【課題】本発明は、有機化合物を含む発光素子を製造するための装置および方法に関する。
【解決手段】これらの素子には、有機発光ダイオードが備えられており、ディスプレイまたはかかる発光ダイオードを有する照明素子であってもよい。本発明の目的は、製造のために使用する時間のコストに関する製造経費を低減することである。この場合、既に前処理された基板が連続式真空コーティングプラントにおいてさらに加工される。かかる基板上には、その上方に発光のために適合する有機化合物の少なくとも一つの層が蒸着することが意図されている電極が形成される。蒸着は相違する角度分布を備えて行われる。このためにはシャドーマスクが使用される。蒸着における角度分布は、シャドーマスクから基板までの間隔および／または上部電極および有機物層を蒸着するためのソースの基本圧を変化させることによって適応させることができる。 （もっと読む）

【課題】 基板の表面に形成する薄膜に混入する還元作用を有するガスの量を抑制するとともに、基板の表面または基板の表面に形成する薄膜に与える損傷を抑制して基板の表面に結晶性の高い薄膜を形成することができる分子線エピタキシャル成長装置および分子線エピタキシャル成長方法を提供する。
【解決手段】 成長室１３の収容空間１２には、ウエハ１８を保持するマニピュレータ２１、分子線を発生する分子線源２２および液体窒素によって冷却されるシュラウド２３が設けられる。収容空間１２には、ウエハ１８が直接見込めない位置から、分子状態の水素ガスが導入される。収容空間１２に導入された水素ガスの分子は、シュラウド２３の表面に衝突しながら拡散する。収容空間１２に拡散された水素ガスを含む雰囲気において、分子線エピタキシャル成長を行い、ウエハ１８の表面に高品質な薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】結晶性の良好な導電性複合酸化物層が得られる導電性複合酸化物層の製造方法を提供すること。
【解決手段】導電性複合酸化物層の製造方法は、基体の上方に、第１酸素濃度で行われる第１スパッタリングによって、一般式ＡＢＯ_３で表される第１導電性複合酸化物層を形成する工程と、
前記第１導電性複合酸化物層の上方に、少なくとも第１酸素濃度よりも酸素濃度が低い第２酸素濃度で行われる第２スパッタリングによって、一般式ＡＢＯ_３で表される第２導電性複合酸化物層を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】同一の分子線材料を有する分子線セルを複数有する分子線エピタキシャル装置の稼動率を向上させ、かつ、成膜において高い再現性を実現する、分子線エピタキシャル装置の制御装置を提供する。
【解決手段】分子線エピタキシャル装置１００の制御装置１１８は、同一の分子線材料１０５を有する複数の分子線セル１０７について、各分子線セル１０７内の分子線材料１０５の残量を求める残量算出部４０５と、次回の成膜における各層での同一の分子線材料１０５の合計の消費量を等しくしたまま、上記各分子線セル１０７における設定を変更したものについて、次回の成膜後の当該各分子線セル１０７に残存する分子線材料１０５の予測消費時間を算出する予測消費時間算出部４０６と、上記予測消費時間の差が小さくなるように、次回の成膜での上記各分子線セル１０７における設定を決定するセル設定決定部４０７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】安価で且つ効率良く製作し得る、回転円筒型マグネトロンスパッタリングカソード用ターゲット組立体、それを用いたスパッタリングカソード組立体、及び回転円筒型マグネトロンスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】回転円筒型マグネトロンスパッタリングカソード用ターゲット組立体Ａは、６面以上の多面筒状支持体１の各外側面１aにバルク状の短冊形ターゲット材料片２をそれぞれ接合して、このターゲット材料片２の外周面を円筒状に加工して構成される。 （もっと読む）

【課題】大きな接触応力が作用するような条件下や無潤滑下においても好適に使用可能な転がり摺動部材及び転動装置を提供する。
【解決手段】スラスト玉軸受は、内輪１と外輪２と複数の玉３とを備えている。内輪１，外輪２と玉３との接触面においては、内輪１，外輪２，玉３の母材に、潤滑性を有し且つ等価弾性定数が１００ＧＰａ以上２４０ＧＰａ以下であるＤＬＣ層Ｄが被覆されている。そして、母材のうちＤＬＣ層Ｄが被覆されている部分の表面粗さＲａは、０．０５μｍ以上０．２μｍ以下とされている。さらに、ＤＬＣ層Ｄは、Ｃｒ，Ｗ，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｎｉ，及びＦｅのうちの２種以上の金属からなる金属層Ｍと、前記金属及び炭素からなる複合層Ｆと、炭素からなるカーボン層Ｃと、の３層で構成されていて、該３層はＤＬＣ層Ｄの表面側からカーボン層Ｃ，複合層Ｆ，金属層Ｍの順に配されている。 （もっと読む）

