【課題】 レンズが着色せず、良好な帯電防止性及び撥水性を有する薄膜及び光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、（ａ）パーフルオロアルキル基を有する化合物と、（ｂ）界面活性剤と、（ｃ）フラーレン類、カーボンナノチューブ類及び黒鉛化合物から選ばれる少なくとも１種類の導電性物質とを混合してなる撥水剤溶液を作製し、該撥水性溶液を蒸着原料として真空蒸着法にて薄膜を形成する薄膜の製造方法、並びに、光学基板と、該光学基板上に多層反射防止膜を形成してなる光学部材の製造方法において、該多層反射防止膜上に、前述の薄膜の製造方法により薄膜を形成する光学部材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング時にパーティクル発生が少ない相変化膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】原子％でＧｅを２０．２〜２４．２％、Ｓｂを２０．２〜２４．２％含有し、残部がＴｅおよび不可避不純物からなる組成を有しかつ六方晶構造のＧｅ_２Ｓｂ_２Ｔｅ_５相が質量％で９０％以上占めている組織を有するターゲットであって、このターゲットは前記組成を有するインゴットを熱処理したのち粉砕もしくは前記インゴットを粉砕して得られた合金粉末を熱処理したのち解砕した原料合金粉末を加圧焼結することにより得られる。 （もっと読む）

電気導電性ウェブを、エネルギーが５００ｅＶ以下の第１のイオンビームに付し、次に、エネルギーが少なくとも５００ｅＶ以上の、第１の金属のイオンを含む第２のイオンビームに付し、そして、エネルギーが少なくとも５００ｅＶ以上の、貴金属のイオンを含む第３のイオンビームに付すことを特徴とするアイオノマー性成分が実質的に除去された混合金属被膜をガス拡散媒体上に形成する方法及びガス拡散電極。 （もっと読む）

【課題】 アーカイバル特性と高速でのオーバーライト特性とを両立することができるようにする。
【解決手段】 第１の基板１１上に、記録再生光の入射方向から順に、上層誘電体層１２、界面層１３、記録層１４、下層誘電体層１５、反射層１６が順次積層されて、その上に保護層１７を介して第２の基板１８が設けられる。記録層１４がＳｎ_xＩｎ_yＧａ_zＳｂ_w（但し、３≦ｘ≦７、０≦ｙ≦７、６．８≦ｗ／ｚ≦８．８）により構成される。ｘ、ｙが３≦ｘ≦７、０≦ｙ≦７の範囲から外れると、高速で情報信号の記録を繰り返した場合にオーバーライト特性が低下してしまう。ｗ／ｚが６．８未満であると、高速で情報信号の記録を繰り返した場合にオーバーライト特性が低下してしまう。反対にｗ／ｚが８．８を越えると記録マークの形成が困難になる。 （もっと読む）

【課題】金属酸化物をセラミックマトリックス中に組み込むことにより熱障壁被覆の熱伝導率を低減する方法が提供される。
【解決手段】熱障壁被覆の熱伝導率を低減する方法は、一つまたは複数の層を形成するように基体上に、セラミックマトリックスと、金属酸化物を形成できる金属分散質とを含む混合物を堆積させ、金属分散質を酸化して一つまたは複数の層の熱障壁被覆を形成するのに十分な温度および時間で、一つまたは複数の層を加熱する、各工程を含む。熱障壁被覆は概略、セラミックマトリックスと、このセラミックマトリックス全体に亘って分散された金属酸化物とを含む。 （もっと読む）

【課題】 化学的に安定で、毒性がなく、導電性・透明性共に良好であり、容易かつ安価に膜形成が可能な透明導電性成形物を提供する。
【解決手段】 ＳｉＯ_x（Ｘは０．５以上２．０未満）と酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）を含有し、体積固有抵抗が０．０１Ωｃｍ未満である透明導電性成形物。 （もっと読む）

【課題】 ２種類以上の物質から安定した光学性能を有する混合膜を得ることができる薄膜形成装置及び薄膜形成方法並びにこの薄膜形成方法によって成膜された光学薄膜を提供すること。
【解決手段】 成膜される第一基板３に成膜物質を提供する第一スパッタリングターゲット５及び第二スパッタリングターゲット６と、第一基板３が配される第一ヤトイ１２及び第二基板１３が配される第二ヤトイ１５が配される回転保持具１６と、回転保持具１６を回転移動して第一位置１８と第二位置２０との間で第一ヤトイ１２及び第二ヤトイ１５を通過させる回転モータ２２と、回転保持具１６と第一スパッタリングターゲット５との間に配されて可変する第一開口部を有する第一可変機構２５と、回転保持具１６と第二スパッタリングターゲット６との間に配されて可変する第二開口部を有する第二可変機構２７と、第二基板１３の成膜状態を検出する測定器とを備えている。 （もっと読む）

