤによる被膜付き切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金等の基材に耐摩耗被膜を施した切削工具において、被膜は、ＰＶＤ又はＰＥＣＶＤによる複数の金属酸化物層がＭｅ_１Ｘ＋Ｍｅ_２Ｘ＋Ｍｅ_１Ｘ＋Ｍｅ_２Ｘ・・・・という形で交互積層した多層構造で、金属Ｍｅ_１とＭｅ_２はＴｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｙ、Ｓｉの１種以上であり、Ｍｅ_１ＸとＭｅ_２Ｘの少なくとも１種は、組成と組織が異なる成分Ａ、Ｂから成る金属酸化物＋金属酸化物のナノコンポジット層であり、成分Ａ、Ｂは各々１種類の金属元素の単一の酸化物相又は２種類以上の金属酸化物の固溶体であり、Ｍｅ_１Ｘ層とＭｅ_２Ｘ層は組成と組織の一方又は両方が異なり、個々の層の厚さは０．４ｎｍより大で５０ｎｍより小、これらが交互積層した多層構造被膜全体の厚さは０．２〜２０μｍである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基材上に、金属および金属酸化物を含有するサーメット材料からなり、平面性に優れたサーメット層を直接形成することができるサーメット積層体の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、基材と、上記基材上に形成され、金属および金属酸化物を含有するサーメット材料により構成されたサーメット層とを有するサーメット積層体の製造方法であって、上記基材上に、互いに異なる金属元素を含有する２種類以上の金属酸化物が含まれる金属酸化物膜を形成する金属酸化物膜形成工程と、上記金属酸化物膜に含まれる２種類以上の金属酸化物のうち、少なくとも１種類の金属酸化物を還元することにより、上記金属酸化物膜を、少なくとも１種類の金属と少なくとも１種類の金属酸化物とを含有するサーメット状態にする還元工程と、を有することを特徴とする、サーメット積層体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決するものである。 （もっと読む）

【課題】ＡＩＰ法、ＭＳ法で用いるターゲット材であって、ドロップレットの生成が抑制され、品質の高い皮膜を形成するのために好適なターゲット材を提供することである。
【解決手段】ＡｌとＭ成分、但し、Ｍ成分は４ａ、５ａ、６ａ族金属、Ｓｉ、Ｂ、Ｓから選択される１種以上の元素、を有するターゲット材において、該ターゲット材は、Ａｌ、Ｍ成分と該Ｍ成分の窒化物又は炭窒化物を有していることを特徴とする窒化物含有ターゲット材である。 （もっと読む）

【課題】ボイル殺菌やレトルト殺菌等の加熱殺菌や加熱調理等による加熱処理がなされても密着性が低下せずに、加熱処理前に有していた当初のガスバリア性が劣化しないようにした、加熱処理耐性を有するガスバリア性積層体の提供を目的とする。
【解決手段】ポリエチレンテレフタレート製基材上に少なくとも無機酸化物からなる蒸着薄膜層が積層されているガスバリア性積層体であって、無機酸化物からなる蒸着薄膜層が積層されている基材の少なくとも一方の表面には放電処理を利用した前処理により前処理部が形成されていると共に、Ｘ線光電子分光法により測定した当該処理部のＣ−Ｃ結合ピークとＣ−Ｏ結合ピークとのピーク間距離が１．６５〜１．７６ｅＶであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 蒸着された放射線像貯蔵燐光体パネルを再現可能な方法で製造するための方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に放射線像貯蔵燐光体層を製造する方法であって、前記方法が蒸着装置において一つ以上の抵抗加熱されたるつぼから結合剤のない貯蔵燐光体層の蒸着を確実にするためにアルカリ金属ハロゲン化物塩及びランタノイドドーパント塩又はそれらの組み合わせの原材料を蒸着する工程を含み、一つ以上のシャッターが前記るつぼと前記支持体の間に位置されている方法において、前記蒸着工程がシャッターを開放している間に開始するとき、追加の加熱が適用されるとき、蒸着される支持体の側とは反対の支持体の後側の支持体の近くに位置された熱電対によって測定及び記録される開始温度が１００℃以上、２５０℃未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基体の疲労特性に対する侵食被膜の有害な影響を緩和する方法を提供する。
【解決手段】 ガスタービンエンジンブレードのエアフォイルにおける磨耗や損傷を受けやすい径方向外側の領域に侵食被膜を適用する前に、被膜の疲労影響が緩和されるようにバニシングが施され（ステップ１０２）、次いでピーニングがその領域に対して実施され（ステップ１０４）、これに被膜が適用される（ステップ１０６）。これによりブレードの構造特性に有害な影響を与える侵食被膜がエアフォイルの一層広い領域にわたって適用できるようになる。 （もっと読む）