【課題】作業効率の向上を図り得る真空蒸着用アライメント装置を提供する。
【解決手段】マスク保持体５により保持されたマスク体４と基板保持体７により保持されたガラス基板６との位置合わせを、蒸着用とは異なる位置合わせ用真空容器２内で行うとともに、各真空容器に対するこれらの搬入出を、マスク体４に基板６を載置し、さらにこの基板に押さえ板９を載置した状態で、搬送手段１７にて行うようにした装置であって、搬送手段により支持されたマスク体をマスク保持体にて保持した際に、押さえ板だけを持ち上げ得る押さえ板支持棒７２を当該マスク保持体の保持枠７１に設けるとともに、マスク体に基板が載置された状態で昇降手段１６にて基板保持体を上昇させた際に、当該基板保持体の保持枠７４に、基板だけを持ち上げ得る基板支持棒７５を設けたもの。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性が、小さな摩擦係数で燃料供給ユニットの寿命全体を通して保証される、耐摩耗性コーティング、およびこのようなコーティングの製造方法を提供する。
【解決手段】特に燃料供給ユニット用の、摩擦摩耗に曝された焼結材料からなる機械またはエンジン部品１の所定の表面２上の耐摩耗性コーティングであって、機械またはエンジン部品１の所定の表面２にｓｐ^２およびｓｐ^３混成カーボンを有する少なくとも１つの無金属アモルファス炭化水素層５を含む耐摩耗性コーティングを行う。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性が優れると同時に耐焼付性も優れ、かつ相手攻撃性も小さく、しかも摩擦係数も小さい摺動部材を提供する。
【解決手段】第１基材１１及び第１基材１１上に形成された第１摺動層１２を有する第１部材（シフトフォーク）１と、第２基材２１及び第２基材２１上に形成され第１摺動層１２と摺動する第２摺動層２２を有する第２部材（ハブスリーブ）とからなる。第１摺動層１２は硫化鉄層、リン酸マンガン層、ｃ−ＢＮ層又はＡｇめっき層であり、第２摺動層２２はダイヤモンドライクカーボン層である。 （もっと読む）

【課題】 樹脂基板と金属膜との密着力を充分に得ることのできる金属膜付基板の製造方法及び該方法を用いて得られる金属膜付基板を得ることを課題とする。
【解決手段】 基板上にクロムまたはクロム系合金からなる第１下地層を形成する第１ステップと、第１ステップにより形成された第１下地層の上に第２の下地層の形成後，第１及び第２下地層が形成された基板を酸素雰囲気中にてプラズマ処理する第２ステップと、第２ステップによりプラズマ処理された第２下地層の上に金属層を形成する第３ステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】形状安定性を損なうことなく可撓性を有するシートを保持する。
【解決手段】一側が第２加圧部材１４により支持された可撓性のあるシート部材３４に対し、他側から環状弾性部材１２を圧接して、シート部材３４を環状弾性部材１２とシート部材３４との間に生じる摩擦力によって、歪み等を発生させることなく拘束する。そして環状弾性部材１２を環をたどる方向の中心線を中心に回転させることによりシート部材３４に対し放射状の張力を作用させることによりシート部材３４が例えば熱応力等により変形することを回避する。 （もっと読む）

【課題】（ＡｌＣｒ）Ｎ系皮膜又は（ＡｌＣｒＳｉ）Ｎ系皮膜よりも高硬度で耐酸化性に優れ、同時に熱応力が作用する環境下においても安定して優れた耐摩耗性及び密着強度を発揮し、高温における強度・靱性を高めた硬質皮膜又は該硬質皮膜を被覆した被覆工具を提供することである。
【解決手段】基材表面に被覆する硬質皮膜であって、該硬質皮膜の少なくとも１層は、（Ａｌ_{１−ｘ−ｙ−ｚ}Ｎｂ_ｘＣｒ_ｙＳｉ_ｚ）の窒化物、炭化物、硼化物、酸化物、硫化物から選択される１種以上もしくはこれらの固溶体からなり、但し、ｘ、ｙ、ｚは夫々原子比率を示し、０．０４＜ｘ＜０．４０、０．０６＜ｙ＜０．４０、０≦ｚ＜０．２０、０．１０＜ｘ＋ｙ＋ｚ＜０．５０、を満足することを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】本発明は基材との付着力が強く、磨損と腐食に耐えることができる多層フィルム構造を提供する。
【解決手段】本発明のダイヤモンド状カーボンフィルムは、ｎ層構造を有する多層フィルムであって、前記ｎの値は６〜３０であって、各層の成分は、カーボン、水素及びＸ元素を含むダイヤモンド状カーボンであって、前記Ｘは、クロム、チタニウム、クロムとチタンの合金、又は窒化クロムの一つであって、且つ第一層から第ｎ層まで、各層のＸ成分の原子パーセンテージは次第に減少する。前記ダイヤモンド状カーボンフィルムの第ｍ層の成分は、ａ−Ｃ：Ｈ：（ｎ−ｍ＋１）Ｘであって、ｍの値は、１〜ｎである。前記ダイヤモンド状カーボンフィルムは保護フィルムとして、鋳型、カッター、磁気記録媒体などの領域に用いられる。 （もっと読む）

