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Fターム[4K029BB03]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被膜構造 (4,668) | 被膜形態 (3,472) | 部分被膜、模様被膜 (622)

Fターム[4K029BB03]に分類される特許

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【課題】ライン状の蒸発容器において、温度むらや蒸発材料の偏りがあっても、蒸発材料の利用効率を下げることなく、大型基板においても、蒸着による薄膜の膜厚分布の均一性を向上することができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置において、同一径の複数の放出孔13を線状に配置すると共に、放出孔13を両端部側で密に配置した蒸発容器8の内部に、蒸発材料7の蒸気が通過する同一径の複数の通過孔18を有する整流板14を設け、放出孔13の配置方向における単位長さあたりのコンダクタンスについて、通過孔18によるコンダクタンスを、放出孔13によるコンダクタンスと比例するように、両端部側で密に配置した。 (もっと読む)


【課題】透明な薄膜を堆積し、パターン構造を直接堆積する方法を提供する。
【解決手段】透明な薄膜を堆積し、パターン構造を直接堆積する方法であって、パルスレーザ源を提供し、前記パルスレーザ源が出射するレーザ1を透明な基板3を介してターゲット5上に集光させて、前記レーザのエネルギーを使用して前記ターゲットの部分を融除又は蒸発させ、前記基板を前記ターゲットに対して並進運動させる、前記融除又は蒸発された前記ターゲットの材料が前記基板上に堆積し、前記基板上にパターン構造を形成できるようにする。 (もっと読む)


【課題】マイクロ電池製造時のリチウム真空堆積プロセスで用いられるメカニカルマスクから安全にリチウムを除去するとともに、該リチウムをリサイクルする方法を提供する。
【解決手段】支持体上の金属リチウムの除去方法は、プラズマ応用ステップを備える。プラズマは、50Wから400Wの間のパワーを持つ炭素源及び酸素源から形成される。プラズマは、金属リチウムを炭酸リチウムに変換する。さらに、水溶液に炭酸リチウムを溶解させるステップを備える。 (もっと読む)


【課題】可撓性及び耐薬品性を具備して、フレキシブルディスプレイ装置に好適な透明導電膜を提案する。
【解決手段】可撓性の基板2上に設ける透明導電膜3であって、前記基板側に設けた非結晶性の第1透明導電層3−1と、該第1透明導電層上に設けた結晶性の第2透明導電層3−2とを含んで形成してある。第1透明導電層3−1はSnO含有割合が10質量%以上のITO層(インジウムスズ酸化物の透明膜)またはIZO層(インジウム亜鉛酸化物の透明膜)であり、第2透明導電層3−2はSnO含有割合が1質量%以上10質量%未満のITO層とするのが望ましい。 (もっと読む)


【課題】発光効率が高く、量産性も高い有機EL素子の透明電極の製造方法を提供する。
【解決手段】有機電界発光素子の製造方法は、基板の上に画素電極を形成する画素電極形成工程と、前記画素電極の上に有機層を形成する有機層形成工程と、前記有機層の上に対向電極を形成する対向電極形成工程と、を含み、前記対向電極形成工程は、前記有機層側に第1の電極層を成膜する工程と、前記第1の電極層を成膜する工程の後に、前記第1の電極層の成膜速度よりも高速の成膜速度で第2の電極層を成膜する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】高速かつ簡単で、精度の良いマスクの位置合わせが可能なマイクロコンポーネントの製造方法を提供する。
【解決手段】例えばマイクロバッテリであるマイクロコンポーネントは、基板上に少なくとも2つの重ねられた層を持つ積層体を有し、温度の影響下で拡張可能な単一のスチールマスク6を用いて形成される。マスク6は、少なくとも1つの中心から外れた開口7を有する。マスクが第1の温度(T1)の時、マスク6aの開口7aを介して第1の層が堆積される。マスクが、前記第1の温度(T1)より高い第2の温度(T2)の時、マスク6bの開口7bを介して第2の層が堆積される。最後に、マスクが前記第2の温度(T2)より高い第3の温度(T3)の時、マスク6cの開口7cを介して第3の層が堆積される。 (もっと読む)


【課題】単結晶半導体基板を分割して得られた成膜マスクであって、分割時に生じるバリ等で表面の平滑性が損われない成膜マスク。
【解決手段】支持基板30と支持基板30に取り付けられた複数のチップ20とからなり、被成膜基板42に対向する第1表面11と膜材料源に対向する第2表面12とを有する成膜マスク10であって、チップ20は、単結晶半導体基板7に枠状の溝16を第1表面11側から形成後、溝16に外力を加えて破断分割して得られたチップ20であり、チップ20の側面部は溝16の一部である平滑面19と破断分割時に生じた破断面18とを有しており、破断面18は第1表面11側には形成されていないことを特徴とする成膜マスク。 (もっと読む)


