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【課題】Auを含む表面層をTi基材上に強固かつ均一に形成させることができ、燃料電池用セパレータに要求される耐食性、導電性及び耐久性も確保できる燃料電池用セパレータ材料を提供する。
【解決手段】Ti基材2の表面に、Al、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Mo、Sn及びBiからなる群より選択される少なくとも1種類以上の金属からなる第1成分とAuとを含む表面層6が形成され、表面層における第1成分の含有量が、第1成分の比重(g/cm3)×0.001〜第1成分の比重(g/cm3)×0.01(μg/mm)であり、かつAuの含有量が0.070(μg/mm)以上であり、表面層のどの深さにおいても、金属状態の第1成分の含有量が25質量%以下である燃料電池用セパレータ材料である。 (もっと読む)


【課題】
本発明は高精彩に成膜できるまたは生産性あるいは稼働率の高い有機ELデバイス製造装置または有機ELデバイス製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、真空蒸着チャンバの壁に設けられた真空隔離手段から前記マスクを搬出し、前記真空隔離手段を共有するマスク洗浄チャンバで前記基板に付着した前記蒸着材料の堆積物にレーザ光を照射し前記マスクをドライ洗浄し、洗浄後前記マスクを真空隔離手段を介して前記真空蒸着チャンバに戻し、前記蒸着を行なうことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】支持基板上に形成した昇華温度が異なる2種以上の成膜材料を含む材料層を、加熱処理により被成膜基板上に成膜する方法において、昇華温度の異なる2種以上の成膜材料が濃度勾配を生じることなく成膜されることを課題の一つとする。
【解決手段】基板の一方の面上に形成される吸収層と、吸収層上に形成され、第1の成膜材料、第2の成膜材料及び下記数式(1)を満たす高分子化合物を含む材料層とを有する第1の基板の一方の面と、第2の基板の被成膜面とを対向させて配置し、第1の基板の他方の面側から加熱処理をすることで、第2の基板の被成膜面に第1の成膜材料と第2の成膜材料とを含む層を形成する成膜方法。


(式(1)中、Sは、高分子化合物のガラス転移温度(℃)を示し、Tは、第1の成膜材料又は第2の成膜材料の昇華温度(℃)のうち高い温度(℃)を示す) (もっと読む)


【課題】ダイシングによりコーティング層が剥離することを防止できる光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基材11上にコーティング層16が形成された光学素子の製造方法において、親基材1の裏面にダイシングシート2を貼着し、前記親基材1の表面側をダイシングして複数の前記基材11に分割するダイシング工程と、前記ダイシング工程を行なった後、前記ダイシングシート2に貼着された複数の前記基材11の表面に前記コーティング層15を成膜する成膜工程と、前記コーティング層15が成膜された複数の前記基材11を、前記ダイシングシート2から剥離するピックアップ工程とを備えること構成とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、プラスチックフィルムなどの基材に対して透明性が高く、優れた密着性と耐久性を持ち、且低温成膜でき、カールが低いITO導電膜を作製とすることを目的とする。
【解決手段】透明基板の両面に透明硬質な有機物質層による膜厚が異なる第1のハードコート層と第2のハードコート層が設けられる。低温下で、その薄い第1のハードコート層の表面に、金属酸化物層と酸化珪素層を順次に成膜する。その上で酸化インジウム・スズ(ITO)はマグネトロンスパッタリング法にて高電力密度で成膜した。得られた透明導電薄膜は透明性高く、優れた密着性と耐久性を持ち、且低温成膜されたものである。さらに、得られた透明導電薄膜はカールが低い特徴を持っている。 (もっと読む)


【課題】記録特性の優れた光情報記録媒体用記録層、その記録層を備えた光情報記録媒体、および上記記録層の形成に有用なスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】レーザー光の照射により記録が行われる記録層であって、酸素1molに対する酸化物の標準生成自由エネルギーの絶対値がPdおよびAgよりも大きい金属(以下、X金属という)の酸化物、酸化Pdおよび酸化Agを含み、記録層に含まれるX金属原子、Pd原子およびAg原子の合計量に対し、Pd原子の比率が10〜60原子%、Ag原子の比率が5〜45原子%、かつPd原子とAg原子の合計量が75原子%以下であることを特徴とする光情報記録媒体用記録層。 (もっと読む)


