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Fターム[4K029BA64]の内容

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Fターム[4K029BA64]に分類される特許

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【課題】大きな接触応力が作用するような条件下や無潤滑下においても好適に使用可能な転がり摺動部材及び転動装置を提供する。
【解決手段】スラスト玉軸受は、内輪1と外輪2と複数の玉3とを備えている。内輪1,外輪2と玉3との接触面、すなわち転がり摺動面には、パルス幅1ps以上5ps以下の短パルスレーザーの照射による微細加工が施されている。そして、転がり摺動面のうち微細加工が施されている部分には、ダイヤモンドライクカーボン膜Dが被覆されている。ダイヤモンドライクカーボン膜Dは、Cr,W,Ti,Si,Ni,及びFeのうちの1種以上の金属からなる金属層Mと、前記金属及び炭素からなる複合層Fと、炭素からなるカーボン層Cと、の3層で構成されていて、該3層はダイヤモンドライクカーボン膜Dの表面側からカーボン層C,複合層F,金属層Mの順に配されている。 (もっと読む)


【課題】有機顔料を金属酸化物中に分散させることで、発色を損なわずに、且つ基材に対しての高密着性、耐溶剤性を有する有機顔料分散型薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、Sn、In、Al、Znの内の少なくとも一つを有する金属からなる低硬度な金属粉末と有機顔料粉末を準備し、これらの粉末を混合して混合粉末を形成し、この混合粉末を冷間等方圧プレス或いは乾式等方圧プレスにより加圧成形することでスパッタリングターゲットを作製し、このスパッタリングターゲットを用いて、酸素と反応させる反応性スパッタリングを直流放電によって行うことにより、基材上に有機顔料分散型薄膜を形成する方法である。前記有機顔料分散型薄膜は金属酸化物中に有機顔料が分散されたものである。 (もっと読む)


【課題】親水性並びに汚染防止、抗菌、消臭作用等の多機能性を増加させた光触媒機能材料を主体とする光触媒コーティング剤及び蒸着加工方法を提供する。
【解決手段】光触媒機能材料に、助触媒として酸化トリウムゲル体又は希有元素類を含む鉱物、或いは酸化トリウムゲル体及び希有元素類を含む鉱物を含有させてなる光触媒作用を増幅させた光触媒コーティング剤を、ガラス、金属、樹脂、セラミック等の基材に蒸着加工した構成とする。 (もっと読む)


【要約書】
【課題】透過率に優れ、反射率の低下が少ないZnS−SiO系光情報記録媒体用誘電保護膜及び該誘電保護膜形成用スパッタリングターゲット得ることを目的とする。
【解決手段】ZnS:30〜95mol%、SiO:5〜70mol%、Mn:0.001≦Mn/(Zn+Mn+Si)≦0.2を含有し、Mn<Si(原子比)であることを特徴とするZnS−SiO系光情報記録媒体用誘電保護膜又はスパッタリングターゲット及びさらにS/(Zn+Mn)<1である上記ZnS−SiO系光情報記録媒体用誘電保護膜又はスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】大面積の基板上に結晶性に優れたオキシカルコゲナイド系半導体単結晶薄膜を製膜することができるオキシカルコゲナイド系半導体単結晶薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板11上に非単結晶AMOX系薄膜(Aはランタノイド元素およびYからなる群より選ばれた少なくとも1種類の元素、MはCuおよびCdからなる群より選ばれた少なくとも1種類の元素、XはS、SeおよびTeからなる群より選ばれた少なくとも1種類の元素)12を製膜し、その表面の少なくとも一部をA、MおよびXからなる群より選ばれた少なくとも1種類の元素を含む材料からなる粉末で覆い、この粉末に圧力を加えて圧粉体17とした後、真空または不活性ガス雰囲気中でアニールすることによりこの非単結晶AMOX系薄膜12を結晶化して単結晶AMOX系薄膜を製造する。 (もっと読む)


【課題】基板に向かって噴射されるエアロゾルの濃度を容易に制御できる成膜装置を提供することにある。
【解決手段】混合部10において材料粒子Mをこの材料粒子Mよりも粒径の大きいコア粒子Cに付着させ、これをエアロゾル発生槽40まで移送した後、衝突網41に衝突させてその衝撃力により材料粒子Mをコア粒子Cから離脱させる。そして、離脱した材料粒子Mをエアロゾル発生槽40においてキャリアガスに分散してエアロゾルを発生させる。ある程度大きな粒径をもつコア粒子Cは、成膜に用いられる微細な材料粒子Mと比較して系内での移送量の制御が容易であり、また詰まりも引き起こしにくいから、コア粒子Cの移送量を適切に制御することにより、エアロゾル発生槽40への材料粒子Mの供給量を制御し、ひいては、エアロゾル濃度を安定化することができる。 (もっと読む)


