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Fターム[4K029BB03]の内容

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Fターム[4K029BB03]に分類される特許

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【課題】複数の機能領域を有する有機化合物膜を作製する成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜室内に複数の蒸発源を備え、それぞれの有機化合物からなる機能領域を
連続的に形成し、さらに機能領域間の界面には混合領域を形成することができる。さらに
、成膜室の内壁の表面は電解研磨されている。成膜部内を連続的に移動できる基板搬送手
段を有し、基板搬送手段は、成膜部の上方に設けられ、成膜部と同一空間を有しており、
成膜室内にある基板を平面方向に搬送する手段を有している。成膜部は、基板搬送手段に
よる基板の搬送空間を含んで設けられ、基板搬送手段に基板が保持された状態で蒸着が行
われる。 (もっと読む)


【課題】大型基板上に膜厚が均一で有機EL上部電極用のアルミ金属薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】セラミック製の坩堝を用いてアルミの這い上がりを防止し、同一方向に所定の角度で傾いた蒸発源3−1を少なくとも2つ以上、縦方向に並べた蒸発源列3−2を横方向に操作して蒸着する機構を用いることにより、大型化した縦置き基板1−1に対して、有機EL上部電極用金属薄膜を高速成膜し、長時間の連続成膜をすることを可能にする。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、材料の損出の少なくできる、あるいは安定した蒸着の妨げとなる内圧の変化を防ぐ蒸発源を提供することである。また、前記蒸発源に適した有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、内部に蒸着材料を内在する坩堝と、前記蒸着材料を加熱し蒸発・昇華させる加熱手段と、前記蒸発・昇華した前記蒸着材料を噴射する蒸着物噴射口をライン状に複数並ぶ蒸着物噴射口部を有する蒸発源において、前記蒸着物噴射口部を複数設け、各前記蒸着物噴射口部毎に開閉する開閉手段を有することを第1の特徴とする。また、本発明は、複数ある前記蒸着物噴射口部のうち少なくとも一つの前記蒸着物噴射口部を開き、そのときに他の前記蒸着物噴射口部の全ての前記蒸着物噴射口部を閉じるように前記開閉手段を制御する制御手段を有することを第2の特徴とする。 (もっと読む)


【課題】蒸発源の冷却時間を短縮する。
【解決手段】蒸着準備工程では、蒸着材料30を収納する坩堝13、坩堝13を加熱する加熱部14、および坩堝13内で気体化した蒸着材料30を被処理物に向かって放出するノズル12、を備える蒸発源10、および被処理物を真空チャンバ内に配置する。次に、坩堝13に収納された蒸着材料30を加熱部14により加熱して、気体化した蒸着材料ガスを発生させ、被処理物に蒸着膜を形成する。次に、蒸発源10の外側からノズル12を介して坩堝13内にガス26を供給し、かつ、加熱部14を停止させて坩堝13を冷却する。 (もっと読む)


【課題】基板を離間状態で相対移動させることで小形の蒸着マスクでも広範囲に成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、また、成膜パターンの重なりを防止すると共に、蒸発源からの輻射熱の入射を抑制し、基板と蒸着マスクとを離間状態で相対移動させる構成でありながら、高精度で高レートな蒸着が行える蒸着装置並びに蒸着方法を提供する。
【解決手段】蒸発源と基板との間に、制限用開口部を設けた飛散制限部を有するマスクホルダーを配設し、このマスクホルダーに蒸着マスク2を付設し、前記基板を、蒸着マスク2を付設したマスクホルダー及び前記蒸発源に対して、蒸着マスク2との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成し、蒸着マスク2のマスク開口部3は、前記基板の相対移動方向に長くこれと直交する横方向に幅狭いスリット状とし、この横方向に複数並設した蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】高精度な蒸着ができ、長時間の連続稼動も可能な蒸着装置並びに蒸着方法の提供。
【解決手段】成膜室30において、蒸発源1から蒸発した成膜材料を、蒸着マスク2のマスク開口部を介して基板4上に堆積して、この蒸着マスク2により定められた成膜パターンの蒸着膜が基板4上に形成されるように構成した蒸着装置であって、前記蒸発源1から蒸発した蒸発粒子の飛散方向を制限する制限用開口部5を設けた飛散制限部を有し、前記蒸着マスク2が付設されたマスクホルダー6を備え、この蒸着マスク2が付設された前記マスクホルダー6が前記成膜室30と往来できるロードロック室32、前記マスクホルダー6が前記ロードロック室32と往来できる待機室33及び装置外部に前記マスクホルダー6を取り出し可能な取出し室34を有する交換室31を備えたことを特徴とする蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】従来の成膜装置において、マスクに対するクリーニングは、長時間にわたり行われていた。
【解決手段】成膜室を有し、成膜室は、プラズマを発生させる手段を有し、プラズマを発生させる手段は、成膜室に配置されるマスクを電極として有することができ、マスクに高周波電界を印加して、成膜室に導入されたガスを励起してプラズマを発生することができる。Ar、H、F、NF、またはOから選ばれた一種または複数種を有するガスを用いてプラズマを発生させる。 (もっと読む)


