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Fターム[4K029BB03]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被膜構造 (4,668) | 被膜形態 (3,472) | 部分被膜、模様被膜 (622)

Fターム[4K029BB03]に分類される特許

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【課題】本発明は、スリットの大きさが微細に制御された蒸着用マスクおよび蒸着用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による蒸着用マスクは、貫設された複数のスリットが形成されたマスク本体、および原子層蒸着法(atomic layer deposition、ALD)により前記マスク本体の表面全体にコーティングされた蒸着層を含む。 (もっと読む)


【課題】本発明は、蒸着品質を高めることができるマスク組立体およびそれを用いて製造された有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】本発明によるマスク組立体は、開口部を形成するフレームと、複数の蒸着用開口部を形成し、長さ方向に沿って引張力が加わった状態で両側端部がフレームに固定される複数の単位マスクとを含む。複数の単位マスクのうちの隣接した少なくとも二つの単位マスクは、互いに向き合う両側面に蒸着用凹部を形成する。単位マスクの幅方向に沿った蒸着用凹部の幅は、単位マスクの幅方向に沿った蒸着用開口部の幅と同一であるか、またはそれよりも大きい。 (もっと読む)


【課題】電子注入効率が高く低電圧駆動が可能な有機発光素子を製造する方法を利用する際に使用される蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着材料25を収容する収容容器23と、収容容器23内に収容される蒸着材料5をガス状態にする加熱手段(熱源22)と、を有する蒸着装置において、収容容器23と被蒸着基材との間であって、ガス状態の蒸着材料が通過する位置に媒体21を有し、媒体21と前記被蒸着基材との間に媒体21が発する熱を遮蔽する遮蔽部材が配置されていることを特徴とする蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】高い解像度を有する有機EL発光装置が得られ、かつ生産性が高い有機EL発光装置の製造装置を提供する。
【解決手段】複数のマスク部材10と、複数のマスク部材10を固定するフレーム20と、からなるマスクユニット2と、マスク部材10と基板40との相対位置を決めるアライメント機構と、蒸着源30と、を備え、マスク部材10が、複数組の開孔パターン12が並列して設けられてなる開孔部11と、マスク部材10上であってマスク部材10とフレーム20とが接合している領域に設けられるアライメントマーク14,15と、を有し、マスク部材10と、マスク部材10と同一の形状の基板40と、が、前記アライメント機構を用いて、マスク部材10に設けられるアライメントマーク14、15と基板40に設けられるアライメントマーク42、43とを合わせることによってアライメントが行われる。 (もっと読む)


【課題】単結晶基板上において、圧電薄膜を良好な単結晶の状態で確実にエピタキシャル成長させて成膜し、圧電特性を確実に向上させる圧電素子と、その製造方法を提供する。
【解決手段】圧電素子10は、以下の工程によって製造される。単結晶基板1を、振動する振動部1Aと、振動部1Aと連結されて振動が生じない非振動部1Bとに分けたときに、単結晶基板1上で、非振動部1B上を含む領域であって、振動部1A上の圧電薄膜3の成膜領域を除く領域に、圧電薄膜3の単結晶での成長を阻害する阻害膜2を成膜する。次に、上記成膜領域となる振動部1A上の少なくとも一部に、圧電薄膜3を単結晶でエピタキシャル成長させて成膜するとともに、阻害膜2上に、圧電薄膜3を非晶質または多結晶で成膜する。その後、阻害膜2上に成膜された圧電薄膜3を除去する。 (もっと読む)


【課題】劣化を抑制しつつ、金属酸化物を蒸発または昇華することが可能な蒸発源を提供する。また、高温で蒸着が可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】筒状セル112、及び筒状セルの蓋として機能し、且つ貫通口が設けられ且つ筒状セルの外側に突出する突起部を有する第1の蓋体114で構成される坩堝111と、坩堝の外周部に設けられた発熱部104と、発熱部と接するように配設され、第1の蓋体を覆うと共に、第1の蓋体の突出部の少なくとも一部を貫通させる貫通口を有する第2の蓋体106と、を有する蒸発源である。 (もっと読む)