硬質材料被覆が単相でかつ結晶質の構造を有する、基材上の多機能性硬質材料被覆。課題は、金属性硬質材料膜の利点とイオン性硬質材料膜の利点とを併せ持つ硬質材料被覆を提案することである。前記課題は、少なくとも2の相互に溶解し得ない硬質材料からなる準安定混晶を材料成分として含み、その際、材料成分は少なくとも1の金属性硬質材料(4)及びイオン性硬質材料(6)を含むことを特徴とする前記硬質材料被覆により解決される。 (もっと読む)


第1および第2の別個に蒸発した材料を混合して基板表面に堆積させて層を形成する方法である。この方法では、第1の材料が金属を含み、第2の材料は非金属であり、蒸発した材料が基板表面上に供給可能になるように配設された混合マニホールドを提供すること;第1および第2の材料を別個に蒸発させる第1および第2の加熱素子を提供し、蒸発した材料が混合マニホールド内に供給可能になるように加熱素子を配設すること;および、第1および第2の材料を制御された速度で計量して第1および第2の加熱素子にそれぞれ供給し、金属を含んだ蒸発した材料を混合マニホールドに供給し、ここで第1および第2の材料を混合した後、基板表面に堆積させて、金属を含んだ層を形成することを含む。
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【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、(a)Cr硼化物層の表面層、(b)組成式:(Cr1−(X+Y)Al )N(ただし、原子比で、0.45≦X≦0.65、0.01≦Y≦0.10、0.50≦X+Y≦0.70を示す)、を満足するCrとAlとBの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Cr窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Cr窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ra:0.2μm以下としてなる。 (もっと読む)


【課題】蒸発源と基板との間の距離を大きくすることなく、基板面内における蒸着物質の蒸着角度の均一化を図る。
【解決手段】本発明では、スリット22aを有するスリット板22の移動制御と、基板支持台17の回転角度制御による蒸着物質の入射角制御とを同時に行うことによって、基板W面内における蒸着角度の均一化を図る。すなわち、スリット板22が基板W上の被蒸着領域を画定し、この画定された被蒸着領域に対する蒸着物質の入射角を基板Wの回転角度で制御することによって、基板W面内において蒸着物質の入射角の一様化を図り、蒸着角度の均一化を図る。好適には、基板W表面に対する蒸着物質の入射角の制御を、スリット板22の移動位置に対応して行う。基板Wの回転角度とスリット板22の位置とを互いに関連させることによって、蒸着角度の均一化を効率よく行うことができる。 (もっと読む)


本発明の対象は、コンポーネントを摩耗から防護する層物質、コンポーネントの摩耗防護コーティングのための新たな種類の方法、ならびに、この層物質を本発明の方法によりコンポーネント表面へ塗布することを可能にする装置である。この層物質は、低い摩擦係数と、滑り摩擦に対する非常に高い耐性とを有する、硬質物質化合物と遊離メタロイドからなる多相材料である。この方法は、化合物の両方の成分が物理的な蒸発源によって生成される、多相材料の反応性の析出である。方法を実施するために必要な設備は、特別な仕方で配置された少なくとも2つの物理的な蒸発源と、特別な回転テーブルとを含んでいる。
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耐食性中性子吸収コーティングの形成方法であって、スプレー、堆積、スパッタリング、または溶接処理をしてスプレー材料、あるいは、堆積材料、あるいは、スパッタリング材料、あるいは溶接材料と、中性子吸収材料と、からなる複合材料を形成するステップを含む。スプレー材料、あるいは、堆積材料、あるいは、スパッタリング材料、あるいは溶接材料と、中性子吸収材料と、からなる複合材料を含む耐食性中性子吸収コーティングも開示されている。
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【課題】レーザー光により情報の記録、再生、記録および再生、さらに消去を行う光記録媒体の保護膜を形成するための異常放電発生の少ないスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】導電性酸化亜鉛粉末または酸化亜鉛粉末:10〜30モル%、酸化ガリウム粉末:1〜15モル%、酸化インジウム粉末:1〜15モル%、表面に疎水性が付与された二酸化珪素粉末:1〜5モル%を含有し、残部:硫化亜鉛粉末となるように配合し混合して得られた混合粉末をホットプレスすることを特徴とする光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法。 (もっと読む)


【課題】基板への蒸着粒子堆積量のずれを補正可能な補正機構の、蒸発源とのマッチング性や取り扱い利便性を改善させた真空蒸着装置および基板蒸着方法を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置100は、内部10eを減圧可能な真空槽10と、真空槽10内に配置され、蒸着粒子を基板に向けて飛散させる蒸発源11a、11bと、真空槽10内の基板12を回転可能な基板回転機構22と、蒸発源11a、11bの蒸発ポイントPと基板12との間の偏倚量に相関する、基板12への蒸着粒子堆積量のずれを補正する補正部材31を有する補正機構30と、を備え、蒸着粒子が蒸発ポイントPから基板12に向けて飛散する間、補正部材31は、蒸着粒子が通過する気流領域A、B内を揺動する装置である。 (もっと読む)