【課題】基板の大型化に伴って蒸着マスクを同等に大型化せず基板より小形の蒸着マスクでも、基板を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、また成膜パターンの重なりを防止すると共に、蒸発源からの輻射熱の入射を抑制し、高精度で高レートな蒸着が行える蒸着装置並びに蒸着方法を提供すること。
【解決手段】蒸発源1と基板4との間に、制限用開口部5を設けた飛散制限部を有するマスクホルダー6を配設し、このマスクホルダー6に前記蒸着マスク2を付設し、前記基板4を、前記蒸着マスク2を付設した前記マスクホルダー6及び前記蒸発源1に対して、前記蒸着マスク2との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成し、前記蒸発源1は、線膨張係数がステンレス鋼より小さい材料で形成した蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】薄膜材料の利用効率が高く、かつ大面積の基板に均一な厚みの薄膜を成膜できる真空蒸着装置及び薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
薄膜材料の蒸気を生成する蒸発源31〜36と、成膜対象物51が配置される真空槽11と、真空槽11内を真空排気する真空排気装置12と、蒸発源31〜36から蒸気が供給され、真空槽11内に蒸気を放出させる放出装置21とを有し、放出装置21を移動させながら成膜対象物51に蒸気を到達させ、成膜対象物51の表面に薄膜を形成する真空蒸着装置10aであって、蒸発源31〜36を放出装置21と一緒に移動させる移動装置15を有する真空蒸着装置10aである。 (もっと読む)


【課題】坩堝の輻射熱を遮熱し、且つノズルに詰まりを生じない蒸発源および蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着源1は、蒸着材料Mを加熱して蒸発させる坩堝5から突出するようにして設けられ、蒸発した蒸着材料Mを基板に向けて噴射するノズル12と、並列に配置した複数の金属板15を有し、これら複数の金属板15のうち最も基板に近い金属板15をノズル12のノズル先端面13よりも基板に近い位置に設けたリフレクタと、リフレクタを構成する複数の金属板15のうち一部と一体的に構成され、ノズル12とリフレクタとの間を閉塞するカバー部材8と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 基板上に、高い精度で、形成不良なく電極を形成し得る電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の電子部品の製造方法は、平板状の基板1を準備する基板準備工程と、基板1の主面上にレジストパターン2aを形成するレジストパターン形成工程と、基板1の主面上のレジストパターン2aが形成されていない部分にIDT電極4を薄膜技術により形成する電極形成工程と、レジストパターン2aを除去するレジストパターン除去工程とを含み、電極形成工程は、基板1を、電極が形成される側の主面が凹むように反らせておこなうようにした。 (もっと読む)


【課題】蒸着ヘッドから噴射された成膜材料が被処理基板と、処理室又は他の蒸着ヘッドとの間で反跳し、蒸着されるべき箇所とは異なる部位に成膜材料が付着したり、各成膜材料噴出部からの蒸気が混じりあい隣接する膜中に不純物として混入する。
【解決手段】被処理基板Gを収容する処理室11と、成膜材料の蒸気を該被処理基板へ向けて噴出する成膜材料噴出部13とを備える成膜装置1に、成膜材料噴出部13から噴出され、被処理基板Gで反跳した成膜材料を捕捉する捕捉部16,16…を処理室11の内部に備える。 (もっと読む)


【課題】小形の蒸着マスク2でも大型の基板4を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、蒸着マスクの温度上昇を十分に抑えて蒸着マスク2を一定の温度に保持ができるため、蒸着マスクの熱による歪みを防止でき、高精度の蒸着が行える画期的な蒸着装置を提供すること。
【解決手段】基板4と蒸着マスク2とを離間状態に配設し、この基板4と蒸発源1との間に、制限用開口部5を設けた飛散制限部を構成するマスクホルダー6を配設し、このマスクホルダー6に前記蒸着マスク2を接合させて付設し、このマスクホルダー6に蒸着マスク2の温度を保持する温度制御機構9を設け、基板4をこの蒸着マスク2に対して相対移動することにより蒸着マスク2より広い範囲に、精度の高い成膜パターンの蒸着膜を形成できる蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】基板毎に成膜の目標膜厚を設定でき、ひいては電極線幅に対応した膜厚を形成することができる成膜システム及び成膜方法を提供する。
【解決手段】基板18上に形成された複数箇所のレジスト19を測定する測定室102と、基板18を1枚ずつ成膜して基板18上に電極21を形成する枚葉式成膜室104と、を有する成膜システム100であって、基板18上にて隣接するレジスト19のレジスト間距離またはレジスト線幅を測定する測定手段116を測定室102に有し、測定手段116によって測定したレジスト間距離またはレジスト線幅に基づいて、基板18から作製される電気素子が所定の周波数を得るための最適な電極膜厚を算出する制御手段114を有し、枚葉式成膜室104は、基板18の電極膜厚が制御手段114で算出された最適な電極膜厚となるように、基板18に電極を形成する成膜手段10を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】スループットの優れた成膜装置、および製造装置を提供する。
【解決手段】一対をなすスパッタリングターゲット11,12の間に複数の基板13を配置して一括に成膜する。EL層は蒸着装置で形成し、その後の電極層や保護層をスパッタ装置で一括に成膜する。少なくとも一方のスパッタリングターゲット表面に対し、概略垂直に複数の基板表面がセットされた状態で成膜を行う。なお、少なくとも基板の周縁にはスパッタ成膜を行わないようにマスクを用いて電極層や保護層を選択的に形成することもできる。 (もっと読む)