【課題】 誘電体膜形成用のスパッタリングターゲットを得るため、酸化ニオブに酸化珪素や酸化タングステンを加えた系などの酸化物を含む粉末をグラファイト型で熱間加圧焼結する際に、得られる焼結体あるいはグラファイト型の割れをなくすことができる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 低熱膨張率の酸化物を含む粉末を、グラファイト型を用いて熱間加圧焼結する焼結体の製造方法において、グラファイト型の割型２と外型３の間に空隙を設け、その空隙内にフラーレン５を充填し、真空雰囲気下で加熱保持してフラーレン５を蒸発消失させた後、熱間加圧焼結する （もっと読む）

【課題】高い熱伝導率を有する金属膜中に透明誘電体粒子を分散させた優れた放熱特性と高い透過率を有する半透過反射膜を、安定かつ高い作業効率で成膜可能な光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】半透過反射膜２５ａを構成する金属膜４０と同一材料の金属ターゲット４０ａの成膜粒子生成部位４５に、透明誘電体粒子４２と同一材料の複数の透明誘電体チップ４２ａとを配設したターゲット４４をスパッタリング装置に用いることで、金属膜４０中に透明誘電体粒子４２が分散した優れた放熱特性と高い透過率を有する半透過反射膜２５ａを、作業効率良く安定して成膜することができる。また、金属ターゲット４０ａの成膜粒子生成部位４５に配設する透明誘電体チップ４２ａが占める面積の割合を変化させることで、半透過反射膜２５ａの透過率の制御を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】
高速度切削、高送り切削、被削材の高硬度化などの厳しい切削加工条件において長寿命を実現できる切削工具用の被覆部材の提供を目的とする。
【解決手段】
基材の表面に被膜を被覆した被覆部材において、被膜の少なくとも１層は、（Ｍ_aＬ_b）Ｘ_c（但し、ＭはＣｒ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｖ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ，Ｙの中から選ばれた少なくとも１種の金属元素を示し、ＬはＭｎ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ｂ，Ｓｉ，Ｓの中から選ばれた少なくとも１種の添加元素を示し、ＸはＣ，Ｎ，Ｏの中から選ばれた少なくとも１種の非金属元素を示し、ａはＭとＬとの合計に対するＭの原子比を示し、ｂはＭとＬとの合計に対するＬの原子比を示し、ｃはＭとＬとの合計に対するＸの原子比を示す。）と表され、ａ，ｂ，ｃは、それぞれ０．８５≦ａ≦０．９９、０．０１≦ｂ≦０．１５、ａ＋ｂ＝１、１．００＜ｃ≦１．２０を満足する硬質膜からなる被覆部材。 （もっと読む）

【課題】複合材料からなる膜を成膜する成膜装置において、気体粒子生成温度が異なる複数の気体粒子生成部の温度制御性を改善する。
【解決手段】成膜装置１０は、真空チャンバー１１内に、第１気体粒子生成部２０と、第２気体粒子生成部２１と、第１，第２気体粒子生成部２０，２１の間にそれぞれ配置された２つの仕切り部材２５と、被加工基板Ｄが保持されている成膜部３０とを配置して構成されている。仕切り部材２５は冷媒によって冷却され、高温側の第２気体粒子生成部２１からの輻射熱による第１気体粒子生成部２０の温度上昇を抑制している。 （もっと読む）

【課題】酸化物イオン透過性に優れた電気化学セル用電解質膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式：Ｌａ_１−ＸＳｒ_ＸＧａ_１−ＹＭｇ_ＹＯ_３（式中、Ｘ＝０．０５〜０．３、Ｙ＝０．０２５〜０．３）で表される成分組成を有し、ペロブスカイト型結晶構造を有する酸化物イオン伝導体からなる電気化学セル用電解質膜であって、前記電解質膜は厚さが１〜１０μｍを有し、前記電解質膜は膜面に垂直方向に成長し膜表面まで成長した柱状晶組織を有し、前記膜表面まで成長した柱状晶組織を有する電解質膜のペロブスカイト型結晶構造は１１２方向が膜面に対して垂直方向に配向している結晶構造を有する。 （もっと読む）

