【課題】高い光電変換効率の太陽電池、光センサーや撮像素子等の光電変換装置を提供すること。
【解決手段】高周波成分をカットした直流電力印加の下でのＣｕ（Ｃｕ-Ｇａ）ターゲットへのＤＣ印加と導電性基板への高周波印加とによりＣｕ（Ｃｕ-Ｇａ）膜を成膜し、該Ｃｕ（Ｃｕ-Ｇａ）膜上に、高周波成分をカットした直流電力印加の下でのＩｎターゲットへのＤＣ印加と導電性基板への高周波印加とによりＩｎ膜をＣｕ（Ｃｕ-Ｇａ）膜上に積層成膜する工程を有する光電変換装置の製法。 （もっと読む）

【課題】真空成膜法によりコーティング膜上に無機膜を形成するときに、無機膜の割れ／抜け等の欠陥が発生するのを抑制でき、さらに生産性の高い機能性フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】コーティング膜１２を塗布・乾燥し硬膜した後に、コーティング膜層表面にラミネートフィルム８２を挟みながら巻き取りフィルムロール４２とし、このフィルムロール４２を真空成膜装置２２にセットして、無機膜の製膜前にラミネートフィルム８２を剥離する。ここで、ラミネートフィルム８２には、コーティング膜に対して０．０１Ｎ／２５ｍｍ以上０．０６Ｎ／２５ｍｍ以下の剥離力である粘着層を有する粘着フィルムを用いる。 （もっと読む）

【課題】 特に水蒸気透過量を従来技術のものと比較して少なくでき、電子デバイスのバリア層として最適なガスバリア層構造体を提供する。
【解決手段】 電子デバイス構造にてガスバリア性能を発揮する本発明のガスバリア層構造体６は、不動態化金属の層６１と、この不動態化金属の酸化物層６２とを順次積層して構成される。不動態化金属は、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｒ及びＴａの中から選択されたもの、または、これらの二種以上の合金である。 （もっと読む）

【課題】比抵抗が非常に低く、耐湿熱性試験後の比抵抗の変化率が極めて小さくて耐湿熱性に優れた酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲット及びこれを用いて製造した透明導電性酸化亜鉛系薄膜を提供する。
【解決手段】酸化亜鉛にガリウムおよびインジウムを含有させた焼結体からなる透明導電性酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲット及びこれを用いて製造した透明導電性酸化亜鉛系薄膜であって、ガリウム元素とインジウム元素の質量比率（Ｉｎ／Ｇａ）は０．０１以上０．６以下、且つ、ウルツ鉱型単一相の結晶構造を有するものであり、透明導電性薄膜は、耐湿熱性を損なう原因となる格子間亜鉛及び亜鉛欠損を減少させ、可視光に対する吸収係数αを小さくし、吸収係数が極小となる波長領域を視感度に有効な５００〜６００ｎｍにシフトさせたものである。 （もっと読む）

【課題】高い反射率を有すると共に、自動車用灯具などのように加熱と冷却を繰返し受ける環境下に曝して結露が生じても反射率が低下し難い、耐温水性に優れたＡｌ合金反射膜を提供する。
【解決手段】本発明のＡｌ合金反射膜は、Ｇｄ，Ｌａ，Ｙ，Ｓｃ，Ｔｂ，Ｌｕ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｃｅ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，及びＴｍよりなる群から選択される少なくとも１種の元素を合計で２．５〜６原子％と、Ｃｒ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｓｉ，Ｍｏ，Ｖ，Ｆｅ，及びＢｅよりなる群から選択される少なくとも１種の元素を合計で１５原子％以下（０％は含まない）とを含有し、残部がＡｌ及び不可避不純物であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】溶接ラインや溶接作業を止めることなく、長時間連続して溶接することができる耐スパッタ特性に優れたガスシールドアーク溶接トーチのシールドノズルを提供する。
【解決手段】ソリッドワイヤーが挿通され、ソリッドワイヤーに電流を供給するコンタクトチップを包容するように配設された筒状のガスシールドアーク溶接トーチのシールドノズル５であって、シールドノズル母材５ａ表面に、密着性セラミック被膜の母材表上被膜層５ｂを形成し、母材表上被膜層５ｂの上層に、硬質セラミック被膜の表面被膜層５ｄを形成する。なお、母材表上被膜層５ｂと表面被膜層５ｄの間に、密着性セラミックと硬質セラミックの混合物からなる中間被膜層５ｃを形成することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 潤滑寿命の長い転動部材、転動部材を用いた真空用機器および転動部材の製造方法を提供する。
【解決手段】 鉄基合金製の転動要素１０の転動面上に形成された二硫化モリブデンまたは二硫化タングステンの少なくともいずれか一方で形成された鉄を含む潤滑被膜１００を有する鉄基合金製の転動部材１において、鉄の原子濃度をモリブデンまたはタングステンの原子濃度に対して０．０２より大きく，０．１２以下とする。 （もっと読む）