【課題】2以上の物質の組成比率を高精度に調整して、CIGS膜などの薄膜を形成する。
【解決手段】多源蒸着薄膜の組成制御方法では、チャンバ11内に第1物質(Se)を供給して加熱した状態において、同じ成膜工程においてチャンバ11内へ供給される2以上の物質(Ga,In)の組成比率を、チャンバ11内に配設された振動子25の付着物による発振周波数の変化に基づいて検出することにより制御し、異なる成膜工程において多段的にチャンバ11内へ供給される2以上の物質(Ga,InとCuと)の組成比率を、チャンバ11内に配設された計測板33の付着物の膜厚を光の薄膜干渉により検出することにより制御する。 (もっと読む)


【課題】小型で、消費電力が低く、寿命が長く、しかも簡易な構造で大面積の殺菌が可能な用光源を提供でき、一般家庭や医療分野において好適に使用することができるだけでなく、小型で高出力の携帯用殺菌用光源として飛躍的に応用分野が広がることが期待できる。
【解決手段】石英、石英ガラス、フッ化ガラス、フッ化カルシウムなどの透明基板と該透明基板上に形成された、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、又はプラセオジウム(Pr)をドープしたCaFなどの金属フッ化物薄膜層とからなる発光基板、並びに熱電子銃やフィールドエミッター等の電子線源を備え、該発光基板の金属フッ化物層に電子線を照射することにより、殺菌光として有用な200乃至320nmの波長の深紫外光を含む光を発生させることを特徴とする殺菌用光源。 (もっと読む)


【課題】CIGSなどの多元素膜を真空蒸着する際に多元素膜の組成を一定に制御する。
【解決手段】光透過性の第1の窓10aと第2の窓10bを有する成膜チャンバー10内における多元素膜の成膜対象の基板14と多元素膜形成用の複数個の蒸着源(13a〜13d)の間の空間に、第1の窓から所定の波長域の連続光を入射する光源16と、第2の窓から開口部と基板の間の空間を通過した連続光を受光して2次元的に分光して、2次元画像信号を得る分光部17と、2次元画像信号を画像処理して原子吸光スペクトルを得て多元素膜を構成する各元素の原子のレートをモニターする信号処理部18を有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】溶接ラインや溶接作業を止めることなく、長時間連続して溶接することができる耐スパッタ特性に優れたガスシールドアーク溶接トーチのシールドノズルを提供する。
【解決手段】ソリッドワイヤーが挿通され、ソリッドワイヤーに電流を供給するコンタクトチップを包容するように配設された筒状のガスシールドアーク溶接トーチのシールドノズル5であって、シールドノズル母材5a表面に、密着性セラミック被膜の母材表上被膜層5bを形成し、母材表上被膜層5bの上層に、硬質セラミック被膜の表面被膜層5dを形成する。なお、母材表上被膜層5bと表面被膜層5dの間に、密着性セラミックと硬質セラミックの混合物からなる中間被膜層5cを形成することが好ましい。 (もっと読む)


比較的短い遅延時間での堆積を可能にするために、異なる伝導率を有する多数の流路を使用しうる高−スループットOVJPシステムおよび方法が提供される。高−スループットOVJPシステムが、堆積の間にソース材料が排出されうる1つまたはそれ以上の開口の直径よりも極めて大きな断面積を有する流管を含みうる。このような構造の使用により、低減された遅延時間での堆積が可能になりうる。
(もっと読む)


【課題】有機層および無機層を有する積層型のガスバリアフィルムにおいて、ガスバリア性のみならず、生産性にも優れるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】基板Zの表面に大気中で成膜された第1有機層12を有し、その上に、真空中で成膜された第2有機層14を有し、その上に、真空中で成膜された無機層16を有する。 (もっと読む)


【課題】薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程にさらに適し、高精細のパターニングを可能にするためのものであり、被蒸着用基板を静電チャックに固定させるローディング部;真空に維持されるチャンバと、チャンバの内部に配され、基板と所定程度離隔されて静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリを含む蒸着部;静電チャックから、蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部;基板が固定された静電チャックを、ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第1循環部;アンローディング部から、基板と分離された静電チャックを、ローディング部に送り戻す第2循環部;を含み、第1循環部は、蒸着部を通過するとき、チャンバ内部に貫通するように備わった薄膜蒸着装置、及びこれによって製造された有機発光表示装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】高い透過率を有すると共に、その透明導電性薄膜のパターンが視認できないようになっている透明導電性積層体の提供を目的とし、且つ、前記透明導電性積層体を形成する過程における透明導電性積層体の色度均一性改善法の提供をも目的とする。
【解決手段】基材1の一面上に、前記基材1の側から第1の薄膜2、第2の薄膜3及び透明導電性薄膜4が順に形成されている透明導電性積層体において、前記第2の薄膜3は、前記第1の薄膜1より低い屈折率を有し、前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜4が形成されていない部分の色度(b1)と、前記透明導電性薄膜4が形成されている部分の色度(b2)と、該二つの色度の間の色度差(Δb)とは、下記式(1)〜式(3):
式(1) b1 < 1.15
式(2) b2 < 1.15
式(3) Δb=|b1−b2| < 0.35
を満たすようにして、透明導電性積層体を形成する。 (もっと読む)