【課題】NO_x 吸蔵材をさらに微細な状態で担持し、貴金属とNO_x 吸蔵材とを互いに高分散状態で担持する。
【解決手段】貴金属源と、NO_x 吸蔵材源と、担体酸化物源とを含むターゲットを用い、レーザーアブレーション法により担体酸化物に貴金属とNO_x 吸蔵材を担持する。
レーザー照射によって貴金属源とNO_x 吸蔵材源とはイオン状態あるいは中性粒子状態で原子レベルで混合され、それが原子レベルで担体酸化物源と混合されることになる。これにより貴金属及びNO_x 吸蔵材は、担体酸化物上に原子単位で分散担持され、互いに高分散状態で担持することができる。 （もっと読む）

【課題】有機発光層と有機化合物からなるキャリア輸送層を用いた高効率で、特性劣化の少ない発光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板上に、陽極と、前記陽極と対向する陰極と、前記陽極と陰極の間に設けられた有機化合物からなる発光層と、有機化合物からなるキャリア輸送層を有し、前記発光層と前記キャリア輸送層とが交互に積層されており、前記キャリア輸送層の膜厚は前記発光層の膜厚よりも薄く、前記キャリア輸送層が正孔輸送層の場合には前記発光層は電子輸送性発光層であり、前記キャリア輸送層が電子輸送層の場合には前記発光層は正孔輸送性発光層である。 （もっと読む）

【課題】輝尽性蛍光体膜の全体的の物性を把握し、常に一定の品質基準を満たす放射線画像変換パネルを製造する。
【解決手段】本発明に係る放射線画像変換パネルの製造方法は、所定の基板上に輝尽性蛍光体膜を形成し（ステップＳ１）、前記輝尽性蛍光体膜に超短紫外線を照射して前記輝尽性蛍光体膜を瞬時発光させると共に前記輝尽性蛍光体膜に潜像を形成し、前記瞬時発光された蛍光を検出した後、前記輝尽性蛍光体膜に輝尽励起光を照射して輝尽発光させ、当該輝尽発光された蛍光を検出する（ステップＳ２）。 （もっと読む）

【課題】 フッ素欠損を極力抑制し、かつ、剥離等が生じにくい反射防止膜又は反射膜として機能するフッ素系光学重合膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 真空容器内で、フッ化マグネシウム(MgF₂)等の金属フッ化物を加熱蒸発させるとともに、四フッ化炭素（CF₄）等のフッ素系ガスを導入し、プラズマ重合を用いた複合式イオンプレーティング法により基材の表面にフッ素系重合膜を形成する。フッ素系ガスに加えて、エチレン（CH₂=CH₂）等の有機系ガスを導入してもよい。これにより、フッ素欠損が補われて原子的には緻密な膜が形成されるとともに、それよりもやや大きいスケールにおいて膜の充填率が低下する。膜の充填率の低下により剥離等が防止されるとともに、膜の屈折率が低下し、反射膜又は反射防止膜として用いられた場合の損失を最小限に抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】０．６ｍｍ以下のより薄い光ディスク基板を用いても光ディスク基板が変形せず、しかもスループットを低下させることがない光ディスク基板成膜装置および光ディスク基板成膜方法を提供すること。
【解決手段】基板の面上に薄膜を成膜して光ディスクを作成する光ディスク基板成膜装置において、光ディスク基板１をホルダー部３で固定し、さらにホルダー部３に光ディスク基板１の被成膜領域Ｓの裏面の少なくとも一部と密着する密着支持面Ｓ'を設ける。 （もっと読む）

【課題】レーザー光により情報の記録、再生、記録および再生、さらに消去を行う光記録媒体の保護膜を形成するための異常放電発生の少ないスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】モル％で、酸化亜鉛：１０〜３０％、酸化ガリウム：１〜１５％、酸化インジウム：１〜１５％、二酸化珪素：１〜５％を含有し、さらに必要に応じて酸化アルミニウム：０．０５〜２％を含有し、残部：硫化亜鉛および不可避不純物からなる組成、並びに素地中に最大粒径：１５μｍ以下かつ平均粒径:０．５〜３μｍの範囲内にある二酸化珪素が分散している光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】小型の放射線画像情報記録読取装置に適用するに好適な、消去光量が少ないＩＰ（放射線画像変換パネル）を提供することにある。
より具体的には、少ない消去光量で短時間に、かつ、低コストで消去することができるＩＰを提供することにある。
【解決手段】気相堆積法により形成された蛍光体層を有する放射線像変換パネルであって、前記蛍光体層が柱状結晶構造を有し、かつ、この柱状結晶構造の占める前記蛍光体層中の相対密度が６０〜７０％の範囲にあることを特徴とする放射線像変換パネル。
前記蛍光体層はアルカリ金属ハロゲン化物系輝尽性蛍光体、より好ましくはセシウムハライド系輝尽性蛍光体からなることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】蛍光体層における柱状結晶の成長状態が均一で、画質ムラがない蛍光体シートを製造することができる蛍光体シート製造装置の提供。
【解決手段】真空チャンバ１２と、真空チャンバ内を、側面に設けられた排気口を介して排気する真空排気手段と、容器に収納された蓄積性蛍光体層の成膜材料を抵抗加熱によって加熱し、容器の開口部から成膜材料の蒸気を放出させる抵抗加熱手段と、抵抗加熱手段の上方において、基板を保持する基板保持手段１４と、蛍光体層の成膜中に、真空チャンバ内の真空度を調整するために、少なくとも１つのガス導入口を介して真空チャンバ内に不活性ガスを導入するガス導入手段とを有する。ガス導入口６０ａ，６２ａの縁部と排気口の縁部とを直線的に結んで形成される第１の領域と、抵抗加熱手段の容器の開口部の縁部と基板Ｓの縁部とを直線的に結んで形成される第２の領域とが交わらないようにガス導入口が設けられている。 （もっと読む）