【課題】透過照明方式により性能に優れ、かつ、マスクの有効活用が可能となるマスクアラインメント光学システムを提供する。
【解決手段】蒸着材料を基板上に蒸着する真空蒸着チャンバ1中において、基板6とメタルマスク102とのアライメントを行うマスクアラインメント光学システムでは、メタルマスクの周囲に形成されて四隅にL字状の導光路が形成された固定フレーム101と、基板を表面に搭載すると共に、その四隅にL字状の導光路が形成されたステージ201を備えており、固定フレームの一部に形成された導光路103、及び、ステージの一部に形成された導光路内に導かれた光によるアラインメントマークの透過像によって、メタルマスクとのアライメントを行うマスクアライメント光学システム。 (もっと読む)


【課題】高精細な複数種の薄膜パターンの形成を効率よく行い得るようにする。
【解決手段】フィルム2に有機EL層17R,17G,17Bと同形状の開口パターン4を設けたマスク1をフィルム2がTFT基板19側となるようにして該TFT基板19上に位置決めし載置し、TFT基板19のR対応アノード電極21R上にマスク1の開口パターン4を介して成膜し、R有機EL層17Rを形成した後、マスク1を複数種の有機EL層17R〜17Bの配列ピッチと同寸法だけアノード電極21R,21G,21Bの並び方向に移動し、TFT基板19のG対応アノード電極21G上にマスク1の開口パターン4を介して成膜し、G有機EL層17Gを形成する。 (もっと読む)


【課題】メタルマスクを直接冷却することが可能なメタルマスク冷却機構と、そして、当該機構を備えた有機EL成膜装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着チャンバ中で、基板とメタルマスク83とのアライメントを行って蒸着材料を当該基板に蒸着する有機EL成膜装置におけるメタルマスクの冷却機構は、メタルマスクを間に挟み込んで、外形「ロ」の字状に形成され、一方の表面上に前記マスクを取り付ける固定フレーム82の外枠に沿って設けられる、複数の固定板84を備えており、固定板は、各々、熱伝導性に優れた部材により細長い板状に形成されると共に、その内部には冷媒を流すための流体流路を形成すると共に、更に、固定板の各々には、前記固定板の流路に冷媒を供給するための配管と排出するための配管とを設けた。 (もっと読む)


【課題】アクチュエータを設けることなく、基板を確実に保持できる有機ELデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダー91と、基板搬送機から基板6を受取るための基板受けピン66と、基板ホルダー昇降機構68と、基板ホルダー91の端部に設けられ、基板クランプ61とクランプ支持金具62とクランプ付勢バネからなる基板保持機構と、基板6を基板クランプ61から解放するためのクランプ開閉ピン67とを備え、クランプ支持金具62は縦方向に回転し第1の腕62a
と第2の腕62cを有し、第1の腕62aの端には基板クランプ61の一端が固定され、第2の腕62cの端には縦方向に回転する回転部が設けられ、基板クランプ61が基板6を基板ホルダー91に押圧するよう、有機ELデバイス製造装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板2上に一定形状の薄膜パターン4を成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、箔状の磁性部材5に薄膜パターン形成領域9に対応して該薄膜パターン4と同形状の貫通する開口パターン6を形成し、磁性部材5が磁力により第1の磁気チャック3の平坦な吸着面3aに吸着されて保持されたマスク1の開口パターン6を、第2の磁気チャック8上に載置された基板2の薄膜パターン形成領域9に位置合わせするステップと、第2の磁気チャック8の磁力により磁性部材5を吸着してマスク1を第1の磁気チャック3から基板2上に移すステップと、マスク1の開口パターン6を介して基板2上の薄膜パターン形成領域9に成膜し、薄膜パターン4を形成するステップと、を行うものである。 (もっと読む)


【課題】基板とマスクとの隙間を高精度に制御することのできる有機ELデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】真空処理室内に設けられたシャドウマスクと、基板を載置する基板ホルダーと、基板とシャドウマスクとの間を、接近させ又は離間させる基板密着手段と、基板ホルダーの四隅に設けられた距離計測機構とを備え、距離計測機構は、基板ホルダーを貫通するように設けられた距離計測用空間と、基板ホルダーの表面上に設けられた透明ガラス板と、距離計測用空間に配置された距離計測部とを備え、距離計測部は、光を発射し反射光を受光して距離を計測する距離計と、距離計を真空処理室内の雰囲気から隔離する距離計筐体と、距離計筐体の一部に設けられた透明ガラス窓とを備え、距離計が、透明ガラス窓を介して透明ガラス板とシャドウマスクとの間の距離を計測するよう、有機ELデバイス製造装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板9上に一定形状の薄膜パターンを成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、可視光を透過し一面に磁性体膜1を被着したフィルム2に薄膜パターン形成領域11に対応して薄膜パターン12と同形状の貫通する開口パターン3を形成し、磁性体膜1側を第1の磁気チャック6の平坦面に吸着して保持されたマスク4の開口パターン3を、第2の磁気チャック10上に載置された基板9の薄膜パターン形成領域11に位置合わせするステップと、第2の磁気チャックにより磁性体膜1を吸着してマスク4を第1の磁気チャック6から基板9上に移すステップと、マスク4の開口パターン3を介して基板9上の薄膜パターン形成領域11に成膜し、薄膜パターン12を形成するステップと、を行うものである。 (もっと読む)


