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【課題】短時間で効率よく薄膜51を形成できる薄膜形成装置1を提供する。
【解決手段】VDFオリゴマー33が配置された蒸着源30と被蒸着基板10とを離間させた状態で前記蒸着源30を加熱し、前記被蒸着基板10と前記蒸着源30が離間する離間状態から、前記被蒸着基板10と前記蒸着源30のとの少なくとも一方を移動させて、前記被蒸着基板10の薄膜形成面11と前記蒸着源30のVDFオリゴマー供給面32が断熱マスク20を挟んで対向し近接する近接状態に変化させ、前記近接状態で前記VDFオリゴマー33の薄膜51を前記薄膜形成面11に蒸着する。 (もっと読む)


【課題】触媒気相成長法と物理気相成長法により連続してガスバリア層を積層形成することにより、基材フィルム表面にプライマー処理を施すことなくガスバリア性に優れたガスバリア積層フィルム、及び該フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】基材フィルムの少なくとも一方の面に、厚さ0.1〜500nmの無機及び/又は有機の薄膜層(A層)、及び厚さ0.1〜500nmの無機薄膜層(B層)を順次形成してなるガスバリア積層フィルムであって、上記A層が加熱触媒体を用いて材料ガスを接触熱分解する触媒化学気相成長法により形成され、かつB層が物理気相成長法により形成されたガスバリア積層フィルム。 (もっと読む)


【課題】Bi含有光学素子を成形する際に、光学特性を満足するものを作製することができる光学素子成形用金型を提供すること、および、この光学素子成形用金型で作製され光学特性を満足する光学素子を提供することを目的としている。
【解決手段】光学素子を成形するために用いられる光学素子成形用金型1において、金型母材2の成形部2a側の表面に、Bi及びBi酸化物のうちの少なくとも一方を主成分とする成形面層4が設けられるとともに、金型母材2と成形面層4との間に、金型母材2側から成形面層4側に向かって金属の単体から該金属の酸化物へと漸次変化する傾斜膜層3が設けられている。 (もっと読む)


【課題】高い発光強度を有する無機EL素子を提供する。
【解決手段】Baを含む合金からなるスパッタリングターゲットであり、不純物として含まれるSr、CaおよびMgの含有量がいずれも0.1質量%以下である。該スパッタリングターゲットを用いて、H2Sガス共存下でスパッタリング法により蛍光体膜が得られ、該蛍光体膜は無機EL素子の無機EL発光体発光層を形成するのに好適である。 (もっと読む)


【課題】製造後、TFT基板側と対向基板側とで水酸基の密度が異なってしまった場合におけるイオンの偏りにより発生する液晶装置におけるフリッカや焼き付き等の表示不良を確実に防止することができるとともに、液晶に対し所望のプレチルト角が得られる無機配向膜を形成することができる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】TFT基板10及び対向基板20に、画素電極9、対向電極21をそれぞれ形成するステップS1と、TFT基板10及び対向基板20を、還元性雰囲気下で加熱するステップS2と、還元性雰囲気下で加熱しながら、各電極9、21上に、無機配向膜16、26をそれぞれ形成するステップS3と、を具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】生産性に優れるとともに、優れた発光特性を備えた素子が得られる、III族窒化物半導体発光素子の製造方法、及びIII族窒化物半導体発光素子、並びにランプを提供する。
【解決手段】基板11上に、V族元素を含むガスと金属材料とをプラズマで活性化して反応させるスパッタ法により、III族窒化物化合物からなる中間層12を成膜し、該中間層12上に、III族窒化物半導体からなるn型半導体層14、発光層15、及びp型半導体層16を順次積層する方法であり、中間層12を成膜する際、基板11とスパッタターゲットとを対向して配置するとともに、前記プラズマに曝される位置に基板11を配してスパッタを行なう。 (もっと読む)


【課題】装置を大型化することなく、除電ユニットからの漏出荷電粒子に起因するフィルムの熱変形を防止することができる巻取式真空成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る巻取式真空成膜(蒸着)装置10は、冷却用キャンローラ14と除電ユニット23の間に、除電ユニット23からキャンローラ14へ向かう荷電粒子を捕捉する電荷捕捉体25を設けることで、除電ユニット25から漏出した荷電粒子がキャンローラ14へ到達することを阻止して、キャンローラ14に印加されたフィルム密着用のバイアス電位の変動を抑止し、フィルム12に対する静電力を安定に保持する。これにより、フィルム12とキャンローラ14の間の密着力が安定に保持されるので、フィルム12の熱変形が防止されることになる。 (もっと読む)