【課題】摺動性と耐摩耗性とを両立する新規の構成の摺動層を備える摺動部材を提供する。
【解決手段】本発明の摺動部材は、基材３０と、基材３０の表面の少なくとも一部に形成され相手材と摺接する摺動層３１と、を備え、摺動層３１は、Ｃと、ＭｏＳ_２および／またはＷＳ_２と、Ｔｉおよび／またはＣｒと、からなり、基材３０の表面に形成され５〜２０ａｔ％のＴｉおよび／またはＣｒを含む第一摺動層３１１と、第一摺動層３１１に積層され第一摺動層３１１が最も高濃度となるように厚さ方向に濃度が傾斜したＴｉおよび／またはＣｒを含む第二摺動層３１２と、からなることを特徴とする。第一摺動層３１１は、Ｔｉおよび／またはＣｒを５〜２０ａｔ％含有する硬質な層であり、摺動の際の耐摩耗性が確保される。Ｔｉおよび／またはＣｒの濃度が傾斜する第二摺動層３１２は、優れた初期なじみ性を示し摺動性に優れる。 （もっと読む）

【課題】 スパッタリングにより付着された混合層で被覆された抗菌性基板（ガラス、セラミックまたは金属製）を提供する。
【解決手段】 この混合層は金属酸化物、オキシ窒化物、オキシ炭化物または窒化物の中から選ばれた結合物質に混合された少なくとも一つの抗菌物質を含む。この基板は抗菌性を与える。もし焼入れされかつ抗菌性のガラスが要求されるなら、同じコスパッタリング法が使用されることができ、任意に下層が付加されることができる。抗菌性は焼入れ工程後でさえ維持される。 （もっと読む）

【課題】高密度であって、焼結工程中に組成の変動が起こらず、成膜中に針立ちの発生やターゲットの変形およびひび割れ等の損傷が起こらず、高透明で低抵抗な透明導電膜を高速成膜により得ることが可能な蒸着用あるいはイオンプレーティング用材料を提供する。
【解決手段】本発明は、酸化インジウム(In₂O₃)と酸化タングステン(WO₃)と酸化マグネシウム(MgO)の化合物又は混合物であることを特徴とする光学薄膜用蒸着材料である。また、本発明は、酸化インジウム(In₂O₃)と酸化タングステン(WO₃)と酸化マグネシウム(MgO)の化合物又は混合物であって、高温酸素雰囲気あるいは高温大気雰囲気中において焼結させた焼結体であることを特徴とする光学薄膜用蒸着材料である。 （もっと読む）

【課題】光記録媒体の保護膜を形成するための高強度スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】モル％で、酸化ジルコニウムまたは酸化ハフニウム：１０〜7０％、二酸化ケイ素：５０％以下（０％を含まず）を含有し、必要に応じて酸化イットリウム：０．１〜８．４％を含有し、残部：酸化アルミニウム、酸化ランタンまたは酸化インジウムおよび不可避不純物からなる組成を有する光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲットにおいて、ターゲット素地中にＡｌ_６Ｓｉ_２Ｏ_１３、Ｌａ_２ＳｉＯ_５またはＩｎ_２Ｓｉ_２Ｏ_７の組成を有する複合酸化物相が生成している組織を有する高強度光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】対向ターゲット式スパッタ法を用いて、プラズマ粒子が存在する領域の外に化合物半導体の付いた基板を置いて、化合物半導体にプラズマ粒子による衝撃を与えないで絶縁性薄膜を形成するとともに、良質の化学量論的に純粋な絶縁性薄膜を形成して、半導体上に耐久性の高い薄膜を付与した素子の製造方法と製造装置を提供する。
【解決手段】対向ターゲットのスパッタリングにより基板上に薄膜を成膜するスパッタリング薄膜成膜方法において、前記対向ターゲット外淵と前記基板との中程に対向した反応性ガス導入口を設け、該反応性ガス導入口の向かっている方向が前記基板面中心部の垂線と概ね直角であって、各反応性ガス導入口の先端から前記垂線までの距離を５０から３００mmに設定し、基板付近での反応性ガス分圧を高めることで化学量論的に純粋な良質の絶縁性薄膜を得る。 （もっと読む）