【課題】 膜厚制御誤差が小さい多層膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 蒸着源４を有するチャンバ１内に、複数の基板を保持するホルダ５と、成膜中に所定の観測波長の光に対する反射率又は透過率をモニタして各層の膜厚を制御するために、各層を形成するごとに切り替わってホルダ５の開口部5aに露出する複数の第一のモニタ基板11と、多層膜の反射率又は透過率の分光特性をモニタするために、ホルダ５上に設置された第二のモニタ基板12とを有する装置により基板上に多層膜を形成する方法であって、第一のモニタ基板11の各層の反射率又は透過率から算出される各層の屈折率と、各層の屈折率及び第二のモニタ基板12上の多層膜の反射率又は透過率の分光特性から推定される各層の物理膜厚とに基づいて以降形成する層の膜厚の設計値を変更する工程を有することを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】 期待通りの性能を奏する被膜を形成する。
【解決手段】 この成膜装置１０によれば、真空槽１２内のプラズマ領域６４内でイオン化された材料、例えば窒素イオンおよびホウ素イオンは、当該プラズマ領域６４内にある被処理物３６，３６，…に照射される。これによって、被処理物３６，３６，…の表面に、窒素およびホウ素の化合物であるｃＢＮ膜が形成される。ここで、被処理物３６，３６，…には、バイアス電力Ｅｂとして、周波数ｆが１０［ｋＨｚ］〜３００［ｋＨｚ］のパルス電力が供給される。従って、例えば当該バイアス電力Ｅｂとして高周波電力が供給される場合に比べて、表皮効果による影響が抑制され、ひいては被処理物３６，３６，…の変質が防止される。よって、期待通りの高硬度なｃＢＮ膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】高速加工およびドライ加工でさらなる長寿命化を達成することができる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】基材と基材上に形成された被覆膜とを備え、被覆膜は、周期律表のＩＶＡ族元素、ＶＡ族元素、ＶＩＡ族元素、ＡｌおよびＳｉからなる群から選択された少なくとも１種の元素の窒化物からなるＡ層と、Ｃｒの窒化物からなるＢ層と、が交互に積層されて構成されており、Ａ層およびＢ層の厚みはそれぞれ０．２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、Ａ層の厚みをλａとし、Ｂ層の厚みをλｂとしたときに、互いに接しているＡ層およびＢ層の厚みの比であるλａ／λｂの値が、基材に最も近い位置においては１．５よりも大きく、基材側から前記被覆膜の最表面側に進むにしたがって連続的および／または段階的に減少していき、被覆膜の最表面に最も近い位置においては１未満となる、表面被覆切削工具である。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置に用いられる基板に蒸着材料を真空蒸着する坩堝において、蒸着材料を最大限使い切ることができる発明を提供する。
【解決手段】その長手方向が基板１０の一辺と略同じ長さを有する直方体の箱形であって、その内部に蒸着材料を貯留するための貯留部２４と、貯留部２４に貯留された蒸着材料を加熱する加熱手段と、貯留部２４の上面に配置され、加熱手段により加熱されて昇華した蒸着材料が出射する吹出口２８を備えた蓋体２６とを備え、貯留部２４が複数の区画壁３０により長手方向に沿って複数に区画され、区画壁３０は、蓋体２６と距離をおいて配され、かつ、長手方向の中央部に対し周辺部で高さが低くなるよう形成される。 （もっと読む）

【課題】高いガスバリア能を有し、かつカール耐性に優れたガスバリア性薄膜積層体、ガスバリア性樹脂基材を高い生産性で提供し、またガスバリア性薄膜積層体、ガスバリア性樹脂基材を用いて密着性及びガスバリア耐性に優れた有機エレクトロルミネッセンスデバイスを提供する。
【解決手段】ポリマー膜と無機膜をそれぞれ少なくとも１層有するガスバリア性薄膜積層体において、該ポリマー膜の少なくとも１層が、大気圧またはその近傍の圧力下で重合性モノマーを含むガスを基材の表面に吹き付け、基材表面上で重合させて形成された重合膜であることを特徴とするガスバリア性薄膜積層体。 （もっと読む）

ガラス状基材に減圧下で適用される薄層のスタックによって形成される、層（Ｂ）と基材との間に配置された少なくとも１つの層（Ａ）の少なくとも一方の表面部分の処理方法は、少なくとも１つの薄層（Ａ）を前記基材の表面部分に減圧堆積プロセスによって堆積し、少なくとも１つのリニアイオン源を用いて、イオン化された種のプラズマをガス又はガス混合物から発生させ、該プラズマに前記層（Ａ）の少なくとも一方の表面部分をさらして、前記イオン化された種により該層（Ａ）の表面状態を少なくとも部分的に改質するようにし、少なくとも１つの層（Ｂ）を該層（Ａ）の表面部分に減圧堆積プロセスによって堆積することにある。 （もっと読む）

【課題】 高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆切削工具が、超硬基体の表面に、あるいは、高速度工具鋼基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａ及びＢは、特定な組成式を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＴａ_Ｙ］Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．５０〜０．６５、Ｙは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）