【課題】金属とSiO2の混合膜を高速かつ安定してスパッタリングで形成可能な成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明は、金属とSiO2の混合膜の成膜方法であって、複数の成膜領域に分割した真空処理槽2内において、複数の成膜領域のうち第一成膜領域7にTaターゲット13a、13bを配置するとともに、第二成膜領域11にSiターゲット16a、16bを配置し、基板5を支持した状態で回転可能な回転支持ドラム3を、その回転に伴い基板5が第一及び第二成膜領域7、11を通過するように設け、第一成膜領域7においてスパッタリングを行い基板5上にTa膜を形成し、第二成膜領域11においてスパッタリング及び酸化を行い基板5上にSiO2膜を形成する工程を、回転支持ドラム3を回転しつつ連続的に繰り返し行う。 (もっと読む)


【課題】表面粗さが小さくピンホールが少ない2層フィルム、その製造方法、およびその製造方法を用いたプリント基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】高分子フィルム10と、高分子フィルム上に形成された窒素と60重量%以上100重量%以下のニッケルとを含む第1の金属膜12と、第1の金属膜上に形成された銅を主成分とする第2の金属膜14とを備え、第2の金属膜の表面粗さRzが1μm以下であり、ピンホールは直径30μmを超えず、20〜30μmが20個/m以下、10〜20μmが80個/m以下である2層フィルム。高分子フィルム上に窒素ガスを含む雰囲気下での真空蒸着法等により窒素と60〜100重量%のニッケルとを含む第1の金属膜を形成し、第1の金属膜上に0.001〜0.1Paの真空度において溶融温度を1300〜2500℃とした銅を用いた真空蒸着法により第2の金属膜を形成する2層フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】高密度プリント配線に用いられても、金属層が充分な密着強度を有する高分子層と金属層の2層フィルム、その製造方法、およびその方法を用いたプリント基板の製造方法。
【解決手段】高分子フィルム10と、高分子フィルム上にアンモニア、一酸化窒素、および二酸化窒素うちのいずれか1つのガスを含む雰囲気下で真空蒸着法またはイオンプレーティング法またはスパッタリング法により形成したニッケルを60重量%以上100重量%以下含む第1の金属膜12と、第1の金属膜12上に形成された銅を主成分とする第2の金属膜14とを備える2層フィルム。高分子フィルム上にアンモニア、一酸化窒素、および二酸化窒素よりなる群のうちのいずれか1つのガスを含む雰囲気下での真空蒸着法等によりニッケルを含む第1の金属膜12を形成する工程と、第1の金属膜上に銅を主成分とする第2の金属膜を形成する工程とを備える2層フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】Si基材上に均一にAuメッキ層を形成したり、ナノメータレベルの連続した金メッキ細線を形成したりする。
【解決手段】Si基材1上にAuメッキ層2を形成するAuメッキ方法であって、Si基材1上に、C、S及びAuを含み半導電性を有するC−S−Au膜よりなる下地層3を形成する下地層形成工程と、電気メッキによるAuメッキを施して下地層3上にAuメッキ層2を形成するAuメッキ工程とを備えている。Si基材1の表面に下地層3を形成してから、レジスト膜を部分的に形成して、レジスト膜以外の部分に下地層3のC−S−Au膜が表出したC−S−Au膜表出部を所定パターンで形成し、レジストの加工パターンをマスクとして、C−S−Au膜表出部上にAuメッキ層2を形成すれば、ナノメータレベルの連続したAuメッキ細線を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】点欠陥などの発生を抑制し、欠陥が少ない高品位な画像が得られる放射線像変換パネルを製造することができる放射線像変換パネルの製造方法および放射線像変換パネル製造装置を提供する。
【解決手段】閉塞された真空チャンバ12内で、気相堆積法により蛍光体層を形成する製造方法であって、真空チャンバ12内に基板70をセットする工程と、基板70がセットされた状態で基板の表面70dを除塵する工程と、蛍光体層を基板上に形成する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】経時変化が少なく、安定した膜質を有する保護層を任意に形成するのに適したスパッタリングターゲット、及び、そのスパッタリングターゲットを用いた信頼性、反射率、記録感度、記録特性(SDR、ジッタ、PRSNR、エラー率等)に優れた高密度光記録媒体の提供。
【解決手段】(1)SrSを含み、充填密度が70〜98%である光情報記録媒体用SrS含有スパッタリングターゲット。
(2)更にMとOを含む(1)記載のスパッタリングターゲット(但し、MはMg、Al、Si、Cr、Co、Ti、Ge、Y、Zr、Ta、W、希土類元素から選ばれる少なくとも1つの元素)。
(3)組成式(SrαS1−α)γ(MβO1−β)1−γ(但し、α、βは原子比、γはモル比)で表され、かつ、0.4≦α≦0.6、0.2≦β≦0.5、0.5≦γ≦1である(1)又は(2)記載のスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


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