【課題】有機ＥＬ素子を作製する際、大型の成膜対象物の表面に分布が均一な有機層の成膜を行うことができる技術を提供する。
【解決手段】面蒸気放出器１０に、蒸発材料であるホスト材料及びドーパント材料の蒸気が順次拡散される水平方向拡散部１０Ｈ及び鉛直方向拡散部１０Ｖを有する。水平方向拡散部１０Ｈは、蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って段階的に区分けされ第１〜第４連通口１２〜４２を介して接続された第１〜第４の拡散室１１〜４１を有する。鉛直方向拡散部１０Ｖは、有機材料の蒸気の導入側から放出側に向って段階的に区分けされ第２及び第３連通口１２２、１３２を介して接続された第１〜第３の拡散室１１１〜１３１を有する。最終段の第３の拡散室１３１は、複数の第４連通口１４２を介してそれぞれ蒸気混合室１４１に接続されている。 （もっと読む）

【課題】パターニングの精度を向上させるための真空蒸着用マスクユニット及びこれを備えた真空成膜装置を提供する。
【解決手段】金属フレーム２と、金属フレームに固定され、開口パターンが形成されている金属箔４と、から構成され、金属フレームの内縁側に、金属箔を介して被成膜基板（基板１）を支持する基板受け部３を備え、基板受け部が、前記被成膜基板の中央部に向かって凹形状に傾いているテーパー形状であることを特徴とする、真空成膜用マスクユニットと、前記被成膜基板を前記真空成膜用マスクユニットに備える金属箔上に密着させるための基板押え機構６と、を備えることを特徴とする、真空成膜装置１０。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、より均一な成膜を実現できる、或いは高精彩なデバイスを製造できる有機ＥＬデバイス製造装置及び製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、複数の受けピンを介して基板を水平状態の蒸着ステージで受渡し、前記蒸着ステージを回転させて略直立姿勢または直立姿勢にし、真空チャンバ内で前記基板に蒸着材料を蒸着する有機ＥＬデバイス製造装置または製造方法において、前記複数の受けピンの先端より上方に前記蒸着ステージを移動し、前記基板を前記複数の受けピンから前記蒸着ステージに移載し、その状態で前記回転を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置の製造に適した真空蒸着装置であり、一台の蒸着装置で複数層の膜を成膜することが可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置（蒸着装置）１は真空室２を有し、真空室２内に、基板保持壁３と、４台の蒸発装置５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄと蒸気チャンバー６及び４個の坩堝設置室（蒸発装置設置部）１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄを内蔵している。坩堝設置室１２の外周面には、設置室側電気ヒータ（発生部保温手段）１８が取り付けられている。坩堝設置室１２には設置室側温度センサー２８が設けられている。それぞれの坩堝設置室１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄを各層の薄膜材料に適した温度に保温する。蒸気通過部１３は、発生部保温手段の目標温度の中で最も高い最高目標温度以上の温度を目標温度として保温する。 （もっと読む）

【課題】基板表面の構造に拘わらず，所望の位置に高精度で量子ドットを形成する。
【解決手段】定在波を有するレーザ光のレーザ光源Ｌを基板Ｗの側方に配置し，そのレーザ光を基板Ｗの側方からその基板の表面に沿うように照射させることによって，基板表面をそのレーザ光の定在波の半波長間隔で励起させる。その基板に対してその表面を構成する下地膜と格子定数の異なる膜を成長させることによって，上記レーザ光の照射により励起した部位Ｅｘに量子ドットが形成される。 （もっと読む）

【課題】基板に薄膜を成膜させるのと同時に、膜厚の制御を行うことが可能な蒸着処理装置を提供する。
【解決手段】蒸着によって基板に薄膜を成膜させる蒸着処理装置であって、材料ガスを供給する減圧自在な材料供給部と、前記基板に薄膜を成膜する成膜部を備え、前記成膜部は前記基板に噴射される材料ガスの蒸気濃度を測定する検知手段を有し、前記検知手段における測定結果に基づいて成膜条件を制御する制御部を設けた、蒸着処理装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】ダマシン構造を有するＣｕ配線において、バリア膜の拡散防止機能を低下させずにＣｕ配線内のＣｕの埋め込み性を改善し、半導体装置の歩留まりおよび信頼性を向上する。
【解決手段】ダマシン配線を有する半導体装置において、第２層間絶縁膜６に形成した配線溝Ｇ２およびビアホールＶ２のそれぞれの内壁にバリア膜としてＴａＮ膜７およびＣｕと濡れ性の良いＴｉからなるＴｉ膜８とを順に形成することにより、Ｔｉ膜８上に均一にＣｕシード膜９ａを形成することを可能とする。これにより、Ｃｕシード膜９ａを電極として電界メッキ法によりＣｕ膜９を形成した際に、配線溝Ｇ２およびビアホールＶ２内に空隙が形成されることを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】成膜装置に設けられ基板と成膜用マスクとの位置合わせをするアライメント機構に伝達する可能性がある振動及び変形を低減し、位置ずれを抑制することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板支持体と、マスク支持体と、を室内に備える成膜室と、前記成膜室の室外に設けられている支持体と、前記支持体上に設けられ、前記基板支持体の位置調整手段及び前記マスク支持体の位置調整手段の少なくとも一方と、アライメント用のカメラと、を備えるアライメント機構と、から構成され、前記支持体が、前記アライメント機構を載置する支持板と、脚部と、を有し、前記支持板が、前記脚部により前記成膜室の天板と離間して設けられており、前記支持板の少なくとも一部が、前記支持板に伝わる振動を熱エネルギーに変換して該振動を抑制可能にする制振材料で構成されていることを特徴とする、成膜装置。 （もっと読む）