【課題】大型基板量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第1方向に沿って複数の第1スリットが形成される第1ノズルと、第1ノズルと対向するように配され、第1方向に沿って複数の第2スリットが形成される第2ノズルと、第1ノズルと第2ノズルとの間に第1方向に沿って配されて、第1ノズルと第2ノズルとの間の空間を複数の蒸着空間に区画する複数の遮断壁を備える遮断壁アセンブリーとを備える薄膜蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】品質(電気光学特性)を向上させることができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被成膜基板11aと、被成膜基板11aの表面(素子形成側)に設けられた発光素子27の領域と、被成膜基板11aの表面と対向する裏面に設けられた磁性体膜40と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板表面におけるSi等の材料から成る対象表面部のみに選択的に薄膜を形成するうえで、CVD法を用いることなく、簡便に基板上に選択的に膜を形成する選択的膜製造方法を提供する。
【解決手段】圧力10〜202kPa(76〜1520Torr)の水素及び希ガスの混合ガスを主体とする反応ガスが充填された反応室内に、比較的高温に保持した基板、及び、比較的低温に保持した、水素化物が揮発性であるターゲットを平行に配置し、基板とターゲットの間に放電を生起させることで、対象表面部上と、他の表面上との間での膜堆積速度の違いを利用して対象表面部上に選択的にターゲットの薄膜を形成する。希ガスとしてはHeやNeを好適に用いることができる。 (もっと読む)


【課題】基板を搬送しながら行う蒸着において、蒸着位置精度を向上して緻密なパターンの形成を可能にする。
【解決手段】蒸着マスク16R,16G,16Bによる蒸着位置の基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段4により、蒸着マスク16Bに形成されたアライメントマークと有機EL表示用基板9表面に予め形成されたピクセルとを撮像し、該撮像画像に基づいてアライメントマークの基準位置とピクセルの基準位置との間の位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量が所定値となるようにアライメント手段5により蒸着マスク16R,16G,16Bを上記基板面に平行な面内にて搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせしながら、搬送中の有機EL表示用基板9のピクセル上に所定のパターンを蒸着して形成するものである。 (もっと読む)


【解決手段】本発明は、基板が搬送される搬送チャンバーと、前記搬送チャンバーの両側にそれぞれ結合された第1および第2の工程チャンバーと、を備え、前記第1および第2の工程チャンバーのそれぞれは、互いに離間して設けられる第1および第2の基板ホルダーと、前記第1および第2の基板ホルダーの間に設けられて前記第1および第2の基板ホルダーに向けて順次に蒸着原料を供給する噴射ユニットと、を備える薄膜蒸着装置およびこれを備える薄膜蒸着システムを提供する。このように、本発明は、搬送チャンバーの両側に同じ工程を行う多数の工程チャンバーが連結されることにより、多数の基板に対する薄膜工程を並行して実施して工程速度を高めることができる。 (もっと読む)


リフトオフ法を用いる蒸着装置は、蒸発源と、蒸発源を通る第1の軸の周りにおける回転のために取り付けられたスペースフレームと、スペースフレームに取り付けられた中央のドーム状ウエハホルダであって、該中央のドーム状ウエハホルダの中心点が第1の軸と整列している、中央のドーム状ウエハホルダと、第1の軸からオフセットする位置にてスペースフレームに取り付けられた周回軌道型ドーム状ウエハホルダであって、該周回軌道型ドーム状ウエハホルダの中心点及び蒸発源を通る第2の軸の周りを回転可能である、周回軌道型ドーム状ウエハホルダと、中央のドーム状ウエハホルダ及び周回軌道型ドーム状ウエハホルダにある複数のウエハ位置であって、該複数のウエハ位置は、それぞれ、第1の軸及び第2の軸からオフセットしている、複数のウエハ位置とを有する。複数のウエハ位置は、それぞれ、第1の軸及び第2の軸の周りを回転中に、ウエハ位置から蒸発源に延びる放射軸と実質的に直交する、該ウエハ位置に取り付けられたウエハの基板表面に配向されている。
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【課題】材料の利用効率が高い成膜用基板を提供する。また、前記成膜用基板を利用して材料の利用効率が高い成膜方法を提供する。
【解決手段】異なる成膜特性を有する複数の領域を支持基板100の第1の面に形成した成膜用基板150を用意し、前記成膜用基板150の第1の面に成膜可能な材料を成膜し、前記材料が成膜された成膜用基板150の第1の面と被成膜基板を対峙して配置し、前記異なる成膜特性に応じた複数の成膜方法を順次用いて、1枚の成膜用基板150から複数の被成膜基板に前記材料を成膜すれば良い。 (もっと読む)