切削工具のための、工作物の耐摩耗性を改善するための多層構造を備える多層硬物質被覆に、ＸがＮ、Ｃ、Ｂ、ＣＮ、ＢＮ、ＣＢＮ、ＮＯ、ＣＯ、ＢＯ、ＣＮＯ、ＢＮＯ、ＣＢＮＯのいずれか一種の元素、望ましくはＮまたはＣＮである、少なくとも一つの（Ａｌ_ｙＣｒ_１−ｙ）Ｘ層（０．２≦ｙ≦０．７）、及び／または、一つの（Ｔｉ_ｚＳｉ_１−ｚ）Ｘ層（０．０１≦Ｚ≦０．３）が含まれている。該硬物質被覆はさらに、一つの（ＡｌＣｒＴｉＳｉ）Ｘ混合層、その次にさらに一つの（Ｔｉ_ＺＳｉ_１−Ｚ）Ｘ層、その次にさらに一つの（ＡｌＣｒＴｉＳｉ）Ｘ混合層、その次にさらに一つの（Ａｌ_ｙＣｒ_１−ｙ）Ｘ層からなる、少なくとも一つの層パッケージを備えている。
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【課題】 低炭非鉛快削鋼の切削において切削面の品質を向上し、低炭非鉛快削鋼の切削面品質を、従来の低炭鉛快削鋼で実現できていたレベルを超えて良好な品質にすることのできる切削工具を提供する。
【解決手段】 主切れ刃と副切れ刃のいずれか一方又は両方の刃先丸みが半径５０μｍ以下であり、被削材と接触する面の一部又は全部の表層が硬質被膜で被覆されてなり、該硬質被膜は、原子％でＮ：４０〜６０％、Ｔｉ：４０〜６０％を含むことを特徴とする切削工具である。硬質被膜はさらにＡｌ又はＺｒの１種又は２種を原子％で４０％以下の範囲で含む。低炭非鉛快削鋼の切削に用いたとき、鋼が刃先に凝着しにくいために構成刃先が生成しづらく、刃先丸みを半径で５０μｍ以下とすることによって従来にない良好な表面粗さを実現できると同時に、刃先の欠けが発生しづらく、十分に良好な工具寿命を実現できる。 （もっと読む）

【課題】ステンレス鋼からなる装飾品で、耐食性が高く、ニッケルの溶出が極めて少なく、耐傷付き性に優れた白色被膜を有する装飾品を提供すること。
【解決手段】ステンレス鋼からなる装飾品用基材と、該基材表面に湿式メッキ法で形成されたバリアー層と、該バリアー層の表面に乾式メッキ法により形成された下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された耐摩耗層、および該耐摩耗層の表面に乾式メッキ法により形成された最外層からなる発色層とから構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、高い厚さ均一性および／または高い有効表面積を有するナノ粒子を含有する多孔質無機材料またはマトリックス材料の製造の方法、ならびに本方法により得ることができる材料に関する。上述した方法によって、所定の厚さが平均厚さの±１０％、好ましくは±５％の範囲にある材料が得られる。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基材とハードコート層との屈折率の差に起因する干渉ムラの発生がし難くなっていると共に、積層される薄膜層の密着が良好な光学積層部材とこの光学積層部材を低コストで量産できるようにした光学積層部材の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】蒸着釜内に金属および／または金属酸化物の蒸着薄膜形成部分と有機化合物の薄膜形成部分とを適宜の間隔で設定すると共に、これらの各薄膜形成部分を経由してシート状のプラスチック基材を同一の減圧環境下で同一の減圧環境下の順次搬送させ、その少なくとも一方の表面に金属および／または金属酸化物と有機化合物の成分比率を厚さ方向に漸次変化させながら有機−無機成分傾斜構造薄膜層を設けた後、その上にプラスチックからなるハードコート層を設ける。 （もっと読む）