【課題】発光素子、光電変換素子等を含む各種光学素子の増強要素として有用なプラズモン材料を製造するための方法を提供する。
【解決手段】30個以上の金属系粒子が互いに離間して二次元的に配置されてなる金属系粒子集合体を製造する方法であって、100〜450℃の範囲内に温度調整された基板上に、1nm/分未満の平均高さ成長速度で金属系粒子を成長させる工程を含む金属系粒子集合体の製造方法である。該製造方法により、平均粒径が200〜1600nm、平均高さが55〜500nm、平均高さに対する平均粒径の比で定義されるアスペクト比が1〜8である金属系粒子からなる金属系粒子集合体を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】材料容器の中心付近に対して周縁付近を高く加熱することができ、しかも、材料容器に収納した蒸着材料の中心付近と周縁付近との温度差を容易に制御し得て、蒸着材料の気化量変化の応答性を高くすることができる蒸着材料加熱装置とすることができ、よって、基板に付着する被膜の膜厚の均一化に貢献することができる蒸着装置及び蒸着方法とし得て、均一な膜厚の被膜を有する基板を提供する。
【解決手段】本発明は、蒸着材料13を収納した材料容器14と、材料容器14の底面側に配置されて蒸着材料13を加熱する加熱部15と、加熱部15による蒸着材料13の加熱温度を材料容器14の中心から外周に向かう加熱領域に応じて制御する温度制御部と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】 大型の基板に小さなマスクで蒸着すると時間がかかる。
【解決手段】 基板上に行列をなして配置された複数の区画の各々に形成されるEL発光装置の製造方法であって、
列方向の全ての区画の蒸着パタンを開口として有するマスクを前記基板に対向して保持し、前記マスクを通して前記基板に蒸着物質を蒸着する工程を有し、
前記基板を前記区画の行方向に1列ずつ移動し、前記工程を繰り返すことを特徴とするEL発光装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】摩擦接触面に、形状や高さが均一でエッジ部分が丸みを帯びたセグメントで構成される無機質膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】成膜面にマスク形成用の金属層40を形成するステップと、金属層40にエッチングを施して、セグメントを区画する溝位置に金属層40の突起部を形成するステップと、突起部40を形成した成膜面が露出するように陰極を構成する基板ホルダ上に載置し、プラズマCVD法を用いて突起部40の間の成膜面に、突起部40に対向するエッジ部分が丸みを帯びたセグメント7から成る無機質膜を成膜するステップと、突起部40を除去するステップとを備える。セグメントのエッジ部分が丸みを帯びているため、予圧された接触部材と接触したときの接触圧力がセグメント全体で均一化し、エッジ部分の破損が生じない。 (もっと読む)


【課題】導電性が高くIII族窒化物結晶との接合強度が高いとともに光透過性が高い複合体を提供する。
【解決手段】本複合体100は、III族窒化物結晶110とIII族窒化物結晶110上に配置された酸化物膜120とを含み、酸化物膜120はドーパントの濃度が互いに異なる第1領域121と第2領域122とを含み、第2領域122は第1領域121に比べてドーパントの濃度が高い。 (もっと読む)


【課題】蒸着装置及び薄膜製造方法を提供する。
【解決手段】大型基板の場合にも、均一な薄膜を形成し、基板のサイズが変更される場合にも、装備の変更なしに容易に適用するためのものであって、直線動するように備えられた第1蒸着源と、第1蒸着源から離隔され、第1蒸着源と同時及び同一方向に直線動するように備えられた第2蒸着源と、第1蒸着源及び第2蒸着源と被蒸着体との間に位置し、第1蒸着源及び第2蒸着源と同時及び同一方向に直線動するように備えられた補正部材とを含み、補正部材は、第1蒸着源に対応する位置に備えられた第1補正板及び第2蒸着源に対応する位置に備えられた第2補正板を備える蒸着装置である。 (もっと読む)


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