【課題】複雑なプロセスを要することなく、耐電圧に優れ駆動耐久性に優れた圧電膜等の柱状構造膜を提供する。
【解決手段】柱状構造膜は、基板上に成膜され、基板の基板面に対して非平行方向に延びる多数の柱状体からなる柱状構造膜であり、気相成長法により成膜されたものであり、膜厚方向に見たときの水平方向の平均柱径の最大値をGSmaxとし、最小値をGSminとしたとき、GSmax>2.0GSminを充足する。GSmax/GSminの値が大きい膜構造では、膜厚方向のグレインバウンダリが膜の下面から上面まで貫通する確率が低くなり、リークパスが減少するため、耐電圧が向上し、駆動耐久性が向上する。 (もっと読む)


【課題】焼却処理時の環境負荷が小さく、フィルムの薄膜化や軽量化が可能であるとともに、美しい光沢が得られ、しかも製造時の加工工程が少なく、製造コストを削減することが可能であるガスバリア性フィルムの製造方法及びガスバリア性フィルムを提供すること。
【解決手段】表面フィルム上に印刷層を形成する工程と、該印刷層上に金属からなる蒸着層を形成する工程と、該蒸着層上に接着剤層を形成する工程と、該接着剤層上に裏面フィルムを接着する工程とからなり、前記印刷層を形成する工程と、前記蒸着層を形成する工程と、前記接着剤層を形成する工程を連続的な一連の処理工程で行う。 (もっと読む)


【課題】PZT薄膜に代替可能な圧電特性を持つKNN圧電薄膜素子を提供する。
【解決手段】シリコン基板上に下部電極、一般式(K1-xNax)NbO3(0<x<1)で表されるアルカリニオブ酸化物系ペロブスカイト構造の圧電薄膜、上部電極を配した構造を有する圧電薄膜素子であって、圧電薄膜素子のX線回折2θ/θパターンにおけるKNN(002)回折ピークにおいて、回折ピークの低角度側裾野の強度よりも高角度側裾野の強度が強い。 (もっと読む)


【課題】ホウ化ランタンにより高密度のターゲットを製造する。
【解決手段】ホウ化ランタン粉と、不活性ガス中の熱重量分析によって、500℃に到達した時点における重量減少率が95重量%未満であるバインダと、有機溶媒とを混合して、ホウ化ランタン濃度が30〜75重量%のスラリーを調整し、このスラリーを噴霧乾燥した後、その乾燥粉を45〜250μmに分級することにより混合造粒粉とし、その混合造粒粉を真空中でホットプレスすることにより焼結体を得る。 (もっと読む)


【課題】圧電性能に優れたペロブスカイト型酸化物を提供する。
【解決手段】
本発明のペロブスカイト型酸化物は、下記の第1成分、第2成分、及び第3成分を含むことを特徴とするものである。
第1成分:BiFeO、第2成分:Aサイトの平均イオン価数が2価であり、かつ結晶系が正方晶系である少なくとも1種のペロブスカイト型酸化物、第3成分:結晶系が、単斜晶系、三斜晶系、及び斜方晶系のうちいずれかである少なくとも1種のペロブスカイト型酸化物(ここで、各成分のペロブスカイト型酸化物においては、Aサイト元素とBサイト元素と酸素のモル比は1:1:3が標準であるが、これらのモル比はペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準モル比からずれてもよい。)。 (もっと読む)


【課題】スパッタリング装置に使用されるシールドが原因となる、異常放電や付着膜の剥がれを低減させたスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】排気可能なスパッタリング室と、該スパッタリング室内に設けられた、ターゲット搭載用のそれぞれ回転可能な複数の支持体と、それぞれの該支持体の複数の面に、互いに離間するように設けられた、複数のカソードと、前記スパッタリング室内で位置決めされた基板の被成膜面の位置に応じて、前記複数の支持体毎に回転させることにより、前記カソードのターゲット搭載面に搭載された前記ターゲットの位置決めをして前記基板に成膜を行うスパッタリング装置のシールドが、前記支持体の前記ターゲットをプラズマクリーニングするために、該ターゲットの表面と平行関係にある構成を有している。 (もっと読む)


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