【課題】蒸着マスク変形の低減、並びに被成膜基板と蒸着マスクとの密着性の向上及び塗り分け精度の向上を実現させる蒸着装置を提供する。
【解決手段】磁性材料を含んでなる金属箔１４と金属箔１４を固定するマスクフレーム１５とからなる蒸着マスク１１の上に載置された被成膜基板（基板２０）を、蒸着マスク１１に押圧する押圧機構１２を備える蒸着装置１であって、押圧機構１２が、少なくとも前記被成膜基板の角部において蒸着マスク１１を引き寄せうる磁石１８を備えている。 （もっと読む）

【課題】フィルムの巻取り性を低下させることなく、金属化フィルムにおける酸化劣化による金属蒸着層の消失（膜後退）を抑制することができる金属化フィルムの製造方法、該金属化フィルム、および該金属化フィルムを用いたコンデンサを提供する。
【解決手段】誘電体フィルム１９の表面に、金属蒸着層１１が形成される蒸着部１９Ｄと、蒸着部に隣接するマージン部１９Ｍとを有し、金属蒸着層は、前記マージン部と隣接する隣接部分にマージン部に近づくにつれて厚みが減少する傾斜部１１Ｓを備えた金属化フィルム１０を、オイル１８を蒸発させて誘電体フィルムの表面に付着させ、マージン部を形成するオイル蒸着工程と、マージン部上でマージン部の縁に沿って、オイルを印刷するオイル印刷工程と、オイル蒸着工程およびオイル印刷工程の後に金属蒸着を行うことにより、蒸着部に金属蒸着層を形成する金属蒸着工程とを含む工程で製造する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レーザを用いてハーフトーンマスクの欠陥を除去し、欠陥部領域に遮断膜を効率良く形成でき、遮断膜の膜厚を調節し、ペリクル膜が形成された後も欠陥の除去が可能な機能とともに、リアルタイムで透過率を調節してリペア工程を行うことができるようにし、リペア部位の透過率の均一性を保障できるリペア方法及びそのシステムに関する。
【解決手段】本発明のハーフトーンマスクリペア方法は、原料物質にレーザを照射して半透過層の欠陥部位に蒸着することにより、ハーフトーンマスクの半透過領域の欠陥部位をリペアする。 （もっと読む）

【課題】高精度の成膜パターン形成を実現させるためのメタルマスクを提供する。
【解決手段】金属フレーム１０に、所定の開孔パターン（開孔部１２）が形成された金属箔１１が接合されているメタルマスク１であって、金属フレーム１０の内縁１０ａよりも内側に基板２０を配置し、基板２０を金属箔１１のみで支持し、金属箔１１の基板２０の縁部と対向する部分において、金属箔１１の厚さ方向に段差を設けて基板２０の縁部と金属箔（１１ｂ）とが接触しない構造としたこと特徴とする、メタルマスク１。 （もっと読む）