【課題】薄膜材料の使用効率が高く、大型基板に所望形状の薄膜を形成できる技術を提供する。
【解決手段】
真空槽１１内の処理台１２の載置面１３と対面する位置に放出装置本体３１₁〜３１₃を配置し、放出装置本体３１₁〜３１₃と載置面１３との間に防熱板４２₁〜４２₃を配置し、防熱板４２₁〜４２₃に形成した孔４３₁〜４３₃内に放出装置本体３１₁〜３１₃に接続された細管３３₁〜３３₃を挿入させ、細管３３₁〜３３₃の先端を防熱板４２₁〜４２₃よりも載置面１３に近い位置まで伸ばしておく。真空槽１１内を真空排気し、細管３３₁〜３３₃から材料ガスを放出して載置面１３上の成膜対象物表面に薄膜を形成するときに、細管３３₁〜３３₃先端は蒸発温度以上に加熱しておくことができ、材料ガスが凝縮して細管３３₁〜３３₃先端が閉塞することはなく、成膜対象物表面に、線状の薄膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】高歩留まりあるいは高精細化に有効な有機エレクトロルミネッセンスパネルの構造と、それを実現するための適切なテンションを付与することができる蒸着マスクを使用した有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】枠体３４と、間隔をあけて面状に並列された同じ幅の複数の線材３８を有する第１サブマスク３６と、少なくとも１つの開口４４を有する第２サブマスク４２と、を有する蒸着マスクを用意する。回路基板１０に、蒸着マスクを使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層２０を形成する。第１サブマスク３６は、複数の線材３８に長さ方向に張力が付与されるように枠体３４に固定され、複数の線材３８のみが張力の方向に一直線に切れ目なく連続し、複数の線材３８が少なくとも１つの開口４４と重なるように、第２サブマスク４２の一方の面上に配置されている。 （もっと読む）

【課題】連続運転しても、蒸着材料の劣化を防止することで、蒸着膜の品質低下を防止できる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸発容器１１内に充填された蒸着材料Ｌを蒸発させて蒸着容器内に保持された基板に蒸着させる蒸着装置であって、蒸発容器１１を保持して冷却する容器保持具１２と、蒸着材料Ｌの表面部分を加熱用ランプ１６及び反射板１７で加熱する加熱装置１５と、蒸着材料Ｌの表面位置を検出し得るレーザセンサ１９とを具備し、容器保持具１２を、蒸発容器１１の底部を支持する載置部２１と、蒸発容器１１の側部を覆うと共に加熱用ランプ１６及び反射板１７が取り付けられた外周部２３とから構成し、載置部２１を昇降させる昇降装置１４を設け、且つレーザセンサ１９で検出された蒸着材料Ｌの表面位置に基づき昇降装置１４を制御して加熱用ランプ１６及び反射板１７と上記表面位置とを所定距離に維持する制御装置９を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】第１および第２のメタルマスクを含むメタルマスクセットを用いて基板に所定の配線パターンを成膜する際、配線パターンの寸法精度を向上させる。
【解決手段】例えば、半導体基板１０２に所定の配線パターンを成膜する際に用いられる複数のメタルマスクを含むメタルマスクセット１００において、配線パターンの一部領域に対応した形状の開口部３４０を有する第１のメタルマスク１１０（チップ用マスク３２０）と、配線パターンの他の一部領域に対応した形状の開口部３５０を有し、さらに第１のメタルマスク１１０の開口部３４０を覆う形状の空間部３６０を有する第２のメタルマスク１２０（チップ用マスク３３０）とを備え、半導体基板１０２に順次設置される第１および第２のメタルマスク１１０、１２０を介してそれぞれ第１および第２の金属が基板に順次成膜されることにより基板に配線パターンが成膜される。 （もっと読む）