【課題】耐溶着性、耐摩耗性、および耐熱性の何れについても優れた性能が得られる硬質被膜を提供する。
【解決手段】ボールエンドミル１０の刃部１４の表面にコーティングされた硬質被膜２０は、（Ａｌ_a Ｃｒ_(1-a-b) Ｙ_b ) Ｃ_c Ｎ_(1-c) 〔但し、ａ、ｂ、ｃはそれぞれ原子比で、０．４≦ａ≦０．８、０．０１≦ｂ≦０．０５、０≦ｃ≦０．５の範囲内〕から成るＩ層２０ａと、ＣｒＣ_d Ｎ_(1-d) 〔但し、ｄは原子比で、０≦ｄ≦０．５の範囲内〕から成るII層２０ｂとが、１ｎｍ以上の積層周期Ｔp で交互に１周期以上積層され、総膜厚Ｔtotal が０．１μｍ〜１０μｍの範囲内とされている。ＡｌＣｒＮ系のＩ層２０ａは高硬度で優れた耐摩耗性が得られ、ＣｒＮ系のII層２０ｂは低摩擦係数で優れた耐溶着性が得られる一方、Ｉ層２０ａにＹ（イットリウム）が所定の原子比で添加されることにより、高温での耐酸化性が向上して優れた耐熱性が得られるようになる。 （もっと読む）

【課題】 バリア膜形成による配線の抵抗値増大及びボイドの発生を防ぐことができる半導体装置、その製造方法及びその製造方法に用いるスパッタリングターゲットを提供すること。
【解決手段】 Ｓｉ酸化物を含む絶縁膜１にＣｕの配線が設けられている半導体装置であって、絶縁膜１に設けられた溝状の開口部１ａの内面に形成されたバリア膜４と、開口部１ａ内であってバリア膜４上に形成されたＣｕからなる配線本体２と、を備え、バリア膜４が、バリア膜４が、少なくとも絶縁膜１上に形成されたＢａ酸化物及びＳｒ酸化物の少なくとも一方を含有するＣｕ合金下地層を有し、該Ｃｕ合金下地層と絶縁膜１との界面にＢａＳｉ酸化物及びＳｒＳｉ酸化物の少なくとも一方が偏析している。 （もっと読む）

【課題】中間層を設けることなく、安価な製造コストで、プラスチックフィルム基材に該無機物層を高い密着力で形成し、高い耐久性を備えた積層プラスチックフィルムを提供する。
【解決手段】無機物層と、表面に該無機物層がドライプロセスによって形成される前に、マイクロ波放電によるプラズマによって該表面が処理されるプラスチックフィルム基材とを含む積層プラスチックフィルムであって、前記プラスチックフィルム基材の表面が、前記プラズマによって１２〜５６３ｎｍのエッチング量でエッチングされている。 （もっと読む）

【課題】複雑なプロセスを要することなく、耐電圧に優れ駆動耐久性に優れた圧電膜等の柱状構造膜を提供する。
【解決手段】柱状構造膜は、基板上に成膜され、基板の基板面に対して非平行方向に延びる多数の柱状体からなる柱状構造膜であり、気相成長法により成膜されたものであり、膜厚方向に見たときの水平方向の平均柱径の最大値をＧＳ_ｍａｘとし、最小値をＧＳ_ｍｉｎとしたとき、ＧＳ_ｍａｘ＞２．０ＧＳ_ｍｉｎを充足する。ＧＳｍａｘ／ＧＳｍｉｎの値が大きい膜構造では、膜厚方向のグレインバウンダリが膜の下面から上面まで貫通する確率が低くなり、リークパスが減少するため、耐電圧が向上し、駆動耐久性が向上する。 （もっと読む）

【課題】高い触媒活性を与えるとともに、触媒成分の使用量を低減させることができる、燃料電池用電極触媒のための薄膜触媒を提供する。
【解決手段】柱状結晶から構成された下地層の上にＰｔ薄膜が形成された、Ｐｔ薄膜電極触媒である。 （もっと読む）