【課題】Al、Mg、またはZn、あるいはこれらの合金の溶湯を鋳造するに際し、優れた耐溶損特性および耐焼付特性を併有するダイカスト金型、および、上記各特性を確実に併有させるための表面処理方法を提供する。
【解決手段】溶融金属の鋳造に用いられるダイカスト金型1であって、係るダイカスト金型1における表面のうち、少なくともキャビティを含む表面2に被覆され、IVA、VA、VIA族の金属の一種または二種以上を含む炭化物、窒化物、または炭窒化物、あるいは、IVA、VA、VIA族の金属の一種または二種以上にSiまたはAlを含む窒化物からなる第1層4と、係る第1層を酸化処理して表層に形成されたIVA、VA、VIA族の金属、Si、および、Alの酸化層5の少なくとも一種以上を含む第2層6と、を備えている、ダイカスト金型1。 (もっと読む)


本発明の主題の一つは、基材の第1の側上に堆積された少なくとも1層の薄い連続的な膜の処理のための方法であって、薄膜を連続に保ちながら、そしてこの薄膜を溶融するステップ無しで該薄膜の結晶化度を高めるように、この少なくとも1つの薄膜が少なくとも300℃に昇温され、該第1の側とは反対側上の温度が150℃以下ように保ちたれることを特徴とする、方法。
発明の別の主題は、この方法によって得ることができる材料である。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録層の磁性粒子の配向性を改善し、かつ磁性粒子を微細化し、記録再生特性の良好な垂直磁気記録媒体を得る。
【解決手段】非磁性基板上に、軟磁性層、微細結晶構造を有し、PdまたはPd合金からなる第一の非磁性下地層、RuまたはRu合金からなる第二の非磁性下地層、及び垂直磁気記録層を積層する。また、前記第一の非磁性下地層が、第一の非磁性下地層が、Pd−Si層であることを特徴とする。前記第一の非磁性下地層は、ガス圧0.5Pa以下の雰囲気で蒸着される。 (もっと読む)


【課題】ターゲット交換を容易、且つ迅速に行えるスパッタ装置のターゲット固定構造を提供する。
【解決手段】固定部材30にターゲット5が固定される。固定部材30に対して着脱自在に設けられる保持部材35を有し、ターゲット5が、固定部材30と保持部材35との間で挟持して保持される。 (もっと読む)


【課題】プラズマを用いる成膜装置および成膜方法において、良質な膜を安定的に成膜できるようにする。
【解決手段】成膜ガスGの導入と排気が可能な真空容器310と、真空容器310内に配置される、ターゲットTを保持するターゲットホルダ12と、ターゲットホルダ12に対向して配置され、膜が形成される成膜用基板Bを保持する基板ホルダ11と、ターゲットホルダ12と成膜基板側との間にプラズマ空間Pを生成するプラズマ生成部12、13とを備えた成膜装置300において、ターゲットホルダ12の成膜基板側の外周を取囲み、成膜ガスGが通過する間隙204を有するシールド層250aを、上下方向に複数間隔をおいて重なるようにターゲットTと非接触状態で配置してなるシールド250を有する。 (もっと読む)


【課題】
本発明はプラズマベースイオン注入・成膜法を用いて、シール材、ドクターブレード、回転ローラー、粘着防止ロール、シート等に用いるフッ素系合成樹脂の表面を、印刷インク、塗料、液晶溶液、試薬、食品材料等となじみやすく・濡れやすくための親水化改質技術を提供するものである。
【解決手段】
プラズマベースイオン注入・成膜法を用いて、真空中で少なくとも一原子以上の酸素およびケイ素を含有するプラズマを発生させ、負の高エネルギー高周波パルス電圧を印加して、酸素およびケイ素イオン注入による傾斜構造と脱フッ素化後の極性基反応物を形成したフッ素系合成樹脂物品及びその親水化改質方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】蒸着膜の液晶配向性を制御し、液晶配向欠陥の低減化を図り、配向性を向上させ、光路偏向素子、液晶光変調素子、空間光変調素子として利用した場合の、各種画像表示装置におけるコントラスト比を向上させる。
【解決手段】無機材料を主成分とし、斜方蒸着法により作製された蒸着膜であって、柱状構造体3を具備しており、柱状構造体2は多孔性を有しているものとし、この蒸着膜を光路偏向素子として利用した液晶光変調素子、投射型画像表示装置、空間光変調素子、投射型画像表示装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】390nm〜500nmの青色レーザー光を入射させる液晶素子において、水平配向膜として機能し、液晶分子の適切なプレチルト角が得られ、かつ簡易的な構成で形成される斜方蒸着膜を有する液晶素子を提供する。
【解決手段】液晶層を挟持する複数の透明基板を備え、おのおのの透明基板面の液晶層に接する側には、無機物材料が1層で斜方蒸着された水平配向膜が備わっており、前記水平配向膜の厚さが、5〜8nmであることを特徴とする液晶素子。 (もっと読む)