【課題】大面積の成膜対象物に対して膜厚及び膜質が均一の膜を形成することができる蒸着技術を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置３０は、ホスト材料用蒸発源８ｈ及びドーパント材料用蒸発源８ｄにそれぞれ接続されたリニア蒸気放出器１０を備える。リニア蒸気放出器１０は、蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って段階的に区分けされた第１〜第３の拡散室１１〜３１をそれぞれ有するとともに、第１〜第３の拡散室１１〜３１は、互いに隣接する拡散室が蒸発材料の蒸気が通過可能な第１〜第３連通口１２〜３２を介して接続されている。第３の拡散室３１は、第４連通口４２を介してそれぞれ蒸気混合室４１に接続されている。 （もっと読む）

【課題】蒸着工程中に基板と薄膜蒸着装置との精密なアラインが可能である薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着源１１０の一側に配され、第１方向Ｙに沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成された蒸着源ノズル部１２０と、蒸着源ノズル部１２０と対向し第２方向Ｘに沿って複数個のパターニング・スリット１５１が形成されるパターニング・スリットシート１５０と、を具備し、該基板が、第１方向Ｙに沿って移動しつつ蒸着が行われ、該パターニング・スリットシート１５０は、第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３を含み、該基板は、第１アラインパターン５０２及び第２アラインパターン５０３を含み、これらを撮影する第１カメラアセンブリ１６１及び第２カメラアセンブリ１６２と、をさらに具備する薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、真空中において特に２次元的に重量物を搬送させるのに適した重量物搬送アシスト機構及び重量物搬送アシスト方法を提供し、また、それらを適用した成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】重量物を一次元的又は２次元的に搬送させるメイン軸を有し、前記メイン軸の負荷を低減する重量物搬送アシストする際に、前記搬送は一端を前記真空チャンバの壁に回転可能に固定され、他端に回転可能に設けられた前記重量物を有するリンクを有するリンク部を介して行われ、前記重量物を駆動するメイン軸の負荷を低減するようにアシスト軸によって前記一端にトルクを付与することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】イオン注入の際にマスクとして用いたレジストを効率よく除去することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】イオン注入処理の終了後、レジストパターンをアッシングする前に、レジストパターンをフッ素処理する。上記フッ素処理によって、イオンの照射により変質したレジストパターンは、上記アッシングによる除去処理に適した物質へ変換される。これにより、アッシング工程において効率よくレジストパターンを除去することが可能となる。また、レジストの残渣量が低減されることで、表面平坦度の高い磁気記録媒体を安定して製造することができる。 （もっと読む）

【課題】発光色度を改善することが可能な有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に前記画素電極を形成し、ドーパント材料及びホスト材料からなる混合材料を供給し、混合材料を、ドーパント材料及び前記ホスト材料の昇華温度のうちいずれか高い方の温度以上で加熱することで発光層を形成し、発光層上に対向電極を形成する。 （もっと読む）

【課題】ドープ濃度バラツキを改善することが可能な有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ドーパント材料及びホスト材料からなる第一の混合材料と、ドーパント材料及びホスト材料からなり第一の混合材料よりもドープ濃度が高い第二の混合材料とを供給し、第一及び第二の混合材料を加熱することで発光層を形成する。 （もっと読む）

【課題】フィルムの巻取り性を低下させることなく、金属化フィルムにおける酸化劣化による金属蒸着層の消失（膜後退）を抑制することができる金属化フィルムの製造方法、該金属化フィルム、および該金属化フィルムを用いたコンデンサを提供する。
【解決手段】誘電体フィルム１９の表面に、金属蒸着層１１が形成される蒸着部１９Ｄと、蒸着部に隣接するマージン部１９Ｍとを有し、金属蒸着層は、前記マージン部と隣接する隣接部分にマージン部に近づくにつれて厚みが減少する傾斜部１１Ｓを備えた金属化フィルム１０を、オイル１８を蒸発させて誘電体フィルムの表面に付着させ、マージン部を形成するオイル蒸着工程と、マージン部上でマージン部の縁に沿って、オイルを印刷するオイル印刷工程と、オイル蒸着工程およびオイル印刷工程の後に金属蒸着を行うことにより、蒸着部に金属蒸着層を形成する金属蒸着工程とを含む工程で製造する。 （もっと読む）

【課題】 ブランクマスク、フォトマスク及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 透明基板、金属膜、ハードマスク膜及びレジスト膜が順次に積層されてなるブランクマスク。ここで、金属膜及びハードマスク膜のうち少なくとも一つは、膜を構成する元素のうち少なくとも一つの元素の組成比が膜の深さ方向に連続的に変わる区間である成分変化区間を持つ。これにより、既存の深さ方向に元素の組成比が均一な薄膜と比較する時、光学密度の均一性、反射率の均一性、表面粗度、耐化学性、耐露光性などを向上させ、成長性欠陥と残留応力の問題を低減させることができる。 （もっと読む）