【課題】本発明は真空チャンバ内部の圧力状態に依存せず、特に1辺の長さが1mを超える大形基板に対して精密なパターニングに向けた高精度基板アライメントが可能な成膜装置または成膜システムを提供することである。
【解決手段】本発明は、基板とマスクとのアライメントを行い成膜材料を基板に真空成膜する真空チャンバを有する成膜装置またはシステムにおいて、前記真空チャンバの内部に設けた剛体の第1基準部材、真空チャンバの外部に設けた剛体の第2基準部材及び一端を前記第1基準部材の固定し、前記真空チャンバの壁に設けた貫通孔を通して他端を前記第2基準部材に固定された剛体の支柱を複数具備するかご構造体と、前記かご構造体を前記真空アライメントチャンバの所定位置に維持するフローティング機構と、前記支柱を覆い前記真空チャンバの気密性を確保し、アライメントマークを撮像する撮像手段を前記剛体のいずれかに取付けたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】平均クラスターサイズが2nm以下の金クラスターの調製法を確立するとともに、高い選択性が要求される酸化反応や水素化反応等の触媒として利用可能な金ナノクラスターを提供する。
【解決手段】アークプラズマ蒸着法を用いることにより、チタニア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、又はセリアからなる金属酸化物或いはこれらの複合酸化物表面上に担持された、平均クラスターサイズが2nm以下の金ナノクラスターを得ることができ、得られた金ナノクラスターと金属酸化物の複合体は、酸化反応や水素化反応等の触媒として用いることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、真空チャンバ内部の圧力状態に依存せずに、例えば、1辺の長さが1mを超える大形基板に対して、蒸発源の安定したスキャン動作が行える駆動機構を備えた信頼性の高いまたは稼働率の高いあるいは安定して蒸着が可能なまたは軽量で製作コスト、装置輸送コストの低減を図った真空蒸着装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、前記真空チャンバの内部に設けた剛体の第1基準部材、真空チャンバの外部に設けた剛体の第2基準部材、及び一端を前記第1基準部材に固定し、前記真空チャンバの壁に設けた貫通孔を通して他端を前記第2基準部材に固定された剛体の支柱を複数具備するかご構造体と、前記真空チャンバの気密性を確保する気密部と、前記かご構造体を前記真空チャンバの所定位置に維持する維持手段とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高精細パターンを形成したテンションマスクを均一に冷却する。
【解決手段】冷却体4をテンションマスク1のマスク箔3に接触させ、冷却体4をマスク箔上で走査させることにより、マスク箔3の全面を冷却する。冷却体4によってマスク箔3を冷却した後、基板7をマスク箔3に接触させ、シャッター8を開いて、蒸着源6から発生する蒸気を基板7に付着させる。マスク箔3の全面に冷却体4を直接接触させて冷却するため、短時間で均一にテンションマスクの温度調整を行うことが可能である。 (もっと読む)


【課題】光電変換素子の構成膜等の成膜に好ましく適用でき、複数のライン状パターンを有するパターン膜を直接パターン成膜することが可能な成膜方法を提供する。
【解決手段】ライン状パターンの幅に合わせた間隔で配列された複数のワイヤを有するマスクMを用いて、物理気相成長(PVD)法によりパターン成膜を行う。若しくは、1本のワイヤが折り曲げられて形成され、ライン状パターンの幅に合わせた間隔で配列された複数のワイヤ部を有するマスクを用いて、PVD法によりパターン成膜を行う。 (もっと読む)


【課題】酸を含まない水を用いて防着板やマスクの洗浄を行える技術を提供する。
【解決手段】Liイオン二次電池を製造する工程で用いられる、マスクと防着装置等の、電解質膜が厚く形成される真空部品は、真空槽から着脱自在であるように構成されている。これらの部品を洗浄する場合は、電解質膜が付着した真空部品を取り外し、付着した電解質膜に、中性の水(pH6〜8)を注水、又は散布して、真空部品から電解質膜を剥離させる。モル比Qの値が大きくなるに従って残渣率が小さくなる傾向があり、モル比Qの値が0.26以上の値では、試験基板表面に成膜されたLiPON薄膜の80%以上が剥離しており、中性の水によってLiPON薄膜を剥離できた。方法は、モル比Qの値が0.26以上のLiPON薄膜を剥離するのに効果的である。 (もっと読む)


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