【課題】 成膜効率の高いパターン成膜を行う。
【解決手段】 本発明のある態様のスパッタリング成膜装置においては、帯状の可撓性基板７を継続的に送り、円筒状のターゲット部４と基板７との間にマスク２５を配置して成膜処理を行う。マスク２５の開口は、基板７の給送方向に延びるように形成されている。加えて、本発明においては、基板７の給送動作に同期化させて回転ベルト式マスク２６を移動させる態様の成膜装置や、基板７の給送動作に同期化させて円筒状回転マスク３６を回転させる態様のスパッタリング成膜装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりが向上した薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部と、チャンバと、チャンバの内部に配され、かつ静電チャックに固定された基板５００に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリー１００を備える蒸着部と、静電チャックから蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部と、基板が固定された静電チャックをローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部６１０と、を備え、第１循環部は、互いに平行に形成された２対の第１ガイドレール６１３及び第２ガイドレール６１７と、第１ガイドレールに結合する一つ以上の第１ガイドブロック６１５と、第２ガイドレールに結合する一つ以上の第２ガイドブロック６１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクに対して復元不能なダメージを与えることなく、且つクリーニング速度の高速化を図ることを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ用マスク１の表面に付着した有機材料５０を剥離するためのレーザ光Ｌを発振するレーザ光源３１と、レーザ光Ｌの強度分布をガウス形状から平均的な分布（トップハット形状）に変換するビーム整形光学系３３と、強度分布が変換されたレーザ光Ｌを有機ＥＬ用マスク１の表面に走査させるＸガルバノミラー３５およびＹガルバノミラー３６を有する走査光学系と、を備えている。この構成により、レーザ光Ｌの強度分布が平均的になり、有機ＥＬ用マスク１に復元不能なダメージを与えなくなり、且つクリーニング速度が高速化する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ドライ洗浄方法において、スループット向上し処理枚数を増やすことができるマスクドライ洗浄装置または洗浄方法を提供すること、あるいは上記マスクドライ洗浄装置を蒸着装置に隣接して設けることで短時間に洗浄できる稼働率の高い製造装置を提供することである。
【解決手段】本発明はレーザ光源から出射されるレーザ光をマスクに付着した付着蒸着材料に照射し該マスクを洗浄する際に、前記レーザ光を円形状から楕円形状に変更し、該楕円形状のレーザ光を前記マスクの前記付着蒸着材料に照射し洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】比較的簡便な方法により、基板面上に形成された柱状構造物の配向方位角を均一に近づける製膜装置を提供する。
【解決手段】製膜装置１は、基板２００上に形成される膜を構成する膜材料を供給する膜材料源１４と、膜材料源及び基板を設置するための空間１１ａを規定すると共に、空間を真空に維持することが可能な真空槽１１と、空間において、基板の少なくとも一部が膜材料源の少なくとも一部と対面するように基板を保持する保持手段１２１と、基板が一の方向に沿って移動するように保持手段を移動する移動手段１２３と、基板及び膜材料源間に配置され、一の方向と交わる方向である他の方向に沿って延在する開口部１２２ａを有するスリット板１２２とを備える。開口部の端部は、スリット板の面内においてずらし、他の方向から開口部を通過する膜材料の他の方向の角度分布の広がりを抑制する。 （もっと読む）

【課題】安価かつ簡易な方法で洗浄することができ、付着していた蒸着物の回収を容易に行うことができるメタルマスクを提供する。また、該メタルマスクの洗浄方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の表面に親水性コーティングが施されたメタルマスクであって、前記親水性コーティングは、ケイ酸ナトリウムを５〜４０重量％、四ホウ酸ナトリウム十水和物を０．０１〜１．５重量％含有する水溶液Ａ、又は、ケイ酸ナトリウムを５〜４０重量％、リン酸ナトリウムを０．０１〜１．６重量％含有する水溶液Ｂをメタルマスクの少なくとも一方の表面に塗布した後、乾燥させるものであるメタルマスク。 （もっと読む）

【課題】成膜マスクから付着物を高効率で除去するクリーニング装置と、成膜作業を中断させずに成膜マスクのクリーニングを行う成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】
クリーニング装置１０は、シャワーノズル２１と離間して対面する位置に処理対象物５０を配置したときに、処理対象物５０と接触部材２３とが接触し、処理対象物５０とシャワーノズル２１との間の放電空間が、洗浄容器２０の筒状の側壁２２で取り囲まれると共に、処理対象物５０と洗浄容器２０との間に隙間２９が形成されるように構成されている。真空排気装置１２によって真空槽１１内を真空排気しながら、シャワーノズル２１内に反応ガスを供給し、放電空間にプラズマを発生させ、処理対象物５０表面の付着物と反応ガスとの反応生成物ガスを、真空排気装置１２によって、隙間２９から真空排気する。 （もっと読む）

【課題】ウエハプロセスへの投入から大径の薄化ウエハを用いる場合でも、ウエハ反りおよびウエハ割れの少ない半導体素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】半導体基板１に複数の半導体素子を形成する工程の前に、半導体基板１の外周を減厚して外周端部３を形成し、外周端部３に、前記半導体基板より熱膨張係数が大きく、かつ、半導体素子１を形成する工程内の熱処理工程で印加されるもっとも高い温度より融点が高い金属４を、半導体基板１の半導体素子が形成される両主面より突出しない膜厚で被着する半導体素子の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】長尺な基板を、冷却されるドラムの周面に巻き掛けて、長手方向に搬送しつつ、成膜を行なう場合に、基板とドラムとの密着不良を抑制することにより、熱による基板の変形を防止し、高品質な機能性フィルムを効率よく連続成膜することができる成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜手段による成膜領域を規定する開口部６８ａを有するマスク６８と、マスクの開口部における基板Ｚの搬送方向の上流側の位置で、基板とドラム３６との密着状態を検出する密着検出手段と、基板とドラムとの密着状態を制御する密着制御手段とを有し、密着制御手段が密着検出手段による密着状態の検出結果に応じて、基板とドラムとの密着状態を制御する。 （もっと読む）