【課題】ＰＺＴ薄膜に代替可能な圧電特性を持つＫＮＮ圧電薄膜素子を提供する。
【解決手段】シリコン基板上に下部電極、一般式（Ｋ_1-xＮａ_x）ＮｂＯ₃（０＜ｘ＜１）で表されるアルカリニオブ酸化物系ペロブスカイト構造の圧電薄膜、上部電極を配した構造を有する圧電薄膜素子であって、圧電薄膜素子のＸ線回折２θ／θパターンにおけるＫＮＮ（００２）回折ピークにおいて、回折ピークの低角度側裾野の強度よりも高角度側裾野の強度が強い。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルに用いた際のペン摺動耐久性に優れると供に、平面性に優れたタッチパネルを製造することが出来る透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材上の少なくとも一方の面に酸化インジウムを主成分とした透明導電膜が積層された透明導電性フィルムであって、透明導電性フィルムの少なくとも一方向の１２０℃６０分における収縮率が０．２０〜０．７０％であり、１２０℃６０分熱処理後の透明導電膜の酸化インジウムの平均結晶粒径が３０〜１０００ｎｍで、かつ、透明導電膜の結晶質部に対する非晶質部の比が０．００〜０．５０であり、ことを特徴とする透明導電性フィルムでタッチパネルを作製し、熱処理で平面性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】非鉛系の圧電性薄膜を用いて、高性能かつ高信頼の圧電性薄膜デバイスを提供する。
【解決手段】基板１と、接着層２と、下部電極３と、配向制御層である下地層６と、スパッタリング法によって成膜された（Ｎａ_xＫ_yＬｉ_z）ＮｂＯ₃（０≦ｘ≦１，０≦ｙ≦１，０≦ｚ≦０．２、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）で表されるペロブスカイト型酸化物を主相とする圧電性薄膜４と上部電極５を有し、圧電性薄膜４の内部応力の絶対値が１．６ＧＰａ以下である。 （もっと読む）

【課題】材料の蒸発速度とプラズマ密度を自由に設定し、成膜速度に対するガスバリア性を自由に設定出来、酸素バリア性および水蒸気バリア性に優れたガスバリア性積層体を生産する成膜装置を提供する
【解決手段】フィルム基材をロール・ツー・ロールで搬送する搬送手段と、フィルム基材へ蒸着材料を蒸着させる蒸着手段とを具備する成膜装置であって、蒸着手段が、蒸着材料を蒸発させる手段と、蒸発した蒸着材料をプラズマにより活性化させる手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】スカンジウムを含有する窒化アルミニウム薄膜を備えた圧電体薄膜において、スカンジウムの含有率が３５〜４０原子％の範囲であっても、スカンジウムを含有させない場合と比較して圧電応答性が低下しない圧電体薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るスカンジウムを含有する窒化アルミニウム薄膜を備えた圧電体薄膜の製造方法は、少なくとも窒素ガスを含む雰囲気下において、アルミニウムとスカンジウムとでスパッタリングするスパッタリング工程を含む。本発明に係る製造方法におけるスパッタリング工程では、基板温度を５〜４５０℃の範囲で、スカンジウムの含有率が０．５〜５０原子％の範囲となるようにスパッタリングする。 （もっと読む）

【課題】高速度加工、高送り加工、難削材の加工など加工条件が厳しい切削加工において、長寿命を実現する被覆工具の提供を目的とする。
【解決手段】
基材とその表面に被覆された被膜とからなり、Ｃｒ−Ｋα線を用いたＸ線応力測定により得られた基材の圧縮残留応力σ_bCrは、Ｃｏ−Ｋα線を用いたＸ線応力測定により得られた基材の圧縮残留応力σ_bCoよりも大きい被覆工具。 （もっと読む）

【課題】小径低速切削あるいは高速重切削等で、硬質被覆層の耐欠損性、耐剥離性に優れるヘテロエピタキシャル界面を有する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ超硬基体表面に、柱状晶組織のＴｉＮ層を物理蒸着で被覆形成した表面被覆切削工具であって、ＷＣ超硬基体表面とＴｉＮ層との界面において、[０００１]_ＷＣと[１１０]_ＴｉＮが平行、かつ、[１０−１０] _ＷＣと[００１] _ＴｉＮが平行である界面の長さをＸ_Ａ、また、[０００１]_ＷＣと[１１１]_ＴｉＮが平行、かつ、[１１−２０] _ＷＣと[１１０] _ＴｉＮが平行である界面の長さをＸ_Ｃとした場合に、１＞（Ｘ_Ａ＋Ｘ_Ｃ）／Ｘ≧０．３、（但し、Ｘは界面の全長）を満足するヘテロエピタキシャル界面を有する表面被覆切削工具。 （もっと読む）

【課題】簡便かつ低コストで製造でき、透明性、屈曲性に優れる、抗菌性のガスバリア性フィルム、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】抗菌性材料及びケイ素系化合物を含有する層中に、イオンが注入されて得られる層を有するガスバリア性フィルムにおいて、前記抗菌材料が、無機抗菌剤であり、銀又は銀イオンを含有するものであり、前記抗菌材料及び前記ケイ素化合物を含有する層中の銀の含有量が、重量ベースで１〜１００ＰＰＭであるガスバリアフィルム及びその製造方法。 （もっと読む）