【課題】種々の多数の基板に対して真空蒸着法による成膜を効率良く行う技術を提供する。
【解決手段】本発明は、真空槽2内において、第1及び第2のマスク31、32を介して第1及び第2の基板51、52上に蒸着を行う真空蒸着装置である。本発明は、第1及び第2の基板51、52を保持する保持手段80と、第1及び第2のマスク31、32をそれぞれ支持するマスク支持部17、18と、マスク支持部17、18を非接触の状態でそれぞれ位置合わせを行う第1及び第2のXYθステージ15、16とを有する。第1及び第2のXYθステージ15、16は、コ字形状に形成され、第1及び第2のXYθステージ15、16の端部がそれぞれ対向するように配置されている。 (もっと読む)


【課題】搬送される基板に対して、ホスト材料とゲスト材料とを同時蒸着させる蒸着装置において、微量のゲスト材料を蒸着させる場合であっても精度良く成膜を行う。
【解決手段】搬送される基板100に対して薄膜を形成する真空蒸着装置200であって、基板100に対向して搬送方向Aに直交する幅方向に延在し、第1蒸着材料を放出する第1蒸着源203と、基板100に対向して搬送方向Aに直交する幅方向に延在し、第1蒸着源203に対して搬送方向Aにずれて配置され、第1蒸着材料に重なり合うように第2蒸着材料を放出する第2蒸着源204と、搬送方向Aに沿って配列された複数の羽板部材207aと、を備え、複数の羽板部材207aは、放出された第2蒸着材料の進行方向に対して傾斜し、且つ、放出された第1蒸着材料の進行方向に対して平行となるように設けられている。 (もっと読む)


【課題】搬送される基板に対して、ホスト材料とゲスト材料とを同時蒸着させる蒸着装置において、微量のゲスト材料を蒸着させる場合であっても精度良く成膜を行う。
【解決手段】搬送される基板100に対して薄膜を形成する真空蒸着装置200であって、基板100に対向して搬送方向Aに直交する幅方向に延在し、第1蒸着材料を放出する第1蒸着源203と、搬送方向Aに直交する幅方向に延在し、第1蒸着源203に対して搬送方向Aにずれて配置され、放出された第1蒸着材料に重なり合うように第2蒸着材料を放出する第2蒸着源204と、第2蒸着源204が延在する方向と同一の方向に延在し、放出された第2蒸着材料に重なる位置であって、放出された第1蒸着材料に重ならない位置に設けられた遮蔽部材230と、を備え、遮蔽部材230は、放出された第2蒸着材料の一部を通過する開口部231を有する。 (もっと読む)


【課題】成膜時の熱による変形を抑制できる成膜マスク及び成膜装置並びに薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
複数の開口23が形成され、成膜物質が開口23を通過する通過部21と、成膜物質を遮蔽する遮蔽部22とを有している。通過部21と遮蔽部22とは長手方向を有し、遮蔽部22の長手方向の長さは、通過部21の長手方向の長さ以上にされ、遮蔽部22の幅の長さは、通過部21の幅の長さと同じに形成されている。通過部21と遮蔽部22とは、成膜マスク20a表面と平行な一の移動方向5に沿って長手方向を密着して並んで配置され、成膜マスク20aが一の移動方向5の通過部21側に通過部21の幅の距離移動すると、開口23が位置していた場所が、遮蔽部22によって塞がれるように構成されている。遮蔽部22には内部に伝熱媒体が流れる流路部材が密着して設けられている。 (もっと読む)


【課題】 一般的な基材であるガラスに成膜され、且つ良好なパターン形状と優れた発光特性の両方を兼ね備えた薄膜蛍光体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 基材と結晶性の薄膜蛍光体からなり、前記薄膜蛍光体は、前記基材上に成膜されて薄膜蛍光体層が形成されており、前記薄膜蛍光体層にパターンが形成されており、前記結晶がナノ構造であることを特徴とするパターン形成された薄膜蛍光体とする。 (もっと読む)


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