【課題】電池用極板に用いる高容量活物質の成膜時等に見られる、基板冷却の不足を解決する、熱伝導を実現するための成膜装置を提供すると共に、これを用いた成膜方法を提供すること。電池用途に限らず、広く真空成膜装置一般における熱負荷課題の解決を図る。
【解決手段】基板と接する側から順に少なくとも硬質樹脂層25、軟質樹脂層24、金属部23を有する、冷媒または熱媒の循環機構によって温度制御された、巡回支持体6に沿って基板が走行中に、成膜源9から飛来する粒子によって基板上に真空中で成膜を行う。 (もっと読む)


【課題】縁摺り加工時の軸ずれを防止するとともに、玉型形状の眼鏡用レンズに真空蒸着法によって多層反射防止膜層と撥水膜層を形成するとき、蒸着物質が眼鏡用レンズの上方に回り込んでも蒸着すべき光学面以外の面に付着しないようにする。
【解決手段】ハードコート膜層が形成された円形の眼鏡用レンズを眼鏡枠形状と略一致する玉型形状に縁摺り加工する工程と、縁摺り加工された眼鏡用レンズ1Aの蒸着すべき光学面5aとは反対側の光学面5b全体を樹脂製フィルム64によって覆う工程と、眼鏡用レンズ1Aをレンズ保持手段60によって保持する工程と、レンズ保持手段60によって保持された眼鏡用レンズ1Aを真空蒸着装置内に装着する工程と、真空蒸着装置内に装着した反射防止材を加熱蒸発させ、眼鏡用レンズ1Aの光学面5aに蒸着する工程と、撥水材を加熱蒸発させ、反射防止膜層の上に撥水膜層を蒸着する工程とを備えている。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア性、耐熱性、引裂き性に優れるガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルム10、炭素含有酸化珪素の蒸着膜20、ガスバリア性塗布膜30、ポリウレタン系樹脂組成物によるコーティング薄膜40とを有するガスバリア性積層フィルムであり、前記炭素含有酸化珪素の蒸着膜20は、化学気相成長法により有機珪素化合物を蒸着用モノマーとして供給して基材フィルムの一方の面に炭素含有酸化珪素の蒸着膜であり、前記ガスバリア性塗布膜30は、金属アルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有し、更に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜である。該ガスバリア性積層フィルムは、耐レトルト・ボイル性に優れる。 (もっと読む)


【課題】平面受光素子面間での鮮鋭性の劣化が少ないシンチレータパネルの製造方法、該製造方法で製造されたシンチレータパネル、及び該シンチレータパネルを製造するための真空蒸着装置。
【解決手段】高分子フィルム基板に導電性金属反射層、保護層を順次形成した後に所定のサイズに断裁することで作製された基板1を蒸着装置61の基板ホルダ64に該基板の保護層側が蒸着面になるようにセットし、蒸着によりシンチレータ層を形成することで作製されたシンチレータシートを該シンチレータシートの上下に配置された保護フィルムにより封止することからなるシンチレータパネルの製造方法において、該蒸着時に基板1の導電性金属反射層の断裁面は金属枠70により接地(アース)され、該断裁面を介して基板から静電気が除去されることを特徴とする。 (もっと読む)


サーモグラフィック材料を有する第1層(13)が載置された基板(4)を含有してなる層組織(1)が提供される。このサーモグラフィック材料は、少なくとも1つの希土類元素でドープしたパイロクロア相である。
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