【課題】結晶球の周回経路の結晶方位に対応した膜厚の膜を正確に真空成膜する。
【解決手段】真空容器２１内で蒸着材料２２を加熱気化させる蒸着材料放射ステップ（２２，３１）と、弾性表面波４を周回させる圧電性結晶球２の周回経路５が前記気化された蒸着材料２２の放射ビームの照射方向と対面するように、圧電性結晶球２を回転可能に支持する支持ステップ（３２，３５）と、周回経路の結晶方位に従って前記回転支持ステップによる圧電性結晶球２の回転速度を変更し、周回経路上に結晶方位に依存した膜厚分布で真空成膜する成膜制御ステップ（１，５，３２，３４，３５）とを有する球状弾性表面波素子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 薄型の固体電解コンデンサの陽極体として好適な箔状の多孔質バルブ金属陽極体を製造する際に、高容量を可能にする膜厚の厚いスパッタ膜の形成に有効なメタルマスクを提供する。
【解決手段】 略方形で相似形の開口形状を有する貫通した開口部を備え、相似比が小さい方の開口形状を有する平面の開口部縁に、前記開口部の壁が張り出し部を形成している金属製板材で、相似比の大きな方の開口形状を有する平面が、被スパッタ材と接する側であることを特徴とするスパッタ用メタルマスク。 （もっと読む）

【課題】成膜する層に成膜材料以外の材料が混入することを抑制し、発光素子の性能低下を防ぐ、成膜方法の提供を課題の一つとする。
【解決手段】基板の一方の面上に形成された吸収層と、吸収層上に形成され、基板の一方の面の最表面に形成された、成膜材料を含む材料層とを有する第１の基板の一方の面と、基板の被成膜面の最表面に形成された下地層を有する第２の基板の被成膜面を対向させて配置し、第１の基板の他方の面側から加熱処理を施すことで、加熱された材料層に含まれる成膜材料で、下地層上に成膜材料層を形成する成膜方法であり、成膜材料層の主成分と下地層の主成分に同じ物質を用いる成膜方法である。 （もっと読む）

【課題】マスクフレームを備えない単体のマスクを基板上に搬送し、又は基板に対するマスクの位置調整を行うべく、マスクを皺無く保持することができるマスク保持装置を提供する。
【解決手段】磁性材料を含み、基板上に薄膜をパターン形成するための開口が形成されたシート状のマスクを保持するマスク保持・位置あわせ装置５に、一面側に配された複数の永久磁石によって、他面側にマスクが磁着されるマスク磁着板５４を備え、前記複数の永久磁石は、マスク磁着板５４の他面側における第１領域の磁場の分布と、該他面側における第２領域の磁場の分布とが異なるように構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ドライ洗浄方式において、表面を洗浄(剥離)しながら裏面も洗浄(剥離)できるマスク洗浄装置または洗浄方法を提供すること、あるいは上記マスク洗浄装置を蒸着装置に隣接して設けることで短時間に洗浄できる稼働率の高い有機ＥＬ製造装置を提供することである。
【解決手段】マスクに付着した蒸着材料にレーザ光を照射しマスクを洗浄する際に、マスクの蒸着面である表面に該レーザ光を照射し該表面を洗浄し、前記レーザ光を前記マスクの裏面へ照射し該裏面も洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成される薄膜の密着性を高くし、剥離を防止することのできる光学素子及び光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】光を透過させる基板１０に光学機能膜１３及び光学面１１が形成されてなり、基板１０の表面のうち光学面１１を透過する光が通過する領域をフォトリソグラフィーまたはポッティングにより形成されるマスクまたは予め形成されたマスク部材で覆い、マスクされた領域以外の領域を粗面加工し、粗面加工された領域を含む基板１０の表面に光学機能膜１３及び光学面１１を形成する